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21. 发明专利

TWI496659B 半導體用合成石英玻璃基板之加工方法有权
简体标题：半导体用合成石英玻璃基板之加工方法
公开(公告)号：TWI496659B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW099102141
申请日：2010-01-26
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：原田大實 , HARADA, DAIJITSU , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI , 松井晴信 , MATSUI, HARUNOBU
IPC分类号： B24B37/07 , B24B7/24
CPC分类号： B24B7/241 , B24B13/0018 , B24B41/053

22. 发明专利

TWI464125B 合成石英玻璃基板之製造方法有权
简体标题：合成石英玻璃基板之制造方法
公开(公告)号：TWI464125B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW099146107
申请日：2010-12-27
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：原田大實 , HARADA, DAIJITSU , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
IPC分类号： C03B20/00 , C09K3/14 , C03C15/00 , B24B37/04
CPC分类号： C03C15/02 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , C09K3/1463

23. 发明专利

TW201338914A 基板之製造方法审中-公开
简体标题：基板之制造方法
公开(公告)号：TW201338914A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101142441
申请日：2012-11-14
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：松井晴信 , MATSUI, HARUNOBU , 原田大実 , HARADA, DAIJITSU , 渡部厚 , WATABE, ATSUSHI , 上田修平 , UEDA, SHUHEI , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
IPC分类号： B24B37/04
CPC分类号： B24B37/042 , B24B37/044 , B24B37/24 , B24D3/28
摘要：本發明之解決手段為一種基板之製造方法，其特徵係使用接觸到基板、具有多數空孔的NAP層被以基底樹脂含醚樹脂之具有至少3種類樹脂形成之研磨布，包含使其伴隨研磨漿研磨基板表面的步驟。本發明之效果係根據本發明可以製造出基板表面缺陷數少、且被高平滑性化之基板。此外，由於可以延長研磨布的使用時間，所以連帶使生產成本降低及生產性提高。
简体摘要：本发明之解决手段为一种基板之制造方法，其特征系使用接触到基板、具有多数空孔的NAP层被以基底树脂含醚树脂之具有至少3种类树脂形成之研磨布，包含使其伴随研磨浆研磨基板表面的步骤。本发明之效果系根据本发明可以制造出基板表面缺陷数少、且被高平滑性化之基板。此外，由于可以延长研磨布的使用时间，所以连带使生产成本降低及生产性提高。

24. 发明专利

TW201819331A 四方形玻璃基板及其製造方法审中-公开
简体标题：四方形玻璃基板及其制造方法
公开(公告)号：TW201819331A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106128936
申请日：2017-08-25
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：原田大実 , HARADA, DAIJITSU , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
IPC分类号： C03C19/00 , G03F1/60 , B24B9/00
摘要：本發明之解決手段為：一種四方形玻璃基板，其係具有表面、背面、4個側面、與分別形成於表面與各側面及背面與各側面之間的8個倒角面之四方形玻璃基板，並且　　在表面與該表面側的倒角面之間的稜線部，將表面朝上而水平載置時，具有該表面至下方50μm的位置的平均梯度為25%以下的第一曲面，並且在側面與前述表面側的倒角面之間的稜線部，將該側面朝上而水平載置時，具有該側面至下方50μm的位置的平均梯度為30%以上的第二曲面，且板厚為6mm以上。　　本發明之效果為：根據本發明之四方形玻璃基板，無關於洗淨方式，可抑制洗淨後的次微米尺寸的表面污染，並可抑制製造產率的降低。
简体摘要：本发明之解决手段为：一种四方形玻璃基板，其系具有表面、背面、4个侧面、与分别形成于表面与各侧面及背面与各侧面之间的8个倒角面之四方形玻璃基板，并且　　在表面与该表面侧的倒角面之间的棱线部，将表面朝上而水平载置时，具有该表面至下方50μm的位置的平均梯度为25%以下的第一曲面，并且在侧面与前述表面侧的倒角面之间的棱线部，将该侧面朝上而水平载置时，具有该侧面至下方50μm的位置的平均梯度为30%以上的第二曲面，且板厚为6mm以上。　　本发明之效果为：根据本发明之四方形玻璃基板，无关于洗净方式，可抑制洗净后的次微米尺寸的表面污染，并可抑制制造产率的降低。

25. 发明专利

TWI618681B 合成石英玻璃基板之製造方法有权
简体标题：合成石英玻璃基板之制造方法
公开(公告)号：TWI618681B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW102103988
申请日：2013-02-01
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：長谷川良平 , HASEGAWA, RYOUHEI , 松井晴信 , MATSUI, HARUNOBU , 原田大実 , HARADA, DAIJITSU , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
IPC分类号： C03C19/00 , C09G1/02 , C01G25/02 , B24B37/04
CPC分类号： B24B1/00 , B24B37/044 , C09G1/02

