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21. 发明专利

TW201250400A 用於處理諸如晶圓的標靶的微影系統，用於操作用於處理諸如晶圓的標靶的微影系統的方法，以及使用在此種微影系統的基板 LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING A TARGET, SUCH AS A WAFER, A METHOD FOR OPERATING A LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING A TARGET, SUCH AS A WAFER AND A SUBSTRATE FOR USE IN SUCH A LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
简体标题：用于处理诸如晶圆的标靶的微影系统，用于操作用于处理诸如晶圆的标靶的微影系统的方法，以及使用在此种微影系统的基板 LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING A TARGET, SUCH AS A WAFER, A METHOD FOR OPERATING A LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING A TARGET, SUCH AS A WAFER AND A SUBSTRATE FOR USE IN SUCH A LITHOGRAPHY SYSTEM
公开(公告)号：TW201250400A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101114343
申请日：2012-04-23
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：寇維利爾斯哥德佛利德斯科諾留斯安東尼歐斯 , 普蘭德斯恩勞倫斯 , 菲柏格寇兒 , 菲格尼爾斯 , 迪包爾古伊杜
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F7/70616 , G03F7/70666 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F9/7023 , G03F9/7053
摘要：本發明係有關於一種用於處理諸如晶圓之標靶的微影系統以及一種使用於該種微影系統中之基板。該微影系統包含一用於提供一圖案化射束之射束源、一用於投射圖案於標靶表面上之最終投射系統、一用於托持標靶之卡盤以及一用於偵測表面上之位置標誌的標誌定位系統。
简体摘要：本发明系有关于一种用于处理诸如晶圆之标靶的微影系统以及一种使用于该种微影系统中之基板。该微影系统包含一用于提供一图案化射束之射束源、一用于投射图案于标靶表面上之最终投射系统、一用于托持标靶之卡盘以及一用于侦测表面上之位置标志的标志定位系统。

22. 发明专利

TW201142240A 具有差動對的電容式感測系統 CAPACITIVE SENSING SYSTEM WITH DIFFERENTIAL PAIRS 审中-公开
简体标题：具有差动对的电容式传感系统 CAPACITIVE SENSING SYSTEM WITH DIFFERENTIAL PAIRS
公开(公告)号：TW201142240A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW099146837
申请日：2010-12-30
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：迪包爾古伊杜 , 凡巴爾強尼珍妮斯傑考伯斯 , 巴丁考斯杜伯帕布德 , 穆森羅伯 , 菲格尼爾斯 , 史丁柏齡克史丁威稜賀曼卡羅
IPC分类号： G01B , G03F
CPC分类号： G01B7/023 , G01D3/036 , G01D5/2417 , G03F9/7026 , G03F9/7053
摘要：一種電容式感測系統，包含二或更多個電容式感測器、一或多個AC電源以供電予該電容式感測器、以及一信號處理電路以處理來自該感測器之信號。該等感測器係成對配置，其中該一或多個AC電源被配置成以一交流電流或電壓供電予一對感測器中之一第一感測器，該交流電流或電壓與供予該對感測器中之一第二感測器之一電流或電壓相位相差180度，且其中一對感測器提供一針對一單一量測距離數值之量測單元，該信號處理電路自該對感測器中之每一感測器接收一輸出信號並產生一有關於該對感測器與靶材間平均距離之量測數值。
简体摘要：一种电容式传感系统，包含二或更多个电容式传感器、一或多个AC电源以供电予该电容式传感器、以及一信号处理电路以处理来自该传感器之信号。该等传感器系成对配置，其中该一或多个AC电源被配置成以一交流电流或电压供电予一对传感器中之一第一传感器，该交流电流或电压与供予该对传感器中之一第二传感器之一电流或电压相位相差180度，且其中一对传感器提供一针对一单一量测距离数值之量测单元，该信号处理电路自该对传感器中之每一传感器接收一输出信号并产生一有关于该对传感器与靶材间平均距离之量测数值。

