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    • 42. 发明专利
    • 具有光瞳傳輸之設定的投射曝光方法與投射透鏡
    • 具有光瞳传输之设置的投射曝光方法与投射透镜
    • TW201907446A
    • 2019-02-16
    • TW107116619
    • 2018-05-16
    • 德商卡爾蔡司SMT有限公司CARL ZEISS SMT GMBH
    • 葛納 托拉夫GRUNER, TORALF
    • H01L21/027G03F7/20G02B17/08
    • 在用於以光罩(M)的圖案(PAT)的至少一影像曝光一輻射敏感基板(W)的投射曝光方法中,光罩的照明場(OF)由照明系統所提供之有具有操作波長λ的照明輻射所照明。在投射透鏡的協助下將位在照明場中的圖案的一部分投射至在基板上的影像場(IF)上,其中有助於影像場中的影像產生的所有射線在投射透鏡中形成一成像光束路徑。執行以下步驟以設定在投射透鏡的出射光瞳中的局部強度分佈:選擇投射透鏡的一光學元件(PP)的至少一光學表面(S1)作為一校正表面;以及根據一可預定局部分佈在校正表面的一光學使用區域(UA)中產生繞射結構(DS),使得繞射結構在操作期間藉由繞射將入射在繞射結構上的射線的強度的一分量導引至成像光束路徑外的非關鍵區域。
    • 在用于以光罩(M)的图案(PAT)的至少一影像曝光一辐射敏感基板(W)的投射曝光方法中,光罩的照明场(OF)由照明系统所提供之有具有操作波长λ的照明辐射所照明。在投射透镜的协助下将位在照明场中的图案的一部分投射至在基板上的影像场(IF)上,其中有助于影像场中的影像产生的所有射线在投射透镜中形成一成像光束路径。运行以下步骤以设置在投射透镜的出射光瞳中的局部强度分布:选择投射透镜的一光学组件(PP)的至少一光学表面(S1)作为一校正表面;以及根据一可预定局部分布在校正表面的一光学使用区域(UA)中产生绕射结构(DS),使得绕射结构在操作期间借由绕射将入射在绕射结构上的射线的强度的一分量导引至成像光束路径外的非关键区域。
    • 43. 发明专利
    • 用於導引自由電子雷射輸出束的光學組件
    • 用于导引自由电子激光输出束的光学组件
    • TW201903531A
    • 2019-01-16
    • TW107110055
    • 2018-03-23
    • 德商卡爾蔡司SMT有限公司CARL ZEISS SMT GMBH
    • 派崔 麥可PATRA, MICHAEL
    • G03F7/20G02B26/10G02B27/10G02B27/28
    • 光學組件(13)用以將一自由電子雷射(FEL、2)的一輸出束(2a)導引至一EUV投射曝光裝置的一下游照明光學組件(15)。光學組件(13)具有第一及第二GI反射鏡(23、25),其每一者具有將由輸出束(2a)撞擊的一結構化反射表面(24、26)。在第一GI反射鏡(23)上的第一入射角(α1)大於1mrad且小於10mrad。產生最大的第一散射角,其為第一入射角(α1)的至少50%且至多100%。在第二GI反射鏡(25)上的第二入射角(α2)為第一入射角(α1)的至少兩倍大。輸出束(2a)的最大第二散射角為第二入射角(α2)的至少30%且至多100%。兩個GI反射鏡(23、25)上的兩入射平面(yz、xy)包含相對彼此大於45°的一角度。這使得光學組件能夠可靠地導引FEL的輸出束且具有足夠的光學組成部分的使用壽命。具有兩電極的中空波導及離子化光源可為此一光學組件(13)的構成部分。具有至少一磁極靴對的磁體配置同樣可為此一光學組件(13)的構成部分。
    • 光学组件(13)用以将一自由电子激光(FEL、2)的一输出束(2a)导引至一EUV投射曝光设备的一下游照明光学组件(15)。光学组件(13)具有第一及第二GI反射镜(23、25),其每一者具有将由输出束(2a)撞击的一结构化反射表面(24、26)。在第一GI反射镜(23)上的第一入射角(α1)大于1mrad且小于10mrad。产生最大的第一散射角,其为第一入射角(α1)的至少50%且至多100%。在第二GI反射镜(25)上的第二入射角(α2)为第一入射角(α1)的至少两倍大。输出束(2a)的最大第二散射角为第二入射角(α2)的至少30%且至多100%。两个GI反射镜(23、25)上的两入射平面(yz、xy)包含相对彼此大于45°的一角度。这使得光学组件能够可靠地导引FEL的输出束且具有足够的光学组成部分的使用寿命。具有两电极的中空波导及离子化光源可为此一光学组件(13)的构成部分。具有至少一磁极靴对的磁体配置同样可为此一光学组件(13)的构成部分。
