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41. 发明专利

TW201100860A 細胞塊的狀態判別手法、使用細胞塊的狀態判別手法影像處理程式及影像處理裝置、以及細胞塊的製造方法审中-公开
简体标题：细胞块的状态判别手法、使用细胞块的状态判别手法影像处理进程及影像处理设备、以及细胞块的制造方法
公开(公告)号：TW201100860A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099119675
申请日：2010-06-17
申请人：尼康股份有限公司
发明人：三村正文 , 矢野和弘 , 伊藤啟 , 佐佐木秀貴
IPC分类号： G02B , C12M
CPC分类号： G06T3/00 , C12M41/46 , C12M41/48 , G01N21/6458 , G02B21/367 , G06K9/0014 , G06T7/0016 , G06T2207/10056 , G06T2207/20021 , G06T2207/30024
摘要：本發明提供一種可自間隔預設時刻的二枚觀察影像判斷細胞塊之複層化狀態的手段。影像處理程式(GP)係具備:間隔預設之時間,取得以成像裝置所攝影之第一影像及第二影像的步驟(S10);以第一影像之局部區域(local region)之亮度分布為基準,在包含第二影像之對應位置之近旁進行區塊比對,以符合度最高區域之近似度作為代表近似度,依順序移動局部區域,並計算細胞塊各部分之代表近似度的步驟(S40);輸出按照所計算之代表近似度的複層化資訊的步驟(S50),其構成為輸出可判斷來自第一、第二影像之細胞塊之複層化狀態的複層化資訊。
简体摘要：本发明提供一种可自间隔默认时刻的二枚观察影像判断细胞块之复层化状态的手段。影像处理进程(GP)系具备:间隔默认之时间,取得以成像设备所摄影之第一影像及第二影像的步骤(S10);以第一影像之局部区域(local region)之亮度分布为基准,在包含第二影像之对应位置之近旁进行区块比对,以符合度最高区域之近似度作为代表近似度,依顺序移动局部区域,并计算细胞块各部分之代表近似度的步骤(S40);输出按照所计算之代表近似度的复层化信息的步骤(S50),其构成为输出可判断来自第一、第二影像之细胞块之复层化状态的复层化信息。

42. 发明专利

TW200945469A 在積體電路製程中檢測缺陷特性的方法 METHOD FOR DETERMINING ABNORMAL CHARACTERISTICS IN INTEGRATED CIRCUIT MANUFACTURING PROCESS 审中-公开
简体标题：在集成电路制程中检测缺陷特性的方法 METHOD FOR DETERMINING ABNORMAL CHARACTERISTICS IN INTEGRATED CIRCUIT MANUFACTURING PROCESS
公开(公告)号：TW200945469A
公开(公告)日：2009-11-01
申请号：TW098112829
申请日：2009-04-17
申请人：漢民微測科技股份有限公司
发明人：蕭宏 , 招允佳
IPC分类号： H01L , G01N
CPC分类号： G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148
摘要：本發明揭露一種在積體電路製程中檢測缺陷特性的方法，方法包含：獲得一待測樣本的帶電粒子顯微鏡影像，其中待測樣本包含一參考圖案與一測試圖案；測量參考圖案與測試圖案的灰階；從參考圖案的測量灰階分布圖計算出一標準偏差；以及根據該些測量灰階與標準偏差判斷測試圖案的缺陷特性
简体摘要：本发明揭露一种在集成电路制程中检测缺陷特性的方法，方法包含：获得一待测样本的带电粒子显微镜影像，其中待测样本包含一参考图案与一测试图案；测量参考图案与测试图案的灰阶；从参考图案的测量灰阶分布图计算出一标准偏差；以及根据该些测量灰阶与标准偏差判断测试图案的缺陷特性

