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41. 发明专利

TWI332441B 液體噴射頭 LIQUID JET HEAD 有权
简体标题：液体喷射头 LIQUID JET HEAD
公开(公告)号：TWI332441B
公开(公告)日：2010-11-01
申请号：TW096131711
申请日：2007-08-27
申请人：佳能股份有限公司
发明人：及川真樹 , 金子峰夫 , 土井健 , 山根徹 , 富澤惠二 , 松本光弘 , 井手秀一 , 瀧野寒水 , 鍋島直純
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/145 , B41J2/1404 , B41J2002/14177 , B41J2002/14403 , B41J2002/14475
摘要：一液體噴射頭包含複數噴射出口，用於噴射液滴；液體流動路徑，其與該等噴射出口流體相通；及一液體供給開口，用於將該液體供給至該液體流動路徑；其中該等噴射出口包含第一噴射出口及第二噴射出口，該等噴射出口係至少設置在該液體供給開口的一側面，其中該等第一噴射出口係比該等第二噴射出口較靠近該液體供給開口，且該等第一噴射出口及該等第二噴射出口係以交錯的方式配置；第一記錄元件，其用於該等第一噴射出口；第二記錄元件，其用於該等第二噴射出口；其中該等第一記錄元件之每一個包含一呈長方形之形式的生熱電阻器，該電阻器具有沿著一方向延伸之長側面，該方向與該等噴射出口之配置方向交叉；及其中該第二記錄元件包含複數生熱電阻器，該等生熱電阻器之每一個係呈長方形之形式，且在其長側面係彼此毗連，該複數生熱電阻器係串聯地電連接。
简体摘要：一液体喷射头包含复数喷射出口，用于喷射液滴；液体流动路径，其与该等喷射出口流体相通；及一液体供给开口，用于将该液体供给至该液体流动路径；其中该等喷射出口包含第一喷射出口及第二喷射出口，该等喷射出口系至少设置在该液体供给开口的一侧面，其中该等第一喷射出口系比该等第二喷射出口较靠近该液体供给开口，且该等第一喷射出口及该等第二喷射出口系以交错的方式配置；第一记录组件，其用于该等第一喷射出口；第二记录组件，其用于该等第二喷射出口；其中该等第一记录组件之每一个包含一呈长方形之形式的生热电阻器，该电阻器具有沿着一方向延伸之长侧面，该方向与该等喷射出口之配置方向交叉；及其中该第二记录组件包含复数生热电阻器，该等生热电阻器之每一个系呈长方形之形式，且在其长侧面系彼此毗连，该复数生热电阻器系串联地电连接。

42. 发明专利

TWI328521B 具不對稱墨水通孔之噴墨列印頭加熱器晶片 INKJET PRINTHEAD HEATER CHIP WITH ASYMMETRIC INK VIAS 失效
简体标题：具不对称墨水通孔之喷墨打印头加热器芯片 INKJET PRINTHEAD HEATER CHIP WITH ASYMMETRIC INK VIAS
公开(公告)号：TWI328521B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：TW092137493
申请日：2003-12-30
申请人：利盟國際股份有限公司
发明人：喬治凱斯帕里希 , 凱斯特馬吉得洛維
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/145 , B41J2/1404 , B41J2/14145
摘要：本發明揭示一種噴墨列印頭加熱器晶片，其具有不對稱配置於噴墨列印頭運動之往復方向上的墨水通孔。該墨水通孔具有兩個側面及一大體上平行於印刷媒體前進方向之經度範圍。一行流體觸發元件獨佔地沿該等兩個側面的單個側面存在。加熱器晶片與墨水通孔各自具有一形心，且兩個形心互不重合。加熱器晶片形心較佳位於墨水通孔之邊界以外。在其他態樣中，該流體觸發元件行可爲唯一行或複數行，且其可集中在往復方向。墨水通孔可爲唯一通孔或複數個通孔。加熱器晶片可爲矩形，且墨水通孔既可靠近該加熱器晶片的長邊(long end)，亦可靠近其短邊。本發明亦揭示用於容納此等列印頭之噴墨印表機。
简体摘要：本发明揭示一种喷墨打印头加热器芯片，其具有不对称配置于喷墨打印头运动之往复方向上的墨水通孔。该墨水通孔具有两个侧面及一大体上平行于印刷媒体前进方向之经度范围。一行流体触发组件独占地沿该等两个侧面的单个侧面存在。加热器芯片与墨水通孔各自具有一形心，且两个形心互不重合。加热器芯片形心较佳位于墨水通孔之边界以外。在其他态样中，该流体触发组件行可为唯一行或复数行，且其可集中在往复方向。墨水通孔可为唯一通孔或复数个通孔。加热器芯片可为矩形，且墨水通孔既可靠近该加热器芯片的长边(long end)，亦可靠近其短边。本发明亦揭示用于容纳此等打印头之喷墨打印机。

