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21. 发明专利

TWI403782B 動態波形成單元失效
简体标题：动态波形成单元
公开(公告)号：TWI403782B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW097140103
申请日：2008-10-17
申请人：喜瑞爾工業公司 , SEEREAL TECHNOLOGIES S. A.
发明人：克羅保 , KROLL, BO , 史威特亞密 , SCHWERDTNER, ARMIN , 費德勒吉羅德 , FUETTERER, GERALD
IPC分类号： G02F1/01 , G03H1/12 , G02B26/06
CPC分类号： G02B26/06 , G02B26/004 , G02B26/005 , G02B27/2242

22. 发明专利

TW202018382A 一種相位延遲片审中-公开
简体标题：一种相位延迟片
公开(公告)号：TW202018382A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108140463
申请日：2019-11-07
申请人：河北工業大學 , HEBEI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
发明人：孫玉寶 , SUN, YUBAO , 張弛 , ZHANG, CHI , 馬紅梅 , MA, HONGMEI
IPC分类号： G02F1/13 , G02B26/06
摘要：本發明提供一種相位延遲片，包含：第一基板以及位於上述第一基板上的液晶層；上述液晶層包含第一表面和第二表面，上述第一表面為上述液晶層朝向上述第一基板的表面，上述第二表面為上述液晶層遠離上述第一基板的表面；上述第一表面上的液晶分子的長軸方向和上述第二表面上的液晶分子的長軸方向平行；上述第一表面和上述第二表面之間的液晶分子的長軸方向沿垂直於上述液晶層厚度之方向逐漸扭轉180°；上述相位延遲片的光軸方向與上述第一表面以及上述第二表面上液晶分子的長軸方向平行。本發明提供一種相位延遲片，以實現相位延遲量在不同的視角下均不產生變化。
简体摘要：本发明提供一种相位延迟片，包含：第一基板以及位于上述第一基板上的液晶层；上述液晶层包含第一表面和第二表面，上述第一表面为上述液晶层朝向上述第一基板的表面，上述第二表面为上述液晶层远离上述第一基板的表面；上述第一表面上的液晶分子的长轴方向和上述第二表面上的液晶分子的长轴方向平行；上述第一表面和上述第二表面之间的液晶分子的长轴方向沿垂直于上述液晶层厚度之方向逐渐扭转180°；上述相位延迟片的光轴方向与上述第一表面以及上述第二表面上液晶分子的长轴方向平行。本发明提供一种相位延迟片，以实现相位延迟量在不同的视角下均不产生变化。

23. 发明专利

TWI687909B 顯示裝置有权
简体标题：显示设备
公开(公告)号：TWI687909B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW104127859
申请日：2015-08-26
申请人：南韓商三星顯示器有限公司 , SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.
发明人：權載中 , KWON, JAEJOONG , 李惠 , LEE, HYESOG
IPC分类号： G09F9/30 , G02B26/06

24. 发明专利

TWI649587B 光學操縱器、投影透鏡及投影曝光裝置有权
简体标题：光学操纵器、投影透镜及投影曝光设备
公开(公告)号：TWI649587B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW104121075
申请日：2015-06-30
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：伊凡艾瑞克 , EVA, ERIC
IPC分类号： G02B26/06 , G02B26/08 , G03F7/20

25. 发明专利

TWI649259B 寬頻超穎光學裝置有权
简体标题：宽带超颖光学设备
公开(公告)号：TWI649259B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW105140070
申请日：2016-12-05
申请人：中央研究院 , ACADEMIA SINICA
发明人：蔡定平 , TSAI, DIN PING , 吳品頡 , WU, PIN CHIEH
IPC分类号： B82Y20/00 , G02B26/06

26. 发明专利

TW201816505A 光學系統及使用此系統校正光罩缺陷的方法审中-公开
简体标题：光学系统及使用此系统校正光罩缺陷的方法
公开(公告)号：TW201816505A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106126548
申请日：2017-08-07
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：西塞爾伯格馬可斯 , SEESSELBERG, MARKUS , 德米特里耶夫瓦拉帝米爾 , DMITRIEV, VLADIMIR , 威爾特瓊琴 , WELTE, JOACHIM , 斯特恩烏里 , STERN, URI , 科恩托梅爾 , COHEN, TOMER , 格拉伊特宰爾埃列茲 , GRAITZER, EREZ
IPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84 , G02B21/00 , G02B26/06
摘要：本發明關於一光學系統，其包含一掃描單元、包含至少一第一透鏡元件的一第一透鏡元件群組、設計以將光束聚焦至一焦點的一聚焦單元，其中聚焦單元包含一第二透鏡元件群組，其包含至少一第二透鏡元件及一成像透鏡。成像透鏡更包含一光瞳平面及一波前操縱器。光學系統的波前操縱器配置於成像透鏡的光瞳平面中或於與成像透鏡的光瞳平面共軛的一平面中，或者光學系統的掃描單元配置於與成像透鏡的光瞳平面共軛的一平面中且波前操縱器配置於光方向中之掃描單元的上游。第二透鏡元件群組的焦點位於聚焦單元的所有焦點位置處的成像透鏡的光瞳平面中。
简体摘要：本发明关于一光学系统，其包含一扫描单元、包含至少一第一透镜组件的一第一透镜组件群组、设计以将光束聚焦至一焦点的一聚焦单元，其中聚焦单元包含一第二透镜组件群组，其包含至少一第二透镜组件及一成像透镜。成像透镜更包含一光瞳平面及一波前操纵器。光学系统的波前操纵器配置于成像透镜的光瞳平面中或于与成像透镜的光瞳平面共轭的一平面中，或者光学系统的扫描单元配置于与成像透镜的光瞳平面共轭的一平面中且波前操纵器配置于光方向中之扫描单元的上游。第二透镜组件群组的焦点位于聚焦单元的所有焦点位置处的成像透镜的光瞳平面中。

