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31. 发明专利

TW201217410A 觸媒組成物，使用觸媒組成物之降冰片烯系共聚物之製造方法，及降冰片烯系共聚物，與使用該共聚物之耐熱薄膜审中-公开
简体标题：触媒组成物，使用触媒组成物之降冰片烯系共聚物之制造方法，及降冰片烯系共聚物，与使用该共聚物之耐热薄膜
公开(公告)号：TW201217410A
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW100126784
申请日：2011-07-28
申请人：普利司通股份有限公司
发明人：會田昭二郎 , 塔迪夫奧利維爾
IPC分类号： C08F , C08J
CPC分类号： C08F222/26 , C08F4/65908 , C08F232/04 , C08F232/08 , C08F4/70 , C08F4/61925
摘要：本發明係提供可有效率製造具有極性基之降冰片烯化合物的高分子量加成共聚物之觸媒組成物，使用該觸媒組成物之降冰片烯化合物的高分子量加成共聚物之製造方法，該共聚物，及使用該共聚物之薄膜。含有使用於具有極性基之降冰片烯系共聚合之主觸媒(A)與助觸媒(B)之觸媒組成物中，主觸媒(A)為一般式(1)：MLnK1xK2yK3z…(1)(式中，M為周期表第8屬元素、第9屬元素及第10屬元素中所選出之1種過渡金屬，L為含有環戊二烯環之環戊二烯基系配位基，K1、K2及K3為相互不同之陰性配位基或中性配位基，n為0至2之整數，x、y及z各自為包含0之整數，此等之和為1至7)所表示之錯合物，助觸媒(B)為與主觸媒(A)反應可生成陽離子性過渡金屬化合物之離子性化合物(a)。
简体摘要：本发明系提供可有效率制造具有极性基之降冰片烯化合物的高分子量加成共聚物之触媒组成物，使用该触媒组成物之降冰片烯化合物的高分子量加成共聚物之制造方法，该共聚物，及使用该共聚物之薄膜。含有使用于具有极性基之降冰片烯系共聚合之主触媒(A)与助触媒(B)之触媒组成物中，主触媒(A)为一般式(1)：MLnK1xK2yK3z…(1)(式中，M为周期表第8属元素、第9属元素及第10属元素中所选出之1种过渡金属，L为含有环戊二烯环之环戊二烯基系配位基，K1、K2及K3为相互不同之阴性配位基或中性配位基，n为0至2之整数，x、y及z各自为包含0之整数，此等之和为1至7)所表示之错合物，助触媒(B)为与主触媒(A)反应可生成阳离子性过渡金属化合物之离子性化合物(a)。

32. 发明专利

TW201215624A 共聚物 COPOLYMERS 审中-公开
公开(公告)号：TW201215624A
公开(公告)日：2012-04-16
申请号：TW100130333
申请日：2011-08-24
申请人：陶氏全球科技有限責任公司
发明人：穆琳斯麥克J , 廖桂紅 , 張朝 , 熊家文 , 陳紅宇
IPC分类号： C08F , C08L , C08G
CPC分类号： C08L45/00 , C08F212/08 , C08F222/08 , C08F232/08 , C08G59/4261 , C08L63/00 , C09D133/068 , C08F232/04
摘要：實施例包括可藉由將苯乙烯類化合物、順丁烯二酸酐及一種環烯烴反應而製得之共聚物，其中該環烯烴係選自由雙環戊二烯、雙環戊二烯衍生物、降莰烯、降莰烯衍生物及其組合物所組成之群組。實施例包括具有該共聚物、一種環氧化合物及一溶劑之可固化性組成物。
简体摘要：实施例包括可借由将苯乙烯类化合物、顺丁烯二酸酐及一种环烯烃反应而制得之共聚物，其中该环烯烃系选自由双环戊二烯、双环戊二烯衍生物、降莰烯、降莰烯衍生物及其组合物所组成之群组。实施例包括具有该共聚物、一种环氧化合物及一溶剂之可固化性组成物。