43. 发明专利

TWI324559B 流體噴出裝置 FLUID EJECTION DEVICE 有权
简体标题：流体喷出设备 FLUID EJECTION DEVICE
公开(公告)号：TWI324559B
公开(公告)日：2010-05-11
申请号：TW093124788
申请日：2004-08-18
申请人：惠普研發公司
发明人：瑞曼高帕蘭
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/1404 , B41J2/14056 , B41J2002/14387
摘要：一種流體噴出裝置，其包含一腔室、各連接於該腔室之一第一流體通道及一第二流體通道、一沿著該第一流體通道之第一半島形物及一沿著該第二流體通道之第二半島形物、延伸在該第一半島形物及該腔室之間的一第一側壁，及延伸在該第二半島形物及該腔室之間的一第二側壁。該第一側壁係以一第一角度相對於該腔室而定位而該第二側壁係以一第二角度相對於該腔室而定位，其中該第二角度係不同於該第一角度。 A fluid ejection device (100) includes a chamber (110), a first fluid channel (120) and a second fluid channel (122) each communicated with the chamber, a first peninsula (140) extended along the first fluid channel and a second peninsula (142) extended along the second fluid channel, and a first sidewall extended between the first peninsula and the chamber, and a second sidewall (152) extended between the second peninsula and the chamber. The first sidewall is oriented at a first angle (154) to the chamber and the second sidewall is oriented at a second angle (156) to the chamber such that the second angle is different from the first angle. 【創作特點】發明概要
本發明之一方面係提供一流體噴出裝置，其包括一腔室、連接於該腔室之一第一流體通道及一第二流體通道，一沿著該第一流體通道延伸之第一半島形物及一沿著該第二流體通道延伸之第二半島形物，及一延伸在該第一半島形物及該腔室之間的第一側壁，以及一延伸在該第二半島形物及該腔室之間的第二側壁。該第一側壁係以一相對於該腔室之第一角度而定位，而該第二側壁係以一相對於該腔室之第二角度而定位，而該第二角度係不同於該第一角度。
本發明之另一方面提供一流體噴出裝置，其包括一腔室、各自連接於該腔室之一第一流體通道及一第二流體通道，及一分隔該第一流體通道及該第二流體通道之島形物。該島形物係實質上為矩形且具有一沿著該第一流體通道之第一經去角之邊角及一沿著該第二流體通道之第二經去角之邊角，而該第第一經去角之邊角係以一第一角度定位，且該第二經去角之邊角係以一不同於該第一角度之第二角度定位。
圖式簡單說明
第1圖為一方塊圖，其表示一依據本發明之噴墨印刷系統的實施例。
第2圖為一概要橫截面圖，其表示一依據本發明之流體噴出裝置之一部份的實施例。
第3圖為一平面圖，其表示一依據本發明之流體噴出裝置之一部份的實施例。
第4圖為一表格，其概述一典型尺寸之實施例及依據本發明之一流體噴出裝置之一實施例對於參數尺寸之典型範圍。
第5圖為一平面圖，其表示一根據本發明包含多數個液滴噴出元件之流體噴出裝置的實施例。
第6圖為一平面圖，其表示一根據本發明包含二欄液滴噴出元件之流體噴出裝置的實施例。
