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    • 52. 发明专利
    • 異唑衍生物
    • 异唑衍生物
    • TW442476B
    • 2001-06-23
    • TW087106014
    • 1998-04-20
    • 住友製藥股份有限公司
    • 中塚正志上野能秀岡田真一郎西角文夫
    • C07DA61KA61P
    • C07D413/06C07D261/14C07D413/10
    • 下式所代表之異唑衍生物:CC〔其中D為氫原子,鹵素原子,羥基團等;
      A及B中之一者為下式所代表之基團:CC(其中E為單鍵或烷撐基團,兩條虛線中之一者與實線共同代表雙鍵,而另一者則與另一實線共同代表單鍵。R1乃鍵結至經由虛線及實線所代表之單鍵所鍵結之氮原子上, R1,R2,R3及R4各自為氫原子,鹵素原子,羥基團等);且 A及B中之另一者為式:-J-G所代表之基團(其中G為經取代或未經取代芳基團等,J為-C( R8R9)-或-C(=CR8R9)-(其中R8及R9各自為氫原子,經取代或末經取代低級烷氧基團等)或其製藥學上可接受性鹽乃有用以作為(例如)供自體免疫疾病,炎性疾病等所用之醫療藥物。
    • 下式所代表之异唑衍生物:CC〔其中D为氢原子,卤素原子,羟基团等; A及B中之一者为下式所代表之基团:CC(其中E为单键或烷撑基团,两条虚线中之一者与实线共同代表双键,而另一者则与另一实线共同代表单键。R1乃键结至经由虚线及实线所代表之单键所键结之氮原子上, R1,R2,R3及R4各自为氢原子,卤素原子,羟基团等);且 A及B中之另一者为式:-J-G所代表之基团(其中G为经取代或未经取代芳基团等,J为-C( R8R9)-或-C(=CR8R9)-(其中R8及R9各自为氢原子,经取代或末经取代低级烷氧基团等)或其制药学上可接受性盐乃有用以作为(例如)供自体免疫疾病,炎性疾病等所用之医疗药物。