23. 发明专利

TW201140256A 整合式感測器系統 INTEGRATED SENSOR SYSTEM 审中-公开
简体标题：集成式传感器系统 INTEGRATED SENSOR SYSTEM
公开(公告)号：TW201140256A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW099146838
申请日：2010-12-30
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：迪包爾古伊杜 , 凡巴爾強尼珍妮斯傑考伯斯 , 巴丁考斯杜伯帕布德 , 穆森羅伯 , 菲格尼爾斯 , 史丁柏齡克史丁威稜賀曼卡羅
IPC分类号： G03F , G01B , G01D
CPC分类号： G01B7/023 , G01D3/036 , G01D5/2417 , G03F9/7026 , G03F9/7053
摘要：一種用於微影機器之整合式感測器系統,該系統包含一投射透鏡系統(132),用以將一或多個曝光射束聚焦至一靶材之上、一可移動平臺(134),用以承載該靶材(9)、一電容式感測系統(300),用以進行有關一介於該投射透鏡系統之一最後聚焦元件(104)和該靶材(9)之一表面間之距離之量測、以及一控制單元(400),用以至少部分地依據來自該電容式感測系統之一信號控制該可移動平臺(134)之移動而調整該靶材(9)之一位置。該電容式感測系統(300)包含複數電容式感測器(30),該複數電容式感測器(30)各自包含一薄膜結構。該電容式感測器及該投影透鏡系統之該最後聚焦元件(104)係直接固定至一共同基座(112),且該感測器被放置於極為接近該投影透鏡系統之該最後聚焦元件之一邊緣處。
简体摘要：一种用于微影机器之集成式传感器系统,该系统包含一投射透镜系统(132),用以将一或多个曝光射束聚焦至一靶材之上、一可移动平台(134),用以承载该靶材(9)、一电容式传感系统(300),用以进行有关一介于该投射透镜系统之一最后聚焦组件(104)和该靶材(9)之一表面间之距离之量测、以及一控制单元(400),用以至少部分地依据来自该电容式传感系统之一信号控制该可移动平台(134)之移动而调整该靶材(9)之一位置。该电容式传感系统(300)包含复数电容式传感器(30),该复数电容式传感器(30)各自包含一薄膜结构。该电容式传感器及该投影透镜系统之该最后聚焦组件(104)系直接固定至一共同基座(112),且该传感器被放置于极为接近该投影透镜系统之该最后聚焦组件之一边缘处。

24. 发明专利

TW201250405A 用於處理至少一部分靶材的微影系統 LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING AT LEAST A PART OF A TARGET 审中-公开
简体标题：用于处理至少一部分靶材的微影系统 LITHOGRAPHY SYSTEM FOR PROCESSING AT LEAST A PART OF A TARGET
公开(公告)号：TW201250405A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101117063
申请日：2012-05-14
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：菲格尼爾斯 , 迪包爾古伊杜 , 寇維利爾斯哥德佛利德斯科諾留斯安東尼歐斯 , 普蘭德斯恩勞倫斯 , 菲柏格寇兒
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7096
摘要：本發明關於一種用於處理靶材的微影系統,其中,該微影系統包括一最終投射系統,其會被排列成用以將一圖樣投射在該靶材表面上。該微影系統包括一標記位置偵測系統,其會被排列成用以偵測該靶材表面上一定位標記的位置。該標記位置偵測系統包括一光學元件以及一光偵測器,該光學元件會被排列成用以將一光射束投射在該靶材表面上,而該光偵測器則會被排列成用以偵測一被反射的光射束。該光學元件可能會被定位在該最終投射系統的旁邊,而該光偵測器可能會被定位在一框架裡面。
简体摘要：本发明关于一种用于处理靶材的微影系统,其中,该微影系统包括一最终投射系统,其会被排列成用以将一图样投射在该靶材表面上。该微影系统包括一标记位置侦测系统,其会被排列成用以侦测该靶材表面上一定位标记的位置。该标记位置侦测系统包括一光学组件以及一光侦测器,该光学组件会被排列成用以将一光射束投射在该靶材表面上,而该光侦测器则会被排列成用以侦测一被反射的光射束。该光学组件可能会被定位在该最终投射系统的旁边,而该光侦测器可能会被定位在一框架里面。

