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    • 32. 发明专利
    • 銅微粒子及其製造方法 COPPER FINE PARTICLES AND METHOD FOR PREPARING THE SAME
    • 铜微粒子及其制造方法 COPPER FINE PARTICLES AND METHOD FOR PREPARING THE SAME
    • TW200609064A
    • 2006-03-16
    • TW094128443
    • 2005-08-19
    • 石原產業股份有限公司 ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.
    • 友成雅則 TOMONARI, MASANORI本間昌利 HONMA, MASATOSHI國房義之 KUNIFUSA, YOSHIYUKI
    • B22F
    • B22F9/20H05K1/092
    • 本發明提供一種銅微粒子,其為微細且幾乎不含凝聚粒子之銅微粒子;例如以電子顯微鏡測定的平均粒徑(D)為0.005~2.0μm之範圍,以動態光散射法粒度分佈測定裝置測定之平均徑粒(d)為0.005~2.0μm之範圍,且d/D為0.7~2之範圍。在錯合劑及保護膠體之存在下,使二價之銅氧化物、與還原劑在溶劑中混合,能製造無須由二價之銅氧化物生成一價的銅氧化物之銅微粒子。又,在錯合劑及蛋白質等保護膠體之存在下,使二價之銅氧化物還原生成金屬銅微粒後,添加蛋白質分解酵素等保護膠體去除劑,去除保護膠體,使金屬銅微粒子凝集;接著,使用加壓過濾機、真空過濾機、吸濾機等予以過濾。
    • 本发明提供一种铜微粒子,其为微细且几乎不含凝聚粒子之铜微粒子;例如以电子显微镜测定的平均粒径(D)为0.005~2.0μm之范围,以动态光散射法粒度分布测定设备测定之平均径粒(d)为0.005~2.0μm之范围,且d/D为0.7~2之范围。在错合剂及保护胶体之存在下,使二价之铜氧化物、与还原剂在溶剂中混合,能制造无须由二价之铜氧化物生成一价的铜氧化物之铜微粒子。又,在错合剂及蛋白质等保护胶体之存在下,使二价之铜氧化物还原生成金属铜微粒后,添加蛋白质分解酶等保护胶体去除剂,去除保护胶体,使金属铜微粒子凝集;接着,使用加压过滤机、真空过滤机、吸滤机等予以过滤。
    • 34. 发明专利
    • 有害生物防除組成物及有害生物之防除方法
    • 有害生物防除组成物及有害生物之防除方法
    • TW200528028A
    • 2005-09-01
    • TW094101881
    • 2005-01-21
    • 石原產業股份有限公司 ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.
    • 今井修 IMAI, OSAMU吉村秀司 YOSHIMURA, HIDESHI
    • A01N
    • A01N57/12A01N57/32A01N57/14A01N47/38A01N47/04A01N43/88A01N43/80A01N43/40A01N43/16A01N37/46A01N37/34A01N37/22A01N2300/00
    • 提供同時提高防除棲息於土壤及/或種子中害蟲的效果,及防除土壤及/或種子傳染性病害的效果之有害生物防除組成物及防除方法。以含有至少1種選自硫代仲丁基氧–乙基2–羰基–1,3–唑啶–3–基硫代膦酸酯(S–sec–butyl O–ethyl 2–oxo–1,3–thiazolidin–3–ylphosphonothioate)、氧–乙基–硫代正丙基(2–氰亞胺基–3–甲基–咪唑啶–1–基)硫磷酸酯(O–ethyl–S–n–propyl(2–cyanoimino–3–ethyl–imidazolidin–1–yl)phosphonothiolate)及S,S–二仲丁基氧–乙基二硫代磷酸酯(S,S–di–sec–butyl O–ethyl phosphorodithioate)所成群之有機磷系化合物,以及至少1種選自扶吉胺(Fluazinam)、免賴得(Benomyl)、甲基立枯磷(Tolclofos–methyl)、滅達樂(Metalaxyl)、蓋普丹(Captan)、依普同(Iprodione)、四氯異苯(Chlorothalonil)、邁隆(Dazomet)、殺紋寧(Hymexazole)、福多寧(Flutol anil)及維利黴素(Validamycin)所成群之殺菌劑為有效成份之有害生物防除組成物及使用其之防除方法。
    • 提供同时提高防除栖息于土壤及/或种子中害虫的效果,及防除土壤及/或种子传染性病害的效果之有害生物防除组成物及防除方法。以含有至少1种选自硫代仲丁基氧–乙基2–羰基–1,3–唑啶–3–基硫代膦酸酯(S–sec–butyl O–ethyl 2–oxo–1,3–thiazolidin–3–ylphosphonothioate)、氧–乙基–硫代正丙基(2–氰亚胺基–3–甲基–咪唑啶–1–基)硫磷酸酯(O–ethyl–S–n–propyl(2–cyanoimino–3–ethyl–imidazolidin–1–yl)phosphonothiolate)及S,S–二仲丁基氧–乙基二硫代磷酸酯(S,S–di–sec–butyl O–ethyl phosphorodithioate)所成群之有机磷系化合物,以及至少1种选自扶吉胺(Fluazinam)、免赖得(Benomyl)、甲基立枯磷(Tolclofos–methyl)、灭达乐(Metalaxyl)、盖普丹(Captan)、依普同(Iprodione)、四氯异苯(Chlorothalonil)、迈隆(Dazomet)、杀纹宁(Hymexazole)、福多宁(Flutol anil)及维利霉素(Validamycin)所成群之杀菌剂为有效成份之有害生物防除组成物及使用其之防除方法。