第7圖為一圖，其表示依據本發明對於一自流體噴出裝置而噴出之液滴，其液滴重量相對於流體黏滯度的實施例。
第8圖為一圖，其表示依據本發明對於一自流體噴出裝置而噴出之液滴，其液滴噴出頻率相對於流體黏滯度的實施例。
第9圖為一圖，其表示依據本發明對於一自流體噴出裝置而噴出之液滴，其液滴重量相對於液滴噴出頻率的實施例。
简体摘要：一种流体喷出设备，其包含一腔室、各连接于该腔室之一第一流体信道及一第二流体信道、一沿着该第一流体信道之第一半岛形物及一沿着该第二流体信道之第二半岛形物、延伸在该第一半岛形物及该腔室之间的一第一侧壁，及延伸在该第二半岛形物及该腔室之间的一第二侧壁。该第一侧壁系以一第一角度相对于该腔室而定位而该第二侧壁系以一第二角度相对于该腔室而定位，其中该第二角度系不同于该第一角度。 A fluid ejection device (100) includes a chamber (110), a first fluid channel (120) and a second fluid channel (122) each communicated with the chamber, a first peninsula (140) extended along the first fluid channel and a second peninsula (142) extended along the second fluid channel, and a first sidewall extended between the first peninsula and the chamber, and a second sidewall (152) extended between the second peninsula and the chamber. The first sidewall is oriented at a first angle (154) to the chamber and the second sidewall is oriented at a second angle (156) to the chamber such that the second angle is different from the first angle. 【创作特点】发明概要本发明之一方面系提供一流体喷出设备，其包括一腔室、连接于该腔室之一第一流体信道及一第二流体信道，一沿着该第一流体信道延伸之第一半岛形物及一沿着该第二流体信道延伸之第二半岛形物，及一延伸在该第一半岛形物及该腔室之间的第一侧壁，以及一延伸在该第二半岛形物及该腔室之间的第二侧壁。该第一侧壁系以一相对于该腔室之第一角度而定位，而该第二侧壁系以一相对于该腔室之第二角度而定位，而该第二角度系不同于该第一角度。本发明之另一方面提供一流体喷出设备，其包括一腔室、各自连接于该腔室之一第一流体信道及一第二流体信道，及一分隔该第一流体信道及该第二流体信道之岛形物。该岛形物系实质上为矩形且具有一沿着该第一流体信道之第一经去角之边角及一沿着该第二流体信道之第二经去角之边角，而该第第一经去角之边角系以一第一角度定位，且该第二经去角之边角系以一不同于该第一角度之第二角度定位。图式简单说明第1图为一方块图，其表示一依据本发明之喷墨印刷系统的实施例。第2图为一概要横截面图，其表示一依据本发明之流体喷出设备之一部份的实施例。第3图为一平面图，其表示一依据本发明之流体喷出设备之一部份的实施例。第4图为一表格，其概述一典型尺寸之实施例及依据本发明之一流体喷出设备之一实施例对于参数尺寸之典型范围。第5图为一平面图，其表示一根据本发明包含多数个液滴喷出组件之流体喷出设备的实施例。第6图为一平面图，其表示一根据本发明包含二栏液滴喷出组件之流体喷出设备的实施例。第7图为一图，其表示依据本发明对于一自流体喷出设备而喷出之液滴，其液滴重量相对于流体黏滞度的实施例。第8图为一图，其表示依据本发明对于一自流体喷出设备而喷出之液滴，其液滴喷出频率相对于流体黏滞度的实施例。第9图为一图，其表示依据本发明对于一自流体喷出设备而喷出之液滴，其液滴重量相对于液滴喷出频率的实施例。

