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41. 发明专利

TWI419742B 塗佈處理方法及塗佈處理裝置有权
简体标题：涂布处理方法及涂布处理设备
公开(公告)号：TWI419742B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW098142123
申请日：2009-12-09
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：井關智弘 , ISEKI, TOMOHIRO , 吉原健太郎 , YOSHIHARA, KENTARO , 野田朋弘 , NODA, TOMOHIRO , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE
IPC分类号： B05D1/26 , B05C5/02
CPC分类号： B05D1/005 , G03F7/162 , H01L21/6715

42. 发明专利

TWI393173B 顯像裝置，顯像方法及記憶媒體有权
简体标题：显像设备，显像方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI393173B
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：TW099144777
申请日：2010-12-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：有馬裕 , ARIMA, HIROSHI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 吉田勇一 , YOSHIDA, YUICHI , 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/3021

43. 发明专利

TWI391991B 顯像處理方法及顯像處理裝置有权
简体标题：显像处理方法及显像处理设备
公开(公告)号：TWI391991B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW099102996
申请日：2010-02-02
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 吉田勇一 , YOSHIDA, YUICHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30

44. 发明专利

TWI623816B 塗布處理方法、電腦記錄媒體及塗布處理裝置有权
简体标题：涂布处理方法、电脑记录媒体及涂布处理设备
公开(公告)号：TWI623816B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW105106056
申请日：2016-03-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：橋本崇史 , HASHIMOTO, TAKAFUMI , 畠山真一 , HATAKEYAMA, SHINICHI , 柴田直樹 , SHIBATA, NAOKI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE
IPC分类号： G03F7/16 , H01L21/027

45. 发明专利

TWI614585B 顯像方法、顯像裝置及記憶媒體有权
简体标题：显像方法、显像设备及记忆媒体
公开(公告)号：TWI614585B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW104127191
申请日：2015-08-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：寺下裕一 , TERASHITA, YUICHI , 竹口博史 , TAKEGUCHI, HIROFUMI , 下青木剛 , SHIMOAOKI, TAKESHI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 井関智弘 , ISEKI, TOMOHIRO
IPC分类号： G03F7/16
CPC分类号： G03F7/16

46. 发明专利

TWI576940B 處理液供給裝置及處理液供給方法有权
简体标题：处理液供给设备及处理液供给方法
公开(公告)号：TWI576940B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW103133320
申请日：2014-09-25
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：高栁康治 , TAKAYANAGI, KOJI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 寺下裕一 , TERASHITA, YUICHI , 古庄智伸 , FURUSHO, TOSHINOBU , 佐佐卓志 , SASA, TAKASHI
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： F17D3/01 , F17C1/00 , Y10T137/0318 , Y10T137/794

47. 发明专利

TWI568507B 基板清洗裝置、基板清洗方法及非臨時性記憶媒體有权
简体标题：基板清洗设备、基板清洗方法及非临时性记忆媒体
公开(公告)号：TWI568507B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW103118328
申请日：2014-05-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：大河內厚 , OOKOUCHI, ATSUSHI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 一之宮博 , ICHINOMIYA, HIROSHI , 西畑廣 , NISIHATA, HIROSI , 內藤亮一郎 , NAITOU, RYOUICHIROU
IPC分类号： B08B3/02 , B05B13/04

48. 发明专利

TWI552195B 液處理裝置及液處理方法以及液處理用記憶媒體有权
简体标题：液处理设备及液处理方法以及液处理用记忆媒体
公开(公告)号：TWI552195B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW102125728
申请日：2013-07-18
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：久保田稔 , KUBOTA, MINORU , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 立花康三 , TACHIBANA, KOUZOU
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/16
CPC分类号： G03F7/16 , B05C5/0258 , B05C11/08 , B05C11/1002 , B08B3/08 , B08B3/10 , G03F7/162 , H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/67178

49. 发明专利

TW201626117A 基板處理方法、程式、電腦記憶媒體及基板處理系統审中-公开
简体标题：基板处理方法、进程、电脑记忆媒体及基板处理系统
公开(公告)号：TW201626117A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104123761
申请日：2015-07-22
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：靏田豊久 , TSURUDA, TOYOHISA , 井関智弘 , ISEKI, TOMOHIRO , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE
IPC分类号： G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/38 , H01L21/027
摘要：在顯像處理之前，以使光阻劑中之酸失活的方式，適切地進行顯像處理，並以所期望的尺寸來形成光阻圖案。一種處理基板的基板處理方法，係具有：光阻膜形成工程(工程S1)，在基板上形成光阻膜；曝光工程(工程S2)，對基板上的光阻膜進行圖案之曝光；PEB處理工程(工程S3)，對曝光工程後的基板進行加熱，藉由光阻膜中的酸使該光阻膜去保護；酸失活工程(工程S4)，對PEB處理工程後之基板上的光阻膜供給鹼溶液之蒸汽或噴霧的至少一者，使前述光阻膜的酸失活；及顯像處理工程(工程S6)，在酸失活工程後，對基板供給顯像液，而進行前述光阻膜之顯像處理。
简体摘要：在显像处理之前，以使光阻剂中之酸失活的方式，适切地进行显像处理，并以所期望的尺寸来形成光阻图案。一种处理基板的基板处理方法，系具有：光阻膜形成工程(工程S1)，在基板上形成光阻膜；曝光工程(工程S2)，对基板上的光阻膜进行图案之曝光；PEB处理工程(工程S3)，对曝光工程后的基板进行加热，借由光阻膜中的酸使该光阻膜去保护；酸失活工程(工程S4)，对PEB处理工程后之基板上的光阻膜供给碱溶液之蒸汽或喷雾的至少一者，使前述光阻膜的酸失活；及显像处理工程(工程S6)，在酸失活工程后，对基板供给显像液，而进行前述光阻膜之显像处理。

50. 发明专利

TWI540629B 液處理裝置、液處理方法及記憶媒體有权
简体标题：液处理设备、液处理方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI540629B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW102104204
申请日：2013-02-04
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：吉田勇一 , YOSHIDA, YUICHI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： G03F7/70975 , G03F7/162 , G03F7/3021 , G03F7/325 , H01L21/02052 , H01L21/02104 , H01L21/67017 , H01L21/67051 , H01L21/6715

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