33. 发明专利

TW201202280A 加成共聚物，感光性樹脂組成物及彩色濾光器 ADDITION COPOLYMERS, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS AND COLOR FILTERS 审中-公开
简体标题：加成共聚物，感光性树脂组成物及彩色滤光器 ADDITION COPOLYMERS, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS AND COLOR FILTERS
公开(公告)号：TW201202280A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW100112326
申请日：2011-04-08
申请人：昭和電工股份有限公司
发明人：木下健宏 , 小森康廣 , 川口恭章
IPC分类号： C08F , C08K , G03F , G02B
CPC分类号： C08F220/28 , C08F212/12 , C08F222/1006 , C08F290/12 , C08F2220/281 , G03F7/0007 , G03F7/033 , C08F212/08 , C08F232/04
摘要：本發明係一種感光性樹脂組成物，其特徵為：含有加成共聚物(A)與溶劑(B)，該加成共聚物(A)，係在使具有碳數10～20之架橋環式烴基之單體(a-1)及/或下述一般式(1)所表示之單體(a-1')2～60莫耳%、
(式中，X及Y各自獨立，表示氫原子、或者碳數1～4之直鏈或支鏈之烴基，R 1 及R 2 各自獨立，表示氫原子、碳數1～20之烴基或羧基，R 1 及R 2 可形成連結的環狀構造)不飽和多元酸酐(a-2)30～88莫耳%、以及(a-1)、(a-1')及(a-2)以外之可共聚合的單體(a-3)10～68莫耳%進行共聚合而得之共聚物，加成具有羥基的單體(a-4)。此感光性樹脂組成物，可產生靈敏度或顯像性良好，同時耐熱分解性及耐溶劑性優異的著色圖型。
简体摘要：本发明系一种感光性树脂组成物，其特征为：含有加成共聚物(A)与溶剂(B)，该加成共聚物(A)，系在使具有碳数10～20之架桥环式烃基之单体(a-1)及/或下述一般式(1)所表示之单体(a-1')2～60莫耳%、 (式中，X及Y各自独立，表示氢原子、或者碳数1～4之直链或支链之烃基，R 1 及R 2 各自独立，表示氢原子、碳数1～20之烃基或羧基，R 1 及R 2 可形成链接的环状构造)不饱和多元酸酐(a-2)30～88莫耳%、以及(a-1)、(a-1')及(a-2)以外之可共聚合的单体(a-3)10～68莫耳%进行共聚合而得之共聚物，加成具有羟基的单体(a-4)。此感光性树脂组成物，可产生灵敏度或显像性良好，同时耐热分解性及耐溶剂性优异的着色图型。

34. 发明专利

TW201035066A 甲代丙烯酸酯化合物、光敏聚合物及包括該聚合物之抗蝕組成物 (METH) ACRYLATE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE POLYMER, AND RESIST COMPOSITION INCLUDING THE SAME 审中-公开
简体标题：甲代丙烯酸酯化合物、光敏聚合物及包括该聚合物之抗蚀组成物 (METH) ACRYLATE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE POLYMER, AND RESIST COMPOSITION INCLUDING THE SAME
公开(公告)号：TW201035066A
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：TW098145848
申请日：2009-12-30
申请人：第一毛織股份有限公司
发明人：崔相俊 , 李聖宰 , 崔承集
IPC分类号： C07D , C07C , C08F , G03F
CPC分类号： C07C69/67 , C07C2603/74 , C07D307/33 , C08F232/04 , C08F232/08 , G03F7/0397
摘要：一種具有酸性不穩定酯基之(甲代)丙烯酸酯化合物、光敏聚合物及包括該聚合物之光阻組成物，該(甲代)丙烯酸酯化合物由下列化學式I表示
其中，R1為氫或甲基，R2及R3各自獨立為一取代之或未取代之線性烷基、取代之或未取代之環烷基，或彼此聯結以形成一環或一融合環，及R4為一線性酯或環酯基。
简体摘要：一种具有酸性不稳定酯基之(甲代)丙烯酸酯化合物、光敏聚合物及包括该聚合物之光阻组成物，该(甲代)丙烯酸酯化合物由下列化学式I表示其中，R1为氢或甲基，R2及R3各自独立为一取代之或未取代之线性烷基、取代之或未取代之环烷基，或彼此联结以形成一环或一融合环，及R4为一线性酯或环酯基。

35. 发明专利

TW200609256A 用於環烯烴之聚合作用及共聚合作用之觸媒錯合物 CATALYST COMPLEXES FOR POLYMERIZATION AND CO-POLYMERIZATION OF CYCLIC OLEFINS 失效
简体标题：用于环烯烃之聚合作用及共聚合作用之触媒错合物 CATALYST COMPLEXES FOR POLYMERIZATION AND CO-POLYMERIZATION OF CYCLIC OLEFINS
公开(公告)号：TW200609256A
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：TW094107630
申请日：2005-03-14
申请人：羅門哈斯公司 ROHM AND HAAS COMPANY
发明人：布萊恩L 辜道 GOODALL, BRIAN L. , 萊斯特霍華麥克因特希三世 MCINTOSH, LESTER HOWARD, III
IPC分类号： C08F , G03F
CPC分类号： C08F32/04 , C08F4/70 , C08F120/14 , C08F232/04 , C08F220/14
摘要：本發明揭示一種聚合及共聚合諸如降冰片烯之環烯烴之方法。所揭示之方法使用顯示對環烯烴之聚合作用及共聚合作用之高活性及經改良之對熱、氧氣及濕氣之穩定性之觸媒錯合物。094107630-p01.bmp
简体摘要：本发明揭示一种聚合及共聚合诸如降冰片烯之环烯烃之方法。所揭示之方法使用显示对环烯烃之聚合作用及共聚合作用之高活性及经改良之对热、氧气及湿气之稳定性之触媒错合物。094107630-p01.bmp