43. 发明专利

TWI283744B 半導體基板上圖案之檢查裝置及方法,及實施半導體基板檢查用程式之電腦可讀取式媒體 APPARATUS AND METHOD OF INSPECTING PATTERN ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND COMPUTER-READABLE MEDIUM CARRYING A PROGRAM FOR INSPECTING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE 失效
简体标题：半导体基板上图案之检查设备及方法,及实施半导体基板检查用进程之电脑可读取式媒体 APPARATUS AND METHOD OF INSPECTING PATTERN ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND COMPUTER-READABLE MEDIUM CARRYING A PROGRAM FOR INSPECTING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
公开(公告)号：TWI283744B
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：TW091135447
申请日：2002-12-06
申请人：大日本斯克琳製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：藤本博己 HIROKI FUJIMOTO
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G06T7/001 , B24B37/042 , B24B49/12 , G01N21/95607 , G06T7/12 , G06T7/32 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148 , H01L21/67288
摘要：本發明係關於一檢查裝置(1)，用來檢查經由CMP處理之半導體基板(9)上之圖案，其包含一光學頭部分(11)，用來獲取基板(9)之圖案之二維圖像，以及一電腦(13)，用來執行計算。在電腦(13)中，參考圖像和參考圖像之邊緣圖像係被預先準備，而在執行所獲得的二維圖像和參考圖像之間的圖案匹配之後，會獲得一差異圖像。在差異圖像中，像素的絕對值的平均值會與一預定臨界值進行比較，當邊緣圖像所表示之邊緣區域會被省略，以偵測是否有金屬殘餘薄膜。
简体摘要：本发明系关于一检查设备(1)，用来检查经由CMP处理之半导体基板(9)上之图案，其包含一光学头部分(11)，用来获取基板(9)之图案之二维图像，以及一电脑(13)，用来运行计算。在电脑(13)中，参考图像和参考图像之边缘图像系被预先准备，而在运行所获得的二维图像和参考图像之间的图案匹配之后，会获得一差异图像。在差异图像中，像素的绝对值的平均值会与一预定临界值进行比较，当边缘图像所表示之边缘区域会被省略，以侦测是否有金属残余薄膜。

44. 发明专利

TW509789B 材料容積分離之方法和裝置有权
简体标题：材料容积分离之方法和设备
公开(公告)号：TW509789B
公开(公告)日：2002-11-11
申请号：TW090123718
申请日：2001-09-26
申请人：解決科學公司
发明人：羅塞爾L 克戍曼
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G06T7/11 , G06T2207/10056 , G06T2207/30101
摘要：本發明包括一種裝置，可精確地分離任意定義之由組織、製造材料或其他物質之樣本來源的材料容積；且包含：一顯影裝置，以產生組織樣本的數位三度顯示；一儲存器，以儲存從組織樣本連續切割之組織切片，計算裝置是用在組織樣本之數位三度顯示中識別所選取的次容積，且所選取的數位顯示之次容積是與存檔(archiving)的組織切片之次容積是有關連的；以及一組織萃取裝置，能夠識別、定位與刪除組織切片之預定次區域。本發明也提供一種採用該裝置的方法。
简体摘要：本发明包括一种设备，可精确地分离任意定义之由组织、制造材料或其他物质之样本来源的材料容积；且包含：一显影设备，以产生组织样本的数码三度显示；一存储器，以存储从组织样本连续切割之组织切片，计算设备是用在组织样本之数码三度显示中识别所选取的次容积，且所选取的数码显示之次容积是与存盘(archiving)的组织切片之次容积是有关连的；以及一组织萃取设备，能够识别、定位与删除组织切片之预定次区域。本发明也提供一种采用该设备的方法。

