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    • 51. 发明专利
    • 一種充填具腐蝕性氣體之分配管線之方法和裝置
    • 一种充填具腐蚀性气体之分配管线之方法和设备
    • TW440666B
    • 2001-06-16
    • TW089109748
    • 2000-05-20
    • 液態空氣 喬治斯 克勞帝方法研究開發股份有限公司
    • 金-馬克 裘瑞德詹姆士 麥克安卓艾瑞克 杜洽提歐貝翠德 里佛爾
    • F17D
    • F17D1/04F17D3/14Y02E60/34Y10T137/0419Y10T137/4259Y10T137/87249
    • 本發明之課題為一種用於充填腐蝕性氣體於分配管線中之方法和裝置。該方法為一種以鈍化作用、充填氣體於用於分配腐蝕性氣體之管線(20)之方法,其中該管線係用於分配腐蝕性氣體到位於該管線(20)之立即下游處之系統(3)上;該方法包括:
      一先調節該管線(20);
      一用習知為活性氣體之該腐蝕性氣體來真實充填該管線(20);
      其特徵是在於用氣體之該真實充填包括:
      一至少一充填活性氣體於位在系統(3)立即下游處之該管線(20)中並將因此導入於該管線(2O)中之該活性氣體去除的循環;該去除可在沒有活性氣體通過該系統(3)下以進行;
      一接著,最後充填氣體於該管線(20)中,以使該氣體對於該系統為可獲得的。
      一接著,最後充填具氣體之該管線(20),以使該氣體可得於該系統(3)。
    • 本发明之课题为一种用于充填腐蚀性气体于分配管线中之方法和设备。该方法为一种以钝化作用、充填气体于用于分配腐蚀性气体之管线(20)之方法,其中该管线系用于分配腐蚀性气体到位于该管线(20)之立即下游处之系统(3)上;该方法包括: 一先调节该管线(20); 一用习知为活性气体之该腐蚀性气体来真实充填该管线(20); 其特征是在于用气体之该真实充填包括: 一至少一充填活性气体于位在系统(3)立即下游处之该管线(20)中并将因此导入于该管线(2O)中之该活性气体去除的循环;该去除可在没有活性气体通过该系统(3)下以进行; 一接着,最后充填气体于该管线(20)中,以使该气体对于该系统为可获得的。 一接着,最后充填具气体之该管线(20),以使该气体可得于该系统(3)。
    • 53. 发明专利
    • 用以惰性化波焊設備之裝置及方法
    • 用以惰性化波焊设备之设备及方法
    • TW415866B
    • 2000-12-21
    • TW088115900
    • 1999-09-15
    • 液態空氣.喬治斯.克勞帝方法研究開發股份有限公司
    • 弗南漢納
    • B23KH05K
    • B23K1/012B23K2201/42
    • 本發明係關於一種用以惰性化波焊設備之裝置及方法,該波焊設備具有一焊錫槽(l9)與一輸送系統,其用以產生一或多個焊錫波(14、15),尤其用以焊接電氣印刷電路板,該種裝置具有一浸入式盒體(l),其於所有側均為閉合、形狀如同一框架、可係浸入於焊錫槽(l9)中,並具有用以分佈氮氣之多孔狀的導管(2、3、4),該等導管係配置在浸入式盒體內部而位於具有出口開口(8、9、10)之籠狀殼體(5、6、7)中,籠狀殼體(5、6、7)係設計為使得多孔狀導管(2、3、4)配置於其中,其方式為該等多孔狀導管(2、3、4)本質上係不會被在該波焊設備之操作期間內產生的焊錫飛濺物所撞擊。藉由出口開口(8、9、IO)之配置及形狀,將可在所有操作狀態下均達成該波焊設備之非常均勻之惰性化,甚至無須惰性化覆蓋之罩蓋。消除將損壞多孔狀導管(2、3、4)之焊錫飛濺物,可允許長的服務期間;該種設備之結構可允許簡單的維護。
    • 本发明系关于一种用以惰性化波焊设备之设备及方法,该波焊设备具有一焊锡槽(l9)与一输送系统,其用以产生一或多个焊锡波(14、15),尤其用以焊接电气印刷电路板,该种设备具有一浸入式盒体(l),其于所有侧均为闭合、形状如同一框架、可系浸入于焊锡槽(l9)中,并具有用以分布氮气之多孔状的导管(2、3、4),该等导管系配置在浸入式盒体内部而位于具有出口开口(8、9、10)之笼状壳体(5、6、7)中,笼状壳体(5、6、7)系设计为使得多孔状导管(2、3、4)配置于其中,其方式为该等多孔状导管(2、3、4)本质上系不会被在该波焊设备之操作期间内产生的焊锡飞溅物所撞击。借由出口开口(8、9、IO)之配置及形状,将可在所有操作状态下均达成该波焊设备之非常均匀之惰性化,甚至无须惰性化覆盖之罩盖。消除将损坏多孔状导管(2、3、4)之焊锡飞溅物,可允许长的服务期间;该种设备之结构可允许简单的维护。
    • 60. 发明专利
    • 光譜感測器校準方法
    • 光谱传感器校准方法
    • TW367408B
    • 1999-08-21
    • TW087111059
    • 1998-07-08
    • 液態空氣.喬治斯.克勞帝方法研究開發股份有限公司
    • 洛納S.英曼詹姆斯J.F.麥安卓
    • G01N
    • G01N21/276G01J3/42G01J2003/2866
    • 一種供光譜感測器之校準方法係作提供。方法中,備有一光譜系統。此系統包括一具有一或複數個壁之測量單元,該等壁至少部份包封成一抽樣區。單元尚含有一光進入口及一光射出口。光進入口及光射出口可為同一口或為個別口。每一口包含一光輸送窗,光束可通過該窗沿測量單元內之內部光徑前進。此系統尚包括一光室,其內含一光源以產生光束通過光入口進入單元,及一感測器以測量通過光出口之射出單元之光束。此光束沿光室內之外部光徑前進。此外,一氣體入口連接至光室。一校準氣體流被引入光室。校準氣體流包含一種校準氣體種類及一載負氣體。校準氣體種類以已知濃度出現於校準氣體流中。校準氣體流之光譜測量於是可以執行。此方法在一原地光譜感測器之校準上有其特別適用性,該感測器在一半導體處理工具中對有關分子之偵測非常有用。
    • 一种供光谱传感器之校准方法系作提供。方法中,备有一光谱系统。此系统包括一具有一或复数个壁之测量单元,该等壁至少部份包封成一抽样区。单元尚含有一光进入口及一光射出口。光进入口及光射出口可为同一口或为个别口。每一口包含一光输送窗,光束可通过该窗沿测量单元内之内部光径前进。此系统尚包括一光室,其内含一光源以产生光束通过光入口进入单元,及一传感器以测量通过光出口之射出单元之光束。此光束沿光室内之外部光径前进。此外,一气体入口连接至光室。一校准气体流被引入光室。校准气体流包含一种校准气体种类及一载负气体。校准气体种类以已知浓度出现于校准气体流中。校准气体流之光谱测量于是可以运行。此方法在一原地光谱传感器之校准上有其特别适用性,该传感器在一半导体处理工具中对有关分子之侦测非常有用。