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    • 43. 发明专利
    • 氣體供給裝置、基板處理裝置、氣體供給方法
    • 气体供给设备、基板处理设备、气体供给方法
    • TW200733184A
    • 2007-09-01
    • TW096103352
    • 2007-01-30
    • 東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
    • 水澤兼悦 MIZUSAWA, KENETSU
    • H01L
    • C23C16/455C23C16/45561Y10T137/0318Y10T137/877
    • 本發明的課題是在於能以簡單的配管結構,並且以簡單的控制,能夠由處理是內的複數部位供給氣體,可實現期望的面內均等性。用以解決課題之手段為,在進行晶圓處理前,對分流量調整手段230質性調整分流量之壓力比控制,使得各處理氣體用分歧配管內的壓力比成為目標壓力比,將來自於處理氣體供給手段210的處理氣體分流於第1、第2分歧配管254、256,當各處理氣體用分歧流路內的壓力穩定時,將對分流量調整手段之控制,切換成調整分流量以保持壓力穩定時的其中一方之處理氣體用分歧流路內的壓力之壓力一定控制後,藉由附加氣體供給手段220,對另一方的處理氣體用分歧配管供給附加氣體。
    • 本发明的课题是在于能以简单的配管结构,并且以简单的控制,能够由处理是内的复数部位供给气体,可实现期望的面内均等性。用以解决课题之手段为,在进行晶圆处理前,对分流量调整手段230质性调整分流量之压力比控制,使得各处理气体用分歧配管内的压力比成为目标压力比,将来自于处理气体供给手段210的处理气体分流于第1、第2分歧配管254、256,当各处理气体用分歧流路内的压力稳定时,将对分流量调整手段之控制,切换成调整分流量以保持压力稳定时的其中一方之处理气体用分歧流路内的压力之压力一定控制后,借由附加气体供给手段220,对另一方的处理气体用分歧配管供给附加气体。
    • 45. 发明专利
    • 調節流體泵壓力之裝置及方法
    • 调节流体泵压力之设备及方法
    • TW506840B
    • 2002-10-21
    • TW090116418
    • 2001-07-05
    • 迪卡公司
    • 葛萊理巴羅伯
    • A61M
    • G05D7/0635A61M1/282A61M5/16809A61M2205/3331F04B43/043F04B43/06G05D16/2073Y10T137/0318
    • 提供一種調節流體泵壓力之方法,此方法係藉由偵測一流體流動控制裝置以及與流體流動控制裝置相導通之一流體管線的一末端之間之一海拔高度差來調節流體泵壓力。譬如腹腔透析裝置等一流體流動控制裝置係處於一第一高度,一流動管線的一末端處於一第二高度,而一閥式出口當開啟時可在流體流動控制裝置與流體管線的末端之間提供導通。海拔高度差係可與在方法論中的一項校準程序期間所量測之一壓力產生相關聯。
    • 提供一种调节流体泵压力之方法,此方法系借由侦测一流体流动控制设备以及与流体流动控制设备相导通之一流体管线的一末端之间之一海拔高度差来调节流体泵压力。譬如腹腔透析设备等一流体流动控制设备系处于一第一高度,一流动管线的一末端处于一第二高度,而一阀式出口当打开时可在流体流动控制设备与流体管线的末端之间提供导通。海拔高度差系可与在方法论中的一项校准进程期间所量测之一压力产生相关联。