45. 发明专利

TW201812705A 步階大小及鍍金屬厚度之光學量測审中-公开
简体标题：步阶大小及镀金属厚度之光学量测
公开(公告)号：TW201812705A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106127070
申请日：2017-08-10
申请人：美商澤塔儀器公司 , ZETA INSTRUMENTS, INC.
发明人：許詹姆士建國 , XU, JAMES JIANGUO , 索塔曼隆尼 , SOETARMAN, RONNY , 哈朵諾布迪 , HARTONO, BUDI
IPC分类号： G06T15/08 , G06T7/521 , G01B11/06
CPC分类号： G02B21/244 , G02B21/0016 , G02B21/26 , G02B21/367 , G06T7/0006 , G06T7/571 , G06T2207/10028 , G06T2207/10056 , G06T2207/10148 , G06T2207/30148
摘要：一種產生三維資訊之方法包含：按預定步階變更樣本與光學顯微鏡之一物鏡之間的距離；在各預定步階處擷取一影像；判定各經擷取影像中之各像素之一特性值；針對各經擷取影像判定跨該經擷取影像中之所有像素之最大特性值；比較各經擷取影像之該最大特性值以判定各預定步階處是否存在該樣本之一表面；基於各經擷取影像中之各像素之該特性值判定聚焦在該樣本之一第一表面上之一第一經擷取影像；基於各經擷取影像中之各像素之該特性值判定聚焦在該樣本之一第二表面上之一第二經擷取影像；及判定該第一表面與該第二表面之間的一第一距離。
简体摘要：一种产生三维信息之方法包含：按预定步阶变更样本与光学显微镜之一物镜之间的距离；在各预定步阶处截取一影像；判定各经截取影像中之各像素之一特性值；针对各经截取影像判定跨该经截取影像中之所有像素之最大特性值；比较各经截取影像之该最大特性值以判定各预定步阶处是否存在该样本之一表面；基于各经截取影像中之各像素之该特性值判定聚焦在该样本之一第一表面上之一第一经截取影像；基于各经截取影像中之各像素之该特性值判定聚焦在该样本之一第二表面上之一第二经截取影像；及判定该第一表面与该第二表面之间的一第一距离。

46. 发明专利

TWI618976B 於微影製程中使圖案合格有权
简体标题：于微影制程中使图案合格
公开(公告)号：TWI618976B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW103128721
申请日：2014-08-20
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：石如方 , SHI, RUI-FENG , 瓦格納馬克 , WAGNER, MARK
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G03F7/7065 , G03F1/70 , G03F1/84 , G03F7/705 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148

47. 发明专利

TW201738843A 細胞核影像輪廓擷取裝置及其方法审中-公开
简体标题：细胞核影像轮廓截取设备及其方法
公开(公告)号：TW201738843A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105112999
申请日：2016-04-26
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：鄭茗徽 , CHENG, MING HUI , 陳彥君 , CHEN, YAN JUN , 尤崇智 , YU, TSUNG CHIH , 潘柏瑋 , PAN, BO WEI , 吳春森 , WU, CHUN SEN
IPC分类号： G06T7/00
CPC分类号： G01N33/4833 , G01N15/1475 , G01N2015/0065 , G01N2015/1006 , G06T7/12 , G06T7/66 , G06T2207/10056 , G06T2207/30024
摘要：本發明為一種於細胞影像中找出目標細胞的細胞核的方法，其中細胞影像包括目標細胞及至少一變異細胞，且目標細胞包含細胞質及細胞核，該方法包括：(a)處理細胞影像，以使細胞質、細胞核及變異細胞具不同色彩深淺；(b)分別標定細胞質、細胞核及變異細胞之輪廓；(c)分別計算各輪廓之重心；(d)分別計算細胞質輪廓重心與細胞核輪廓重心及變異細胞輪廓重心的距離；以及(e)自細胞核輪廓重心及變異細胞輪廓重心找出與細胞質輪廓重心之間具有最短距離的特定重心，並定義具特定重心之對應輪廓為細胞核。
简体摘要：本发明为一种于细胞影像中找出目标细胞的细胞核的方法，其中细胞影像包括目标细胞及至少一变异细胞，且目标细胞包含细胞质及细胞核，该方法包括：(a)处理细胞影像，以使细胞质、细胞核及变异细胞具不同色彩深浅；(b)分别标定细胞质、细胞核及变异细胞之轮廓；(c)分别计算各轮廓之重心；(d)分别计算细胞质轮廓重心与细胞核轮廓重心及变异细胞轮廓重心的距离；以及(e)自细胞核轮廓重心及变异细胞轮廓重心找出与细胞质轮廓重心之间具有最短距离的特定重心，并定义具特定重心之对应轮廓为细胞核。

