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41. 发明专利

TW201910930A 投射微影中用於成像光之光束導引的光學元件审中-公开
简体标题：投射微影中用于成像光之光束导引的光学组件
公开(公告)号：TW201910930A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107123139
申请日：2018-07-04
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：波赫舒瑙言斯 , PROCHNAU, JENS , 夏費赫德克 , SCHAFFER, DIRK , 歐里克羅曼 , ORLIK, ROMAN
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
摘要：一種用於投射微影中的成像光的光束導引的光學元件(M)。光學元件(M)包含一主體(18)及由主體(18)所承載的至少一光學表面(19)。附接於主體(18)的至少一補償重量元件(20、23)係用於由重力所引起的光學表面(19)的一圖形變形的重量補償。這產生了在使用位置處具有小的圖形變形的光學元件。
简体摘要：一种用于投射微影中的成像光的光束导引的光学组件(M)。光学组件(M)包含一主体(18)及由主体(18)所承载的至少一光学表面(19)。附接于主体(18)的至少一补偿重量组件(20、23)系用于由重力所引起的光学表面(19)的一图形变形的重量补偿。这产生了在使用位置处具有小的图形变形的光学组件。

42. 发明专利

TW201907446A 具有光瞳傳輸之設定的投射曝光方法與投射透鏡审中-公开
简体标题：具有光瞳传输之设置的投射曝光方法与投射透镜
公开(公告)号：TW201907446A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107116619
申请日：2018-05-16
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G02B17/08
摘要：在用於以光罩(M)的圖案(PAT)的至少一影像曝光一輻射敏感基板(W)的投射曝光方法中，光罩的照明場(OF)由照明系統所提供之有具有操作波長λ的照明輻射所照明。在投射透鏡的協助下將位在照明場中的圖案的一部分投射至在基板上的影像場(IF)上，其中有助於影像場中的影像產生的所有射線在投射透鏡中形成一成像光束路徑。執行以下步驟以設定在投射透鏡的出射光瞳中的局部強度分佈：選擇投射透鏡的一光學元件(PP)的至少一光學表面(S1)作為一校正表面；以及根據一可預定局部分佈在校正表面的一光學使用區域(UA)中產生繞射結構(DS)，使得繞射結構在操作期間藉由繞射將入射在繞射結構上的射線的強度的一分量導引至成像光束路徑外的非關鍵區域。
简体摘要：在用于以光罩(M)的图案(PAT)的至少一影像曝光一辐射敏感基板(W)的投射曝光方法中，光罩的照明场(OF)由照明系统所提供之有具有操作波长λ的照明辐射所照明。在投射透镜的协助下将位在照明场中的图案的一部分投射至在基板上的影像场(IF)上，其中有助于影像场中的影像产生的所有射线在投射透镜中形成一成像光束路径。运行以下步骤以设置在投射透镜的出射光瞳中的局部强度分布：选择投射透镜的一光学组件(PP)的至少一光学表面(S1)作为一校正表面；以及根据一可预定局部分布在校正表面的一光学使用区域(UA)中产生绕射结构(DS)，使得绕射结构在操作期间借由绕射将入射在绕射结构上的射线的强度的一分量导引至成像光束路径外的非关键区域。

43. 发明专利

TW201903531A 用於導引自由電子雷射輸出束的光學組件审中-公开
简体标题：用于导引自由电子激光输出束的光学组件
公开(公告)号：TW201903531A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107110055
申请日：2018-03-23
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：派崔麥可 , PATRA, MICHAEL
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/10 , G02B27/10 , G02B27/28
摘要：光學組件(13)用以將一自由電子雷射(FEL、2)的一輸出束(2a)導引至一EUV投射曝光裝置的一下游照明光學組件(15)。光學組件(13)具有第一及第二GI反射鏡(23、25)，其每一者具有將由輸出束(2a)撞擊的一結構化反射表面(24、26)。在第一GI反射鏡(23)上的第一入射角(α1)大於1mrad且小於10mrad。產生最大的第一散射角，其為第一入射角(α1)的至少50%且至多100%。在第二GI反射鏡(25)上的第二入射角(α2)為第一入射角(α1)的至少兩倍大。輸出束(2a)的最大第二散射角為第二入射角(α2)的至少30%且至多100%。兩個GI反射鏡(23、25)上的兩入射平面(yz、xy)包含相對彼此大於45°的一角度。這使得光學組件能夠可靠地導引FEL的輸出束且具有足夠的光學組成部分的使用壽命。具有兩電極的中空波導及離子化光源可為此一光學組件(13)的構成部分。具有至少一磁極靴對的磁體配置同樣可為此一光學組件(13)的構成部分。
简体摘要：光学组件(13)用以将一自由电子激光(FEL、2)的一输出束(2a)导引至一EUV投射曝光设备的一下游照明光学组件(15)。光学组件(13)具有第一及第二GI反射镜(23、25)，其每一者具有将由输出束(2a)撞击的一结构化反射表面(24、26)。在第一GI反射镜(23)上的第一入射角(α1)大于1mrad且小于10mrad。产生最大的第一散射角，其为第一入射角(α1)的至少50%且至多100%。在第二GI反射镜(25)上的第二入射角(α2)为第一入射角(α1)的至少两倍大。输出束(2a)的最大第二散射角为第二入射角(α2)的至少30%且至多100%。两个GI反射镜(23、25)上的两入射平面(yz、xy)包含相对彼此大于45°的一角度。这使得光学组件能够可靠地导引FEL的输出束且具有足够的光学组成部分的使用寿命。具有两电极的中空波导及离子化光源可为此一光学组件(13)的构成部分。具有至少一磁极靴对的磁体配置同样可为此一光学组件(13)的构成部分。