27. 发明专利

TWI582463B ＥＵＶ反射鏡、包含ＥＵＶ反射鏡之光學系統以及操作包含ＥＵＶ反射鏡之光學系統的方法有权
简体标题：ＥＵＶ反射镜、包含ＥＵＶ反射镜之光学系统以及操作包含ＥＵＶ反射镜之光学系统的方法
公开(公告)号：TWI582463B
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：TW104101922
申请日：2012-03-22
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：丁傑烏杜 , DINGER, UDO , 畢可克佛德列克 , BIJKERK, FREDERIK , 貝拉塔慕哈雷 , BAYRAKTAR, MUHARREM , 迪爾奧立弗 , DIER, OLIVER
IPC分类号： G02B26/06 , G02B5/08 , G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70075 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G21K2201/067

28. 发明专利

TW201710800A 具有波前光學操縱器的投影透鏡、投影曝光方法、與投影曝光裝置审中-公开
简体标题：具有波前光学操纵器的投影透镜、投影曝光方法、与投影曝光设备
公开(公告)号：TW201710800A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105114853
申请日：2016-05-13
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA , 舒納德瑞卡達 , SCHNEIDER, RICARDA
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/14 , G02B26/06
CPC分类号： G03F7/70266 , G02B13/143 , G02B27/0068 , G03F7/70258 , G03F7/70308
摘要：一種投影透鏡(PO)，用於藉由工作波長λ小於260nm的電磁輻射，將配置在該投影透鏡的一物體平面(OS)之該區域內一遮罩圖案，成像至該投影透鏡的一影像平面(IS)內，該投影透鏡具有：複數個光學元件，其具有配置在該物體平面(OS)與該影像平面(IS)之間一投影光束路徑內的複數個光學表面，如此配置在該物體平面內的一圖案可藉由該光學元件成像在該影像平面內。更進一步，準備一波前操縱系統(WFM)，用來可控制對於從該物體平面前往該影像平面的該投影輻射之波前之影響。該波前操縱系統具有一操縱器(MAN)，其具有配置在該投影光束路徑內的一操縱器元件(ME)，以及一致動設備(DR)，用於在該投影光束路徑的輻射上，可逆地改變該操縱器元件的一光學效果。該操縱器元件的一操縱器表面配置在距離此場平面光學附近內該投影透鏡的一最近場平面一有限距離(D)上，如此針對從該場平面的不同場點發出之光束，可藉由該致動設備調整該操縱器元件的局部不同光學效果，更進一步，準備一敏感度調適系統，用於調適該操縱器的敏感度，改變成像屬性，其中利用相對於該物體平面移動該遮罩及/或利用將該遮罩變形，可造成這些改變。
简体摘要：一种投影透镜(PO)，用于借由工作波长λ小于260nm的电磁辐射，将配置在该投影透镜的一物体平面(OS)之该区域内一遮罩图案，成像至该投影透镜的一影像平面(IS)内，该投影透镜具有：复数个光学组件，其具有配置在该物体平面(OS)与该影像平面(IS)之间一投影光束路径内的复数个光学表面，如此配置在该物体平面内的一图案可借由该光学组件成像在该影像平面内。更进一步，准备一波前操纵系统(WFM)，用来可控制对于从该物体平面前往该影像平面的该投影辐射之波前之影响。该波前操纵系统具有一操纵器(MAN)，其具有配置在该投影光束路径内的一操纵器组件(ME)，以及一致动设备(DR)，用于在该投影光束路径的辐射上，可逆地改变该操纵器组件的一光学效果。该操纵器组件的一操纵器表面配置在距离此场平面光学附近内该投影透镜的一最近场平面一有限距离(D)上，如此针对从该场平面的不同场点发出之光束，可借由该致动设备调整该操纵器组件的局部不同光学效果，更进一步，准备一敏感度调适系统，用于调适该操纵器的敏感度，改变成像属性，其中利用相对于该物体平面移动该遮罩及/或利用将该遮罩变形，可造成这些改变。

29. 发明专利

TWI570442B 類比干涉調變器有权
简体标题：模拟干涉调制器
公开(公告)号：TWI570442B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW104124596
申请日：2010-06-15
申请人：高通微機電系統科技公司 , QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC.
发明人：李忠U , LEE, CHONG U. , 洪約翰H , HONG, JOHN H. , 米格納德馬克M , MIGNARD, MARC M. , 葛微爾阿洛克 , GOVIL, ALOK
IPC分类号： G02B26/06 , G02B26/02
CPC分类号： G02B26/001 , G09G3/3466 , G09G2320/0693

30. 发明专利

TWI525345B 雷射光之整形及波面控制用光學系統有权
简体标题：激光光之整形及波面控制用光学系统
公开(公告)号：TWI525345B
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW100125888
申请日：2011-07-22
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：伊藤晴康 , ITO, HARUYASU , 安田敬史 , YASUDA, TAKASHI
IPC分类号： G02B27/09 , G02B26/06 , H01S3/10
CPC分类号： G02F1/01 , G02B27/0927 , G02B27/0944 , G02B27/095 , G02B27/0977

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