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31. 发明专利

TW201029020A 聚合性導電施體及轉移方法 POLYMERIC CONDUCTIVE DONOR AND TRANSFER METHOD 审中-公开
简体标题：聚合性导电施体及转移方法 POLYMERIC CONDUCTIVE DONOR AND TRANSFER METHOD
公开(公告)号：TW201029020A
公开(公告)日：2010-08-01
申请号：TW098138290
申请日：2009-11-11
申请人：柯達公司
发明人：馬加達迪貝斯 , 厄爾文葛倫C 二世 , 圖特里W , 佛立曼蓋瑞S
IPC分类号： H01B , G06F
CPC分类号： H05K3/046 , H01G11/48 , H01L51/0021 , H01L51/003 , H01L51/0037 , H05K2201/0209 , H05K2201/0329 , H05K2203/0528 , H05K2203/107 , Y02E60/13 , Y10T428/1055 , Y10T428/25 , Y10T428/259
摘要：本發明係關於一種用於轉移導電層之施體壓層，其具有透明基板及導電層，該導電層包含至少一種以至少40重量％之量存在的導電聚合物、聚陰離子及平均粒徑小於100奈米之無機顆粒(奈米顆粒)。可使用該施體壓層以將該導電層轉移至適宜接收器元件來製備各種電子裝置。
简体摘要：本发明系关于一种用于转移导电层之施体压层，其具有透明基板及导电层，该导电层包含至少一种以至少40重量％之量存在的导电聚合物、聚阴离子及平均粒径小于100奈米之无机颗粒(奈米颗粒)。可使用该施体压层以将该导电层转移至适宜接收器组件来制备各种电子设备。

32. 发明专利

TWI304509B 供LCD製造之不具有聚醯亞胺之配向層及其製造方法 POLYIMIDE-FREE ALIGNMENT LAYER FOR LCD FABRICATION AND METHOD 有权
简体标题：供LCD制造之不具有聚酰亚胺之配向层及其制造方法 POLYIMIDE-FREE ALIGNMENT LAYER FOR LCD FABRICATION AND METHOD
公开(公告)号：TWI304509B
公开(公告)日：2008-12-21
申请号：TW091107464
申请日：2002-04-12
申请人：洛克威爾科學認證責任有限公司 ROCKWELL SCIENTIFIC LICENSING, LLC
发明人：古東蜂 DONG-FENG GU , 鍾永 YOUNG CHUNG , 連哈爾 LEN HALE
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02F1/133711 , G02B5/3016 , G02F1/13363 , G02F1/133634 , G02F2001/133633 , G02F2001/133726 , G02F2413/04 , G02F2413/10 , G02F2413/11 , Y10T428/10 , Y10T428/1005 , Y10T428/1055 , Y10T428/1086
摘要：一種便宜之不具有聚醯亞胺之配向層具有一環氧樹脂與反應性液晶材料用於製造液晶顯示器(LCDs)。此配向層可加諸在先前之配向層,而不會破壞下層的校準,因此允許補償膜堆疊之整體(monolithic)製造,而無需膜轉換貼合。
简体摘要：一种便宜之不具有聚酰亚胺之配向层具有一环氧树脂与反应性液晶材料用于制造液晶显示器(LCDs)。此配向层可加诸在先前之配向层,而不会破坏下层的校准,因此允许补偿膜堆栈之整体(monolithic)制造,而无需膜转换贴合。