44. 发明专利

TW201842401A 確定所處理光微影光罩缺陷之修復形狀的裝置及方法审中-公开
简体标题：确定所处理光微影光罩缺陷之修复形状的设备及方法
公开(公告)号：TW201842401A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107107434
申请日：2018-03-06
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：歐斯特言斯 , OSTER, JENS , 魏布林根馬庫斯 , WAIBLINGER, MARKUS
IPC分类号： G03F1/72 , G03F1/74 , G03F1/84
摘要：本發明關於用以確定用於處理一光微影光罩(100)的至少一缺陷(140)的一修復形狀(195)的方法，其包含以下步驟：(a)決定至少一缺陷(140)的修復形狀(195)的至少一校正值(185)，其中校正值(185)考慮光微影光罩(100)的至少一圖案元件(130)的一位置(175)，該至少一圖案元件沒有接觸至少一缺陷(140)；以及(b)藉由應用至少一校正值(185)來校正修復形狀(195)。
简体摘要：本发明关于用以确定用于处理一光微影光罩(100)的至少一缺陷(140)的一修复形状(195)的方法，其包含以下步骤：(a)决定至少一缺陷(140)的修复形状(195)的至少一校正值(185)，其中校正值(185)考虑光微影光罩(100)的至少一图案组件(130)的一位置(175)，该至少一图案组件没有接触至少一缺陷(140)；以及(b)借由应用至少一校正值(185)来校正修复形状(195)。

45. 发明专利

TWI636336B 具有最佳調整可能性之投影曝光裝置有权
简体标题：具有最佳调整可能性之投影曝光设备
公开(公告)号：TWI636336B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW105131563
申请日：2009-09-24
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 華特霍傑 , WALTER, HOLGER , 洛伊舒瑪斯 , ROESCH, MATTHIAS
IPC分类号： G03F7/20

46. 发明专利

TW201830129A 用於在微影圖罩的特性分析中產生參考影像的方法和裝置审中-公开
简体标题：用于在微影图罩的特性分析中产生参考影像的方法和设备
公开(公告)号：TW201830129A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106138646
申请日：2017-11-08
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：舒密特卡斯坦 , SCHMIDT, CARSTEN , 希邁浩斯麥可 , HIMMELHAUS, MICHAEL
IPC分类号： G03F1/70 , G03F7/20 , G06F17/50
摘要：本發明係關於用於在微影圖罩的特性分析中產生參考影像的一種方法和一種裝置，其中該圖罩包含複數結構，且其中該參考影像係透過模擬該圖罩在一給定光學系統中的成像所產生，且係透過同時使用一嚴密模擬和使用一克希荷夫模擬，其中該方法包含下列步驟：將前述複數結構的每個結構皆擇一指定為一第一類或一第二類；透過嚴密模擬針對該第一類結構計算出複數第一部分光譜；透過一克希荷夫模擬針對該第二類結構計算出一第二部分光譜；基於該第一部分光譜和該第二部分光譜產生一混合光譜；以及透過該光學系統中前述混合光譜的一光學正向傳播產生該參考影像。
简体摘要：本发明系关于用于在微影图罩的特性分析中产生参考影像的一种方法和一种设备，其中该图罩包含复数结构，且其中该参考影像系透过仿真该图罩在一给定光学系统中的成像所产生，且系透过同时使用一严密仿真和使用一克希荷夫仿真，其中该方法包含下列步骤：将前述复数结构的每个结构皆择一指定为一第一类或一第二类；透过严密仿真针对该第一类结构计算出复数第一部分光谱；透过一克希荷夫仿真针对该第二类结构计算出一第二部分光谱；基于该第一部分光谱和该第二部分光谱产生一混合光谱；以及透过该光学系统中前述混合光谱的一光学正向传播产生该参考影像。

