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    • 43. 发明专利
    • 可校正光束成形系統及方法
    • 可校正光束成形系统及方法
    • TW201437683A
    • 2014-10-01
    • TW102123029
    • 2013-06-27
    • 應用材料以色列公司APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD.
    • 克利薛爾賓亞KIRSHNER, BINYAMIN艾達爾漢姆EDER, HAIM
    • G02B27/09
    • G02B27/0927G01J1/4257G02B7/003G02B27/0025G06T7/001G06T7/32
    • 一種光束成形系統,該系統包括:第一光學模組及第二光學模組,該等光學模組以距離隔開的關係安置在光通過系統之光學路徑中以對入射在該等光學模組上之光順序地應用光束成形。光束成形系統包括第一對準模組及第二對準模組,該等對準模組分別攜帶第一光學模組及第二光學模組且可操作用於相對於光學路徑側向定位光學模組。光束成形系統之校正模組可連接至第一對準模組及第二對準模組且可操作以順序地校正且對準第一光學模組及第二光學模組相對於光學路徑之各個側向位置。因此,系統使得給定預定波前及側向強度分佈之入射光束之成形成為可能,以形成具有期望波前及期望側向強度分佈之輸出光束。
    • 一种光束成形系统,该系统包括:第一光学模块及第二光学模块,该等光学模块以距离隔开的关系安置在光通过系统之光学路径中以对入射在该等光学模块上之光顺序地应用光束成形。光束成形系统包括第一对准模块及第二对准模块,该等对准模块分别携带第一光学模块及第二光学模块且可操作用于相对于光学路径侧向定位光学模块。光束成形系统之校正模块可连接至第一对准模块及第二对准模块且可操作以顺序地校正且对准第一光学模块及第二光学模块相对于光学路径之各个侧向位置。因此,系统使得给定预定波前及侧向强度分布之入射光束之成形成为可能,以形成具有期望波前及期望侧向强度分布之输出光束。