33. 发明专利

TW200744837A 黏土薄膜基板、附設有電極之黏土薄膜基板、及使用這些基板的顯示元件 CLAY MEMBRANE BASE SHEET, CLAY MEMBRANE BASE SHEET WITH ELECTRODE, AND DISPLAY ELEMENT USING THEM 审中-公开
简体标题：黏土薄膜基板、附设有电极之黏土薄膜基板、及使用这些基板的显示组件 CLAY MEMBRANE BASE SHEET, CLAY MEMBRANE BASE SHEET WITH ELECTRODE, AND DISPLAY ELEMENT USING THEM
公开(公告)号：TW200744837A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW095134813
申请日：2006-09-20
申请人：巴川製紙所股份有限公司 TOMOEGAWA CO., LTD , 獨立行政法人產業技術總合研究所 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：井上智仁 INOUE, TOMOHITO , 津田統 TSUDA, HAJIME , 茂木克己 MOTEGI, KATSUMI , 名武雄 EBINA, TAKEO , 水上富士夫 MIZUKAMI, FUJIO
IPC分类号： B32B , H05B
CPC分类号： H01L51/52 , C04B35/597 , C04B41/009 , C04B41/5035 , C04B41/52 , C04B2111/00275 , C04B2111/28 , C04B2235/963 , C23C16/401 , G02F1/133305 , G02F2001/133302 , H01L51/0097 , H01L51/5256 , H01L51/5262 , Y02E10/549 , Y10T428/1055 , Y10T428/1086 , Y10T428/1095 , C04B14/106 , C04B41/4531 , C04B41/0045 , C04B41/483 , C04B41/522 , C04B41/4533
摘要：本發明的目的在於提供一種表面平坦性與氣體隔絕性提高了的黏土薄膜基板,以及使用該黏土薄膜基板的顯示元件。於本發明中,為解決該問題,而使黏土薄膜基板其在具有黏土粒子定向堆疊構造的黏土薄膜11的至少一面上,堆疊了氣體隔絕無機質層12。又,其他黏土薄膜基板中,在具有黏土粒子定向堆疊構造的黏土薄膜的至少一面上,堆疊了平坦化無機質層或是有機聚合物層,並且在該平坦化無機質層或是有機聚合物層上,堆疊了氣體隔絕無機質層。氣體隔絕無機質層係由含氮的氧化矽膜所構成,平坦化無機質層係由含碳的氧化矽膜所構成。該等黏土薄膜基板可以適當的使用在電致發光(EL)顯示元件以及液晶顯示元件的基板上。
简体摘要：本发明的目的在于提供一种表面平坦性与气体隔绝性提高了的黏土薄膜基板,以及使用该黏土薄膜基板的显示组件。于本发明中,为解决该问题,而使黏土薄膜基板其在具有黏土粒子定向堆栈构造的黏土薄膜11的至少一面上,堆栈了气体隔绝无机质层12。又,其他黏土薄膜基板中,在具有黏土粒子定向堆栈构造的黏土薄膜的至少一面上,堆栈了平坦化无机质层或是有机聚合物层,并且在该平坦化无机质层或是有机聚合物层上,堆栈了气体隔绝无机质层。气体隔绝无机质层系由含氮的氧化硅膜所构成,平坦化无机质层系由含碳的氧化硅膜所构成。该等黏土薄膜基板可以适当的使用在电致发光(EL)显示组件以及液晶显示组件的基板上。

34. 发明专利

TW200736353A 用於極化膜及用以製造抗靜電極化膜之抗靜電塗層合成物 ANTISTATIC COATING COMPOSITION FOR POLARIZER FILM AND ANTISTATIC POLARIZER FILM USING THE SAME 审中-公开
简体标题：用于极化膜及用以制造抗静电极化膜之抗静电涂层合成物 ANTISTATIC COATING COMPOSITION FOR POLARIZER FILM AND ANTISTATIC POLARIZER FILM USING THE SAME
公开(公告)号：TW200736353A
公开(公告)日：2007-10-01
申请号：TW096108551
申请日：2007-03-13
申请人：徐光錫 SUH, KWANG SUCK
发明人：徐光錫 SUH, KWANG SUCK , 金宗筠 KIM, JONG EMN , 金泰雍 KIM, TAE YOUNG , 金萬忠 KIM, WON JUNG , 李泰希 LEE, TAE HEE
IPC分类号： C09D , C08J , G02B
CPC分类号： C09D5/24 , C09K3/16 , Y02P20/582 , Y10T428/1055
摘要：本發明揭示一種用於極化膜之抗靜電塗層合成物以混入極化膜之表面使液晶顯示器(liquid crystal displays)具有抗靜電功效。此合成物係不必另增表面處理而加於極化膜之表面上,然後予以乾燥,以生產高信賴度之抗靜電極化膜,此抗靜電極化膜在極化膜及黏著層之間具有很强之黏著强度及於極化膜附著于玻璃或透明聚合物基板然後自此基板分開時不致有極化膜黏著層附著。
简体摘要：本发明揭示一种用于极化膜之抗静电涂层合成物以混入极化膜之表面使液晶显示器(liquid crystal displays)具有抗静电功效。此合成物系不必另增表面处理而加于极化膜之表面上,然后予以干燥,以生产高信赖度之抗静电极化膜,此抗静电极化膜在极化膜及黏着层之间具有很强之黏着强度及于极化膜附着于玻璃或透明聚合物基板然后自此基板分开时不致有极化膜黏着层附着。