47. 发明专利

TW201816522A 特別用於極紫外線光微影投射曝光裝置的光學組件审中-公开
简体标题：特别用于极紫外线光微影投射曝光设备的光学组件
公开(公告)号：TW201816522A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106131223
申请日：2017-09-12
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：埃姆德克海瑞奇 , EHM, DIRK HEINRICH , 卡勒朱利安 , KALLER, JULIAN
IPC分类号： G03F7/20 , G02B1/10 , G02B1/14
摘要：本發明與一光學組件有關，特別是用於極紫外線光微影投射曝光裝置之中的光學組件，該光學組件具有一殼體，於該殼體中佈置有複數個光學元件，且在所述殼體中佈置有複數個子殼體(201-205、301-304)，所述子外殼的每一者在任一情況中都包圍至少一個所述光學元件以及在該光學系統操作期間入射至該光學元件上的光束，其中該個別子殼體(201-205、301-304)的內部係透過至少一孔口連接至該個別子殼體的外部，其中所述每一個子殼體(201-205、301-304)都被分配一個個別的氣體供應器，透過所述氣體供應器該相關的子殼體(201-205、301-304)內部係能夠各自經受一各自的氣體大氣。
简体摘要：本发明与一光学组件有关，特别是用于极紫外线光微影投射曝光设备之中的光学组件，该光学组件具有一壳体，于该壳体中布置有复数个光学组件，且在所述壳体中布置有复数个子壳体(201-205、301-304)，所述子外壳的每一者在任一情况中都包围至少一个所述光学组件以及在该光学系统操作期间入射至该光学组件上的光束，其中该个别子壳体(201-205、301-304)的内部系透过至少一孔口连接至该个别子壳体的外部，其中所述每一个子壳体(201-205、301-304)都被分配一个个别的气体供应器，透过所述气体供应器该相关的子壳体(201-205、301-304)内部系能够各自经受一各自的气体大气。

48. 发明专利

TW201812451A 光學系統、微影裝置與方法审中-公开
简体标题：光学系统、微影设备与方法
公开(公告)号：TW201812451A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106128082
申请日：2017-08-18
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G02B3/00
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/026 , G03F7/7095
摘要：一種用於微影裝置(100A、100B)的光學系統(200)，其具有第一組件(402)、第二組件(404)、及光學元件(300)，其中光學元件(300)以力配合接合的方式保持於第一組件(402)及第二組件(404)之間並為此目的而受到一夾持力(FK)，其中組件(402、404)的其中至少一者包含接觸光學元件(300)並具有形狀記憶合金的軸承部分(412、412’、426)。
简体摘要：一种用于微影设备(100A、100B)的光学系统(200)，其具有第一组件(402)、第二组件(404)、及光学组件(300)，其中光学组件(300)以力配合接合的方式保持于第一组件(402)及第二组件(404)之间并为此目的而受到一夹持力(FK)，其中组件(402、404)的其中至少一者包含接触光学组件(300)并具有形状记忆合金的轴承部分(412、412’、426)。

49. 发明专利

TW202030762A 用於決定元件在光微影遮罩上之位置的裝置與方法审中-公开
简体标题：用于决定组件在光微影遮罩上之位置的设备与方法
公开(公告)号：TW202030762A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW109101370
申请日：2020-01-15
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：布達施麥可 , BUDACH, MICHAEL , 奧斯妮可 , AUTH, NICOLE
IPC分类号： H01J37/26 , G03F1/86 , G01M11/00
摘要：本發明關於用於決定至少一元件(130、540、940)在一光微影遮罩(110)上的位置的裝置(200)，該裝置包含：(a)至少一掃描粒子顯微鏡(210)，其包含第一參考物體(240)，其中第一參考物體(240)設置在掃描粒子顯微鏡(210)上，使得掃描粒子顯微鏡(210)可用以決定至少一元件(130、540、940)在光微影遮罩(110)上相對第一參考物體(240)的相對位置；以及(b)至少一距離量測裝置(270)，其實施以決定第一參考物體(240)和第二參考物體(250)之間的一距離，其中第二參考物體(250)與光微影遮罩(110)之間存在一關係。
简体摘要：本发明关于用于决定至少一组件(130、540、940)在一光微影遮罩(110)上的位置的设备(200)，该设备包含：(a)至少一扫描粒子显微镜(210)，其包含第一参考物体(240)，其中第一参考物体(240)设置在扫描粒子显微镜(210)上，使得扫描粒子显微镜(210)可用以决定至少一组件(130、540、940)在光微影遮罩(110)上相对第一参考物体(240)的相对位置；以及(b)至少一距离量测设备(270)，其实施以决定第一参考物体(240)和第二参考物体(250)之间的一距离，其中第二参考物体(250)与光微影遮罩(110)之间存在一关系。

50. 发明专利

TWI694311B 投影微影的光學次系統與投影微影的照明光學單元有权
简体标题：投影微影的光学次系统与投影微影的照明光学单元
公开(公告)号：TWI694311B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW104133853
申请日：2015-10-15
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：斯克瓦伯馬可斯 , SCHWAB, MARKUS , 穆勒勞夫
IPC分类号： G03F7/20

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