44. 发明专利

TW200946352A 列印頭供給溝槽肋條 PRINT HEAD FEED SLOT RIBS 审中-公开
简体标题：打印头供给沟槽肋条 PRINT HEAD FEED SLOT RIBS
公开(公告)号：TW200946352A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW098114382
申请日：2009-04-30
申请人：惠普研發公司
发明人：鍾布萊德里D , 吉里曼尼許 , 懷塔克艾梅特 , 蒙克里蘭席恩P , 菲利浦安德魯 , 克拉克班傑明
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1642 , B41J2/17513 , B41J2/1753
摘要：一列印頭包括一層，其至少部分地形成發射腔及與一液體供給溝槽之相對的側壁相接觸同時在該液體供給溝槽內自一第一側壁延伸到一第二相對側壁之肋條。
简体摘要：一打印头包括一层，其至少部分地形成发射腔及与一液体供给沟槽之相对的侧壁相接触同时在该液体供给沟槽内自一第一侧壁延伸到一第二相对侧壁之肋条。

45. 发明专利

TW200922795A 具有壓力減緩結構之列印頭 PRINTHEAD WITH PRESSURE-DAMPENING STRUCTURES 审中-公开
简体标题：具有压力减缓结构之打印头 PRINTHEAD WITH PRESSURE-DAMPENING STRUCTURES
公开(公告)号：TW200922795A
公开(公告)日：2009-06-01
申请号：TW097100829
申请日：2008-01-09
申请人：銀川研究私人股份有限公司 SILVERBROOK RESEARCH PTY LTD
发明人：葛雷果瑞麥可艾弗伊 MCAVOY, GREGORY JOHN , 奇亞席維布魯克 SILVERBROOK, KIA
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/055 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J29/02 , B41J2002/14475
摘要：提供一種噴墨列印頭。列印頭包括:複數個噴嘴總成;一噴嘴板,覆蓋複數個噴嘴總成;一油墨供應系統,用來將油墨供至複數個噴嘴總成,該油墨供應系統包括至少一由噴嘴板之一部分形成之管壁;以及至少一壓力減緩結構,位於噴嘴板之一部分中。壓力減緩結構減緩油墨供應系統中的油墨壓力波動。
简体摘要：提供一种喷墨打印头。打印头包括:复数个喷嘴总成;一喷嘴板,覆盖复数个喷嘴总成;一油墨供应系统,用来将油墨供至复数个喷嘴总成,该油墨供应系统包括至少一由喷嘴板之一部分形成之管壁;以及至少一压力减缓结构,位于喷嘴板之一部分中。压力减缓结构减缓油墨供应系统中的油墨压力波动。

46. 发明专利

TWI306812B 液體排放頭及其製造方法 LIQUID DISCHARGE HEAD AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME 失效
简体标题：液体排放头及其制造方法 LIQUID DISCHARGE HEAD AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME
公开(公告)号：TWI306812B
公开(公告)日：2009-03-01
申请号：TW095135815
申请日：2006-09-27
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：鍋島直純 NABESHIMA, NAOZUMI , 山根徹 YAMANE, TORU , 鈴木工 SUZUKI, TAKUMI , 久保田雅彥 KUBOTA, MASAHIKO , 佐藤環樹 SATO, TAMAKI , 柬理亮二 KANRI, RYOJI , 服田麻紀 HATTA, MAKI , 淺井和宏 ASAI, KAZUHIRO
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/1404 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , Y10T29/49401
摘要：一種液體排放頭包括一具有一被設定用以產生用來排放液體所需的能量的能量產生元件之基體,一被設定用以排放該液體並被設置在與該能量產生元件呈一相對的關係之排放埠,一定義一適於儲存該用來排放液體所需的該能量的腔室之壁構件,該能量係由該能量產生元件所產生,一定義一連接該腔室與該排放埠的流體路徑之排放部份,一促進供應該液體至該腔室內之供應路徑,以及一對被設置於該壁構件內之中空部份,其中該中空部份彼此相對並以一由該排放埠至該基體的方向將至少該整個排放埠夾在中間,而該些中空部份係獨立於該腔室。
简体摘要：一种液体排放头包括一具有一被设置用以产生用来排放液体所需的能量的能量产生组件之基体,一被设置用以排放该液体并被设置在与该能量产生组件呈一相对的关系之排放端口,一定义一适于存储该用来排放液体所需的该能量的腔室之壁构件,该能量系由该能量产生组件所产生,一定义一连接该腔室与该排放端口的流体路径之排放部份,一促进供应该液体至该腔室内之供应路径,以及一对被设置于该壁构件内之中空部份,其中该中空部份彼此相对并以一由该排放端口至该基体的方向将至少该整个排放端口夹在中间,而该些中空部份系独立于该腔室。

47. 发明专利

TWI290099B 流體噴出裝置 FLUID EJECTION DEVICE 有权
简体标题：流体喷出设备 FLUID EJECTION DEVICE
公开(公告)号：TWI290099B
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：TW095115455
申请日：2006-05-01
申请人：惠普研發公司 HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P.
发明人：斐勒伊利莎白A. FELLNER, ELIZABETH A. , 平吉歐詹姆斯 PINGEL, JAMES , 吉瑞馬修D. GIERE, MATTHEW DAVID , 珀卡戌謝拓 PRAKASH, SATYA , 楨金斯大衛W. JENKINS, DAVID W. , 斐盈詹姆士A. FEINN, JAMES A. , 阿卡沃阿冗K. AGARWAL, ARUN K. , 寇克斯朱利J. COX, JULIE J. , 摩立茲朱利G. MORITZ, JULES G. , 約德里姆歐茲古爾 YILDIRIM, OZGUR
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/1404 , B41J2002/14387 , B41J2002/14403
摘要：一種流體噴出裝置，其包括一流體室、一與流體室連通的流體限制部分、以及一與該流體限制部分連通的流體通道。流體限制部分具有一流體限制部分參數其定義為(2*W+2*H)*L/(H*W)，其中W係為流體限制部分之寬度，H係為流體限制部分之高度，以及L係為流體限制部分之長度。就其本身而論，流體限制部分參數之範圍係為1.5至5.75。
简体摘要：一种流体喷出设备，其包括一流体室、一与流体室连通的流体限制部分、以及一与该流体限制部分连通的流体信道。流体限制部分具有一流体限制部分参数其定义为(2*W+2*H)*L/(H*W)，其中W系为流体限制部分之宽度，H系为流体限制部分之高度，以及L系为流体限制部分之长度。就其本身而论，流体限制部分参数之范围系为1.5至5.75。