36. 发明专利

TW576951B 用於甲矽烷作用之上部表面成像方法之光阻劑聚合物及含其之光阻劑組成物失效
简体标题：用于甲硅烷作用之上部表面成像方法之光阻剂聚合物及含其之光阻剂组成物
公开(公告)号：TW576951B
公开(公告)日：2004-02-21
申请号：TW090114935
申请日：2001-06-20
申请人：海力士半導體股份有限公司 HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人：李根守 GEUN SU LEE , 高次元 CHA WON KOH , 鄭載昌 JAE CHANG JUNG , 鄭旼鎬 MIN HO JUNG , 白基鎬 KI HO BAIK
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/265 , C08F8/00 , C08F8/14 , C08F222/06 , C08F232/00 , C08F232/04 , C08F232/08 , G03F7/0395 , G03F7/38 , Y10S430/106 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , C08F2220/281 , C08F220/06 , C08F222/14 , C08F222/1006
摘要：揭示一種用在經由甲矽烷作用(TIPS)的上部表面成像方法中之光阻劑聚合物，及含其之光阻劑組成物。光阻劑聚合物之保護基在曝光區域上被選擇性保護且因此產生羥基。羥基與甲矽烷劑反應以導致甲矽烷程序。因此，當光阻劑膜被乾顯影時，只保留曝光區域以形成負型圖案。此外，光阻劑組成物對基板具有極佳黏著性，因此避免在形成微細圖案時圖案破壞。結果，光阻劑組成物適用於使用 ArF(193nm)，VUV(157nm)及EUV(13nm)作為光源之微影方法中。式1
简体摘要：揭示一种用在经由甲硅烷作用(TIPS)的上部表面成像方法中之光阻剂聚合物，及含其之光阻剂组成物。光阻剂聚合物之保护基在曝光区域上被选择性保护且因此产生羟基。羟基与甲硅烷剂反应以导致甲硅烷进程。因此，当光阻剂膜被干显影时，只保留曝光区域以形成负型图案。此外，光阻剂组成物对基板具有极佳黏着性，因此避免在形成微细图案时图案破坏。结果，光阻剂组成物适用于使用 ArF(193nm)，VUV(157nm)及EUV(13nm)作为光源之微影方法中。式1

37. 发明专利

TW546538B 正型光阻劑共聚物及使用其的光阻劑組成物失效
简体标题：正型光阻剂共聚物及使用其的光阻剂组成物
公开(公告)号：TW546538B
公开(公告)日：2003-08-11
申请号：TW087120806
申请日：1998-12-15
申请人：現代電子產業股份有限公司
发明人：鄭旼鎬 , 高次元 , 金亨基
IPC分类号： G03F
CPC分类号： C08F232/04 , C07C69/753 , C08F222/06
摘要：本發明關於一種作為使用於超短波長光源如氟化氪或氟化氬之光阻劑之共聚物樹脂，其製備方法，及使用其所製成的光阻劑。經由導入2，3－二－第三丁基－5－原冰片烯－2，3－二羧酸酯單元至原冰片烯－順丁烯二酸酐共聚物之結構中，根據本發明之共聚物樹脂可經由傳統自由基聚合作用而被容易地製備，在193nm波長具有高透明性，提供增加的抗蝕刻性，由於在共聚物樹脂中之保護比例增加而防止尖端損失現象及增加黏著強度，且顯示0.13μm之優良解析度。
简体摘要：本发明关于一种作为使用于超短波长光源如氟化氪或氟化氩之光阻剂之共聚物树脂，其制备方法，及使用其所制成的光阻剂。经由导入2，3－二－第三丁基－5－原冰片烯－2，3－二羧酸酯单元至原冰片烯－顺丁烯二酸酐共聚物之结构中，根据本发明之共聚物树脂可经由传统自由基聚合作用而被容易地制备，在193nm波长具有高透明性，提供增加的抗蚀刻性，由于在共聚物树脂中之保护比例增加而防止尖端损失现象及增加黏着强度，且显示0.13μm之优良分辨率。

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