48. 发明专利

TW201738550A 光學量測裝置及其運作方法审中-公开
简体标题：光学量测设备及其运作方法
公开(公告)号：TW201738550A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW106114372
申请日：2017-04-28
申请人：明達醫學科技股份有限公司 , CRYSTALVUE MEDICAL CORPORATION
发明人：徐琅 , HSU, LONG , 王威 , WANG, WILLIAM , 劉承賢 , LIU, CHENG HSIEN , 施博真 , SHIH, PO CHEN , 施庭昇 , SHIH, TING SHENG , 劉丞恩 , LIU, CHENG EN , 周重羽 , CHOU, CHUNG YU , 周忠誠 , CHOU, CHUNG CHENG
IPC分类号： G01N21/01 , G01N1/28
CPC分类号： G06T7/0016 , G01N15/1429 , G01N15/1436 , G01N2015/0065 , G01N2015/1006 , G01N2015/1486 , G06K9/00134 , G06T2207/10056 , G06T2207/30024 , G06T2207/30242
摘要：本發明揭露一種光學量測裝置及其運作方法。光學量測裝置包含光源、載物晶片、光感測器、分析晶片及顯示器。待測樣品係均勻化地分佈於載物晶片上。光源發出感測光射向載物晶片。光感測器於複數個時間點接收通過載物晶片的感測光，以得到分別對應於複數個時間點之複數個影像。分析晶片耦接光感測器。分析晶片根據對應於複數個時間點之複數個影像分析出待測樣品中之待測物的數量及分佈隨時間之變化，並據以推估待測樣品中之待測物的本徵特性。顯示器耦接分析晶片。顯示器顯示待測樣品中之待測物的本徵特性。
简体摘要：本发明揭露一种光学量测设备及其运作方法。光学量测设备包含光源、载物芯片、光传感器、分析芯片及显示器。待测样品系均匀化地分布于载物芯片上。光源发出传感光射向载物芯片。光传感器于复数个时间点接收通重载物芯片的传感光，以得到分别对应于复数个时间点之复数个影像。分析芯片耦接光传感器。分析芯片根据对应于复数个时间点之复数个影像分析出待测样品中之待测物的数量及分布随时间之变化，并据以推估待测样品中之待测物的本征特性。显示器耦接分析芯片。显示器显示待测样品中之待测物的本征特性。

49. 发明专利

TW201732305A 以影像為基礎之樣本程序控制审中-公开
简体标题：以影像为基础之样本进程控制
公开(公告)号：TW201732305A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106100816
申请日：2017-01-11
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：派克艾倫 , PARK, ALLEN , 高理升 , GAO, LISHENG , 庫爾卡尼艾斯霍克 , KULKARNI, ASHOK , 巴納吉賽寶 , BANERJEE, SAIBAL , 谷平 , GU, PING , 羅宋尼恩 , RONG, SONGNIAN , 畢海斯卡克里斯 , BHASKAR, KRIS
IPC分类号： G01R31/26 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/0004 , G01N21/9501 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/10061 , G06T2207/20081 , G06T2207/20084 , G06T2207/30148
摘要：本發明提供用於偵測一樣本之影像之異常之方法及系統。一種系統包含經組態以獲取由一成像子系統產生之一樣本之影像的一或多個電腦子系統。該(等)電腦子系統亦經組態以判定該等獲取影像之一或多個特性。另外，該(等)電腦子系統經組態以在無需將一缺陷偵測演算法應用於該等影像或該等影像之該一或多個特性之情況下基於該一或多個判定特性而識別該等影像之異常。
简体摘要：本发明提供用于侦测一样本之影像之异常之方法及系统。一种系统包含经组态以获取由一成像子系统产生之一样本之影像的一或多个电脑子系统。该(等)电脑子系统亦经组态以判定该等获取影像之一或多个特性。另外，该(等)电脑子系统经组态以在无需将一缺陷侦测算法应用于该等影像或该等影像之该一或多个特性之情况下基于该一或多个判定特性而识别该等影像之异常。

50. 发明专利

TWI576580B 材料層或結構的尺寸計算方法有权
简体标题：材料层或结构的尺寸计算方法
公开(公告)号：TWI576580B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW103115821
申请日：2014-05-02
申请人：閎康科技股份有限公司 , MATERIAL ANALYSIS TECHNOLOGY INC.
发明人：畢少強 , BIRING, SAJAL , 葛裕逢 , KO, YU FENG
IPC分类号： G01N23/225 , G01N23/20 , G06T7/00 , G06K9/46
CPC分类号： G06T7/181 , G06T7/12 , G06T7/62 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148

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