25. 发明专利

TW201250399A 使用具有局部反射性位置標誌的基板在微影系統的位置決定 POSITION DETERMINATION IN A LITHOGRAPHY SYSTEM USING A SUBSTRATE HAVING A PARTIALLY REFLECTIVE POSITION MARK 审中-公开
简体标题：使用具有局部反射性位置标志的基板在微影系统的位置决定 POSITION DETERMINATION IN A LITHOGRAPHY SYSTEM USING A SUBSTRATE HAVING A PARTIALLY REFLECTIVE POSITION MARK
公开(公告)号：TW201250399A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101114337
申请日：2012-04-23
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：菲格尼爾斯 , 迪包爾古伊杜
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F9/7088 , G03F9/7076
摘要：本發明係有關於一種使用於一微影系統中之基板，該基板配具一至少局部反射性位置標誌，該位置標誌包含一由結構所構成之陣列，該陣列沿標誌之一縱長方向延伸，特徵在於該結構被配置成沿縱長方向改變標誌之一反射係數，其中該反射係數係針對一特定波長決定。在一實施例之中，一鏡面式反射係數沿基板變動，其中之高級數繞射被基板大致吸收。在一基板上之一射束之位置因此可以根據其在基板之反射強度而被決定。本發明另係有關於一種用於協同該基板運作之定位裝置及微影系統，以及該基板的製造之方法。
简体摘要：本发明系有关于一种使用于一微影系统中之基板，该基板配具一至少局部反射性位置标志，该位置标志包含一由结构所构成之数组，该数组沿标志之一纵长方向延伸，特征在于该结构被配置成沿纵长方向改变标志之一反射系数，其中该反射系数系针对一特定波长决定。在一实施例之中，一镜面式反射系数沿基板变动，其中之高级数绕射被基板大致吸收。在一基板上之一射束之位置因此可以根据其在基板之反射强度而被决定。本发明另系有关于一种用于协同该基板运作之定位设备及微影系统，以及该基板的制造之方法。

26. 发明专利

TW201243278A 干涉儀模組 INTERFEROMETER MODULE 审中-公开
简体标题：干涉仪模块 INTERFEROMETER MODULE
公开(公告)号：TW201243278A
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW101111338
申请日：2012-03-30
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：迪包爾古伊杜 , 歐姆斯湯瑪士阿卓安 , 菲格尼爾斯 , 寇維利爾斯哥德佛利德斯科諾留斯安東尼歐斯
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G03F7/70775 , G01B9/02007 , G01B9/02015 , G03F7/70833 , G03F7/7085 , H01J2237/30438
摘要：本發明係關於一種差分干涉儀模組，其係適用於測量在參考鏡子與測量鏡子之間位移的方向。在一實施例中，該差分干涉儀模組適用於朝著第一鏡子發射三個參考光束並朝著第二鏡子發射三個測量光束，以用來決定在該第一與第二鏡子之間的位移。在較佳實施例中，相同模組同樣適用於測量繞著兩垂直軸的相對轉動。本發明進一步係關於一種包含此一干涉儀模組的微影系統以及一種用來測量此一位移與轉動的方法。
简体摘要：本发明系关于一种差分干涉仪模块，其系适用于测量在参考镜子与测量镜子之间位移的方向。在一实施例中，该差分干涉仪模块适用于朝着第一镜子发射三个参考光束并朝着第二镜子发射三个测量光束，以用来决定在该第一与第二镜子之间的位移。在较佳实施例中，相同模块同样适用于测量绕着两垂直轴的相对转动。本发明进一步系关于一种包含此一干涉仪模块的微影系统以及一种用来测量此一位移与转动的方法。

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