26. 发明专利

TWI618616B 方形模具用基板有权
公开(公告)号：TWI618616B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW102139553
申请日：2013-10-31
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：原田大実 , HARADA, DAIJITSU , 岡藤大雄 , OKAFUJI, DAIYU , 山崎裕之 , YAMAZAKI, HIROYUKI , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
IPC分类号： B29C43/10 , B29C59/02
CPC分类号： B29C59/022 , B29C59/002 , B29C59/026 , B29C59/16 , C03C15/02 , G03F1/14 , G03F1/60 , G03F7/0002

27. 发明专利

TW201808839A 合成石英玻璃基板之製造方法审中-公开
简体标题：合成石英玻璃基板之制造方法
公开(公告)号：TW201808839A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106107596
申请日：2017-03-08
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：石洋行 , ISHITSUKA, YOKO , 渡部厚 , WATABE, ATSUSHI , 原田大実 , HARADA, DAIJITSU , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
IPC分类号： C03B33/02 , C03C15/00 , C03C17/28 , C03C3/06
CPC分类号： C03B33/02 , B28D5/00 , C03C3/06 , C03C15/00 , C03C17/28 , C03C2201/02 , C03C2203/50 , C03C2218/114 , C03C2218/32 , G01B11/06 , G01N21/23
摘要：本發明之解決手段為，一種合成石英玻璃基板之製造方法，其係包含以下步驟：準備合成石英玻璃塊體的步驟、針對前述合成石英玻璃塊體中與進行切斷加工時之切斷面平行的面和與其相對向的面之2面，塗佈測定雙折射率的波長之透過率為99.0%/mm以上之液體的步驟、藉由從其中一方之塗佈面射入，並從另一方之塗佈面射出的光，測定合成石英玻璃塊體之雙折射率的步驟、根據所得到的雙折射率，因應於所得之合成石英玻璃基板的尺寸來決定將合成石英玻璃塊體切斷之厚度的步驟、以及依據所決定之切斷厚度進行切斷的步驟。本發明之效果為，依據本發明，可在製造步驟之較早的階段之切片步驟前，預先預測在之後的研磨步驟中所需要的加工餘量來決定切片時之厚度，而減低原料之合成石英玻璃塊體的損耗量，提高合成石英玻璃基板的生產性，而可經濟地製造合成石英玻璃基板。
简体摘要：本发明之解决手段为，一种合成石英玻璃基板之制造方法，其系包含以下步骤：准备合成石英玻璃块体的步骤、针对前述合成石英玻璃块体中与进行切断加工时之切断面平行的面和与其相对向的面之2面，涂布测定双折射率的波长之透过率为99.0%/mm以上之液体的步骤、借由从其中一方之涂布面射入，并从另一方之涂布面射出的光，测定合成石英玻璃块体之双折射率的步骤、根据所得到的双折射率，因应于所得之合成石英玻璃基板的尺寸来决定将合成石英玻璃块体切断之厚度的步骤、以及依据所决定之切断厚度进行切断的步骤。本发明之效果为，依据本发明，可在制造步骤之较早的阶段之切片步骤前，预先预测在之后的研磨步骤中所需要的加工余量来决定切片时之厚度，而减低原料之合成石英玻璃块体的损耗量，提高合成石英玻璃基板的生产性，而可经济地制造合成石英玻璃基板。

28. 发明专利

TWI615238B 基板之製造方法有权
简体标题：基板之制造方法
公开(公告)号：TWI615238B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW101142441
申请日：2012-11-14
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：松井晴信 , MATSUI, HARUNOBU , 原田大実 , HARADA, DAIJITSU , 渡部厚 , WATABE, ATSUSHI , 上田修平 , UEDA, SHUHEI , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
IPC分类号： B24B37/04
CPC分类号： B24B37/042 , B24B37/044 , B24B37/24 , B24D3/28

29. 发明专利

TWI568699B 合成石英玻璃基板及其製造方法有权
简体标题：合成石英玻璃基板及其制造方法
公开(公告)号：TWI568699B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW100117953
申请日：2011-05-23
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：松井晴信 , MATSUI, HARUNOBU , 原田大實 , HARADA, DAIJITSU , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI
IPC分类号： C03C19/00 , B24B7/24 , C03B20/00
CPC分类号： C03C3/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C19/00 , C03C2201/42 , C03C2204/08 , G03F1/24 , G03F1/60 , G03F7/0002 , Y10T428/24355

30. 发明专利

TWI557195B 合成石英玻璃基板用研磨劑有权
简体标题：合成石英玻璃基板用研磨剂
公开(公告)号：TWI557195B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW098119423
申请日：2009-06-10
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：原田大實 , HARADA, DAIJITSU , 竹內正樹 , TAKEUCHI, MASAKI , 柴野由紀夫 , SHIBANO, YUKIO , 上田修平 , UEDA, SHUHEI , 渡部厚 , WATABE, ATSUSHI
IPC分类号： C09G1/02
CPC分类号： C03C19/00 , B24B1/00 , B24B37/00 , B24B37/0056 , C03C15/02 , C09G1/02 , C09G1/04 , C09K3/1454 , C09K3/1463 , C09K13/02 , C09K13/06

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