48. 发明专利

TWI286517B 製造精細結構的方法,製造液體射出頭的方法,以及液體射出頭 METHOD FOR MANUFACTURING MINUTE STRUCTURE, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID DISCHARGE HEAD, AND LIQUID DISCHARGE HEAD 失效
简体标题：制造精细结构的方法,制造液体射出头的方法,以及液体射出头 METHOD FOR MANUFACTURING MINUTE STRUCTURE, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID DISCHARGE HEAD, AND LIQUID DISCHARGE HEAD
公开(公告)号：TWI286517B
公开(公告)日：2007-09-11
申请号：TW094121481
申请日：2005-06-27
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：久保田雅彥 KUBOTA, MASAHIKO , 鈴木工 SUZUKI, TAKUMI , 佐藤環樹 SATO, TAMAKI , 柬理亮二 KANRI, RYOJI , 服田麻紀 HATTA, MAKI , 淺井和宏 ASAI, KAZUHIRO , 芝昭二 SHIBA, SHOJI , 石倉宏惠 ISHIKURA, HIROE , 岡野明彥 OKANO, AKIHIKO
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/1603 , B41J2/1404 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , B41J2202/11 , G03F7/095 , Y10T29/49401
摘要：一種製造精細結構的方法，其包含連續地形成包括甲基異丙烯基酮的離子化輻射分解型正型阻劑層之步驟，而該阻劑層係作為藉第一個波長範圍的離子化輻射而感光之第一種正型光敏性材料層；在該第一種正型光敏性材料層上形成包括一種共聚物之光敏性材料的離子化輻射分解型正型阻劑層之步驟，該共聚合物係藉由甲基丙烯酸酯與甲基丙烯酸之共聚合而獲得，該共聚物的重量平均分子量為50,000至300,000且該共聚物所包括的甲基丙烯酸比例為5至30重量%，而該阻劑層係作為藉第二個波長範圍的離子化輻射而感光之第二種正型光敏性材料層；藉下列方式在上述作為上層之第二種正型光敏性材料層中形成所欲圖案的步驟：經由光罩將上述第二個波長範圍的離子化輻射導向形成有該第一及第二種正型光敏性材料層的基材表面，使得僅在上述第二種正型光敏性材料層之所欲區域中有分解反應，而上述第一種正型光敏性材料層沒有分解反應，及使用顯影溶液予以顯影，接著；藉下列方式在上述作為下層之第一種正型光敏性材料層中形成所欲圖案的步驟：經由光罩將上述第一個波長範圍的離子化輻射導向形成有該第一及第二種正型光敏性材料層的基材表面，使得至少上述第一種正型光敏性材料層之預定區域中有分解反應，及顯影；其特徵為藉由執行上述步驟而在基材中製造凸面形的圖案。
简体摘要：一种制造精细结构的方法，其包含连续地形成包括甲基异丙烯基酮的离子化辐射分解型正型阻剂层之步骤，而该阻剂层系作为藉第一个波长范围的离子化辐射而感光之第一种正型光敏性材料层；在该第一种正型光敏性材料层上形成包括一种共聚物之光敏性材料的离子化辐射分解型正型阻剂层之步骤，该共聚合物系借由甲基丙烯酸酯与甲基丙烯酸之共聚合而获得，该共聚物的重量平均分子量为50,000至300,000且该共聚物所包括的甲基丙烯酸比例为5至30重量%，而该阻剂层系作为藉第二个波长范围的离子化辐射而感光之第二种正型光敏性材料层；藉下列方式在上述作为上层之第二种正型光敏性材料层中形成所欲图案的步骤：经由光罩将上述第二个波长范围的离子化辐射导向形成有该第一及第二种正型光敏性材料层的基材表面，使得仅在上述第二种正型光敏性材料层之所欲区域中有分解反应，而上述第一种正型光敏性材料层没有分解反应，及使用显影溶液予以显影，接着；藉下列方式在上述作为下层之第一种正型光敏性材料层中形成所欲图案的步骤：经由光罩将上述第一个波长范围的离子化辐射导向形成有该第一及第二种正型光敏性材料层的基材表面，使得至少上述第一种正型光敏性材料层之预定区域中有分解反应，及显影；其特征为借由运行上述步骤而在基材中制造凸面形的图案。