35. 发明专利

TW354832B 電子裝置失效
简体标题：电子设备
公开(公告)号：TW354832B
公开(公告)日：1999-03-21
申请号：TW084106500
申请日：1994-04-02
申请人：精工愛普生股份有限公司
发明人：飯?英仁
IPC分类号： G02F
CPC分类号： C09K19/544 , G02F1/1334 , G02F2001/13324 , G02F2001/13345 , G02F2001/13347 , Y10T428/10 , Y10T428/1055 , Y10T428/1059
摘要：本發明之電子裝置，其特徵為：
以疊層具備顯示功能的顯示機器及液晶顯示元件所構成，
前述液晶顯示元件係夾持液晶高分子複合層於一對基板間所構成，
前述液晶高分子複合層係由液晶分子和高分子所構成，而前述高分子係形成分散於前述液晶分子中，
當無施加電壓之狀態下，前述液晶分子和前述高分子朝概略同一方向成扭轉取向而顯示透射狀態，
而在施加有電壓之狀態下，前述液晶分子和前述高分子排列成不同方向而顯示光散射狀態，
並由前述機器之顯示及前述液晶顯示元件之顯示而進行顯示。
简体摘要：本发明之电子设备，其特征为：以叠层具备显示功能的显示机器及液晶显示组件所构成，前述液晶显示组件系夹持液晶高分子复合层于一对基板间所构成，前述液晶高分子复合层系由液晶分子和高分子所构成，而前述高分子系形成分散于前述液晶分子中，当无施加电压之状态下，前述液晶分子和前述高分子朝概略同一方向成扭转取向而显示透射状态，而在施加有电压之状态下，前述液晶分子和前述高分子排列成不同方向而显示光散射状态，并由前述机器之显示及前述液晶显示组件之显示而进行显示。

36. 发明专利

TWI488745B 雙層各向異性導電膜和包括該導電膜的裝置有权
简体标题：双层各向异性导电膜和包括该导电膜的设备
公开(公告)号：TWI488745B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW100143329
申请日：2011-11-25
申请人：第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
发明人：朴永祐 , PARK, YOUNG WOO , 柳亞朗A , YU, ARUM AMY , 金南柱 , KIM, NAM JU , 崔賢民 , CHOI, HYUN MIN , 朴鎮晟 , PARK, JIN SEONG , 魚東善 , UH, DONG SEON
IPC分类号： B32B27/38 , C08L101/12 , C08L63/00 , H05K3/32
CPC分类号： H05K3/323 , B32B7/02 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/26 , B32B27/38 , B32B2250/02 , B32B2250/24 , B32B2264/102 , B32B2264/12 , B32B2307/202 , B32B2307/706 , B32B2457/202 , C08J5/18 , C08J2363/00 , C09J163/00 , G02F1/13452 , H01R4/04 , Y10T428/1055

37. 发明专利

TW201333976A 透明導電性膜审中-公开
简体标题：透明导电性膜
公开(公告)号：TW201333976A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101150630
申请日：2012-12-27
申请人：捷恩智股份有限公司 , JNC CORPORATION
发明人：森本芳孝 , MORIMOTO, YOSHITAKA , 田仲拓郎 , TANAKA, TAKURO , 大熊康之 , OHGUMA, KOJI , 黑松亜紀 , KUROMATSU, AKI
IPC分类号： H01B1/20 , H01B5/14
CPC分类号： H05K1/0274 , C08J7/045 , C08J2367/02 , C08J2433/04 , G02F1/13338 , G06F3/041 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , H05K1/0298 , H05K1/0313 , H05K2201/0108 , H05K2201/0323 , H05K2201/0326 , Y10T428/1055
摘要：本發明是在經多層構成的透明導電性膜中，提供提高了視認性的透明導電性膜。透明導電性膜10具備：由膜狀高分子樹脂形成的透明的基材11；積層於基材11的一面上的第1硬塗層12；積層於第1硬塗層12的上側的第1透明導電體層14。基材11具有2μm~250μm的膜厚。第1硬塗層12由含有無機氧化物的硬化性樹脂形成，具有0.01μm以上且小於0.5μm、或超過6μm且10μm以下的膜厚。第1透明導電體層14由選自由無機氧化物、金屬、碳所組成的組群中的至少1種形成，具有10nm~2μm的膜厚，且經圖案化而形成有圖案部與非圖案部。
简体摘要：本发明是在经多层构成的透明导电性膜中，提供提高了视认性的透明导电性膜。透明导电性膜10具备：由膜状高分子树脂形成的透明的基材11；积层于基材11的一面上的第1硬涂层12；积层于第1硬涂层12的上侧的第1透明导电体层14。基材11具有2μm~250μm的膜厚。第1硬涂层12由含有无机氧化物的硬化性树脂形成，具有0.01μm以上且小于0.5μm、或超过6μm且10μm以下的膜厚。第1透明导电体层14由选自由无机氧化物、金属、碳所组成的组群中的至少1种形成，具有10nm~2μm的膜厚，且经图案化而形成有图案部与非图案部。

