专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

31. 发明专利

TW201017345A 集光器組件，輻射源，微影裝置及器件製造方法 COLLECTOR ASSEMBLY, RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：集光器组件，辐射源，微影设备及器件制造方法 COLLECTOR ASSEMBLY, RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW201017345A
公开(公告)日：2010-05-01
申请号：TW098131284
申请日：2009-09-16
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：索爾華特安東 , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70175 , G21K2201/06
摘要：本發明揭示一種集光器總成，該集光器總成包括一第一集光器鏡面，該第一集光器鏡面用於將輻射自一輻射發射點(諸如一極紫外線輻射發射點)反射至一中間焦點，在微影裝置中使用來自該中間焦點之該輻射以用於器件製造。在該輻射發射點前方之一第二集光器鏡面收集額外輻射，從而將該額外輻射向後反射至一第三鏡面且自該第三鏡面處反射至該中間焦點。該等鏡面可允許以高效率且在不增加光展量的情況下收集輻射。該集光器總成可減少或移除(例如)由用以防止雷射激發輻射進入該微影裝置之一雷射光束止擋器對經收集輻射之遮蔽而引起的該經收集輻射中之非均一性。
简体摘要：本发明揭示一种集光器总成，该集光器总成包括一第一集光器镜面，该第一集光器镜面用于将辐射自一辐射发射点(诸如一极紫外线辐射发射点)反射至一中间焦点，在微影设备中使用来自该中间焦点之该辐射以用于器件制造。在该辐射发射点前方之一第二集光器镜面收集额外辐射，从而将该额外辐射向后反射至一第三镜面且自该第三镜面处反射至该中间焦点。该等镜面可允许以高效率且在不增加光展量的情况下收集辐射。该集光器总成可减少或移除(例如)由用以防止激光激发辐射进入该微影设备之一激光光束止挡器对经收集辐射之屏蔽而引起的该经收集辐射中之非均一性。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式