49. 发明专利

TW200732163A 低能量、長效之微流體噴出裝置 LOW ENERGY, LONG LIFE MICRO-FLUID EJECTION DEVICE 审中-公开
简体标题：低能量、长效之微流体喷出设备 LOW ENERGY, LONG LIFE MICRO-FLUID EJECTION DEVICE
公开(公告)号：TW200732163A
公开(公告)日：2007-09-01
申请号：TW095148622
申请日：2006-12-22
申请人：利盟國際股份有限公司 LEXMARK INTERNATIONAL, INC.
发明人：羅伯特W 康乃爾 CORNELL, ROBERT W. , 詹姆士哈羅德包爾斯 POWERS, JAMES HAROLD , 許瑞旭帕達美克穆雷 MULAY, SHIRISH PADMAKAR , 羅伯特L 康奈爾 CORNELL, ROBERT L.
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/14129 , B41J2/1404 , B41J2002/14185 , B41J2002/14387
摘要：一種微流體噴頭及用於延長該微流體噴頭壽命之方法。該微流體噴頭包括一基板,其具有複數個熱噴出致動器。該等熱噴出致動器各具有一電阻層及一位於電阻層上之保護層。一流動特徵構件係緊鄰於該基板,且其界定一流體進給通道、一相關聯於該等致動器至少一者且供流體流通於該流體進給通道之流體腔室、及一噴嘴該噴嘴係偏向於與該流體進給通道相對立之該流體腔室一側。一聚合物層具有一低於大約400℃之裂解溫度,其疊置於與該流體腔室相關聯之至少一該致動器之一部分,且定位於與該流體進給通道相對立之至少一該熱噴出致動器之至少一緣部相距小於大約5微米。
简体摘要：一种微流体喷头及用于延长该微流体喷头寿命之方法。该微流体喷头包括一基板,其具有复数个热喷出致动器。该等热喷出致动器各具有一电阻层及一位于电阻层上之保护层。一流动特征构件系紧邻于该基板,且其界定一流体进给信道、一相关联于该等致动器至少一者且供流体流通于该流体进给信道之流体腔室、及一喷嘴该喷嘴系偏向于与该流体进给信道相对立之该流体腔室一侧。一聚合物层具有一低于大约400℃之裂解温度,其叠置于与该流体腔室相关联之至少一该致动器之一部分,且定位于与该流体进给信道相对立之至少一该热喷出致动器之至少一缘部相距小于大约5微米。

50. 发明专利

TWI270466B 噴墨記錄頭 INK JET RECORD HEAD 有权
简体标题：喷墨记录头 INK JET RECORD HEAD
公开(公告)号：TWI270466B
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：TW092118900
申请日：2003-07-10
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：富澤惠二 TOMIZAWA, KEIJI , 村上修一 MURAKAMI, SHUICHI
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B41J2/1433 , B41J2/1404 , B41J2002/14169 , B41J2002/14387 , B41J2002/14403
摘要：本發明提供一種噴墨記錄頭，具有一噴嘴型，可有效抑制填充墨水時所發生的彎液面振動並穩定地執行釋放。
第二釋放埠部份10具有一構形，其中，藉由在氣化室11側上的一方形的一低側，方形的高側上的角度分別被些線化於垂直於其上形成有加熱器1的元件基底的主要表面的任何截面上，且穿過釋放埠4的中心點，且這些曲線被構形為具有半徑R且分別以方形的高側上的角度內接的弧形。
简体摘要：本发明提供一种喷墨记录头，具有一喷嘴型，可有效抑制填充墨水时所发生的弯液面振动并稳定地运行释放。第二释放端口部份10具有一构形，其中，借由在气化室11侧上的一方形的一低侧，方形的高侧上的角度分别被些线化于垂直于其上形成有加热器1的组件基底的主要表面的任何截面上，且穿过释放端口4的中心点，且这些曲线被构形为具有半径R且分别以方形的高侧上的角度内接的弧形。

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