38. 发明专利

TWI394814B 黏著薄膜有权
简体标题：黏着薄膜
公开(公告)号：TWI394814B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW095126951
申请日：2006-07-24
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：金丸美佳 , KANAMARU, MIKA , 岡田研一 , OKADA, KENICHI , 高橋俊貴 , TAKAHASHI, TOSHITAKA
IPC分类号： C09J7/02 , C09J9/02 , C09J11/06 , C09J133/04 , G02F1/1335
CPC分类号： B32B33/00 , B32B7/12 , B32B2307/21 , C08K5/56 , C09J7/22 , C09J7/29 , C09J7/38 , C09J2201/128 , C09J2201/162 , C09J2205/106 , C09J2433/00 , G02F2201/50 , G02F2202/22 , G02F2202/28 , Y10T428/1036 , Y10T428/105 , Y10T428/1055 , Y10T428/1059 , Y10T428/1077 , Y10T428/2843 , Y10T428/2848 , Y10T428/2852 , Y10T428/2891 , Y10T428/31935

39. 发明专利

TW201213136A 透明導電性膜及其製造方法 TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：透明导电性膜及其制造方法 TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201213136A
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW100124257
申请日：2011-07-08
申请人： JNC股份有限公司
发明人：田仲拓郎 , 中川泰彥 , 飯塚洋介 , 大熊康之 , 山廣幹夫
IPC分类号： B32B , H01B
CPC分类号： H05K1/0313 , C08J7/042 , C08J2367/02 , C08J2433/00 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , H05K3/0064 , Y10T156/10 , Y10T428/1055
摘要：提供一種透明導電體層之圖案形狀並不醒目、辨識度良好之多層結構之透明導電性膜。該膜具備：由膜狀高分子樹脂而形成之透明基材11；於基材11上所積層之第1硬塗層12；於第1硬塗層12上視需要而積層之第1透明介電質層13；於第1透明介電質層13上所積層之第1透明導電體層14。基材11具有2 μm～250 μm之膜厚。第1硬塗層12由含有無機氧化物之硬化性樹脂而形成，具有1.40～1.90之折射率及0.5 μm～6 μm之膜厚。第1透明介電質層13由無機物而形成，具有1.30～1.50之折射率及10 nm～50 nm之膜厚。第1透明導電體層14由選自由無機氧化物、金屬、碳所構成之群組之至少1種而形成，進行了圖案化且具有10 nm～2 μm之膜厚。
简体摘要：提供一种透明导电体层之图案形状并不醒目、辨识度良好之多层结构之透明导电性膜。该膜具备：由膜状高分子树脂而形成之透明基材11；于基材11上所积层之第1硬涂层12；于第1硬涂层12上视需要而积层之第1透明介电质层13；于第1透明介电质层13上所积层之第1透明导电体层14。基材11具有2 μm～250 μm之膜厚。第1硬涂层12由含有无机氧化物之硬化性树脂而形成，具有1.40～1.90之折射率及0.5 μm～6 μm之膜厚。第1透明介电质层13由无机物而形成，具有1.30～1.50之折射率及10 nm～50 nm之膜厚。第1透明导电体层14由选自由无机氧化物、金属、碳所构成之群组之至少1种而形成，进行了图案化且具有10 nm～2 μm之膜厚。

40. 发明专利

TW201211204A 光活性組成物及以該組成物製成之電子裝置 PHOTOACTIVE COMPOSITION AND ELECTRONIC DEVICE MADE WITH THE COMPOSITION 审中-公开
简体标题：光活性组成物及以该组成物制成之电子设备 PHOTOACTIVE COMPOSITION AND ELECTRONIC DEVICE MADE WITH THE COMPOSITION
公开(公告)号：TW201211204A
公开(公告)日：2012-03-16
申请号：TW100130236
申请日：2011-08-24
申请人：杜邦股份有限公司
发明人：高偉易 , 赫倫諾曼
IPC分类号： C09K , C07F , H01L
CPC分类号： H01L51/0072 , B32B2457/206 , C09K11/06 , C09K2211/185 , H01L51/0054 , H01L51/006 , H01L51/0085 , H01L51/5028 , H01L2251/552 , H05B33/14 , H05B33/20 , Y10T428/1055
摘要：所提供者為一種光活性組成物，包括：(a)以該光活性組成物之總重量計，50至99 wt%的至少一主體材料，其具有一HOMO能階；(b)以該光活性組成物之總重量計，1至10 wt%的一發光摻雜劑；以及(c)以該光活性組成物之總重量計，0.1至10 wt%的一非發光摻雜劑。該非發光摻雜劑為一具有一較該主體之HOMO能階更淺的HOMO能階之有機金屬銥錯合物。
简体摘要：所提供者为一种光活性组成物，包括：(a)以该光活性组成物之总重量计，50至99 wt%的至少一主体材料，其具有一HOMO能阶；(b)以该光活性组成物之总重量计，1至10 wt%的一发光掺杂剂；以及(c)以该光活性组成物之总重量计，0.1至10 wt%的一非发光掺杂剂。该非发光掺杂剂为一具有一较该主体之HOMO能阶更浅的HOMO能阶之有机金属铱错合物。

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