    • 46. 发明专利
    • 用於在微影圖罩的特性分析中產生參考影像的方法和裝置
    • 用于在微影图罩的特性分析中产生参考影像的方法和设备
    • TW201830129A
    • 2018-08-16
    • TW106138646
    • 2017-11-08
    • 德商卡爾蔡司SMT有限公司CARL ZEISS SMT GMBH
    • 舒密特 卡斯坦SCHMIDT, CARSTEN希邁浩斯 麥可HIMMELHAUS, MICHAEL
    • G03F1/70G03F7/20G06F17/50
    • 本發明係關於用於在微影圖罩的特性分析中產生參考影像的一種方法和一種裝置,其中該圖罩包含複數結構,且其中該參考影像係透過模擬該圖罩在一給定光學系統中的成像所產生,且係透過同時使用一嚴密模擬和使用一克希荷夫模擬,其中該方法包含下列步驟:將前述複數結構的每個結構皆擇一指定為一第一類或一第二類;透過嚴密模擬針對該第一類結構計算出複數第一部分光譜;透過一克希荷夫模擬針對該第二類結構計算出一第二部分光譜;基於該第一部分光譜和該第二部分光譜產生一混合光譜;以及透過該光學系統中前述混合光譜的一光學正向傳播產生該參考影像。
    • 本发明系关于用于在微影图罩的特性分析中产生参考影像的一种方法和一种设备,其中该图罩包含复数结构,且其中该参考影像系透过仿真该图罩在一给定光学系统中的成像所产生,且系透过同时使用一严密仿真和使用一克希荷夫仿真,其中该方法包含下列步骤:将前述复数结构的每个结构皆择一指定为一第一类或一第二类;透过严密仿真针对该第一类结构计算出复数第一部分光谱;透过一克希荷夫仿真针对该第二类结构计算出一第二部分光谱;基于该第一部分光谱和该第二部分光谱产生一混合光谱;以及透过该光学系统中前述混合光谱的一光学正向传播产生该参考影像。
    • 47. 发明专利
    • 特別用於極紫外線光微影投射曝光裝置的光學組件
    • 特别用于极紫外线光微影投射曝光设备的光学组件
    • TW201816522A
    • 2018-05-01
    • TW106131223
    • 2017-09-12
    • 德商卡爾蔡司SMT有限公司CARL ZEISS SMT GMBH
    • 埃姆 德克 海瑞奇EHM, DIRK HEINRICH卡勒 朱利安KALLER, JULIAN
    • G03F7/20G02B1/10G02B1/14
    • 本發明與一光學組件有關,特別是用於極紫外線光微影投射曝光裝置之中的光學組件,該光學組件具有一殼體,於該殼體中佈置有複數個光學元件,且在所述殼體中佈置有複數個子殼體(201-205、301-304),所述子外殼的每一者在任一情況中都包圍至少一個所述光學元件以及在該光學系統操作期間入射至該光學元件上的光束,其中該個別子殼體(201-205、301-304)的內部係透過至少一孔口連接至該個別子殼體的外部,其中所述每一個子殼體(201-205、301-304)都被分配一個個別的氣體供應器,透過所述氣體供應器該相關的子殼體(201-205、301-304)內部係能夠各自經受一各自的氣體大氣。
    • 本发明与一光学组件有关,特别是用于极紫外线光微影投射曝光设备之中的光学组件,该光学组件具有一壳体,于该壳体中布置有复数个光学组件,且在所述壳体中布置有复数个子壳体(201-205、301-304),所述子外壳的每一者在任一情况中都包围至少一个所述光学组件以及在该光学系统操作期间入射至该光学组件上的光束,其中该个别子壳体(201-205、301-304)的内部系透过至少一孔口连接至该个别子壳体的外部,其中所述每一个子壳体(201-205、301-304)都被分配一个个别的气体供应器,透过所述气体供应器该相关的子壳体(201-205、301-304)内部系能够各自经受一各自的气体大气。