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21. 发明专利

TW201820658A 印刷導電結構、包含其之發光模組以及其製造方法审中-公开
简体标题：印刷导电结构、包含其之发光模块以及其制造方法
公开(公告)号：TW201820658A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW105138735
申请日：2016-11-24
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO.,LTD.
发明人：林文安 , LIN, WEN-AN , 張哲鈴 , CHANG, CHE-LING , 黃恩惠 , MARGARETHA, YOSEPHINE YULIA
IPC分类号： H01L33/44 , H05K1/00 , H05K3/12 , H01B1/12
摘要：本發明提供一種印刷導電結構、包含其之發光模組以及其製造方法。印刷導電結構包含一基材、一第一線路圖案、一第二線路圖案與一第三線路圖案。第一線路圖案與第二線路圖案由印刷於基材的一表面的一第一導電油墨所形成。第一線路圖案與第二線路圖案之間具有一間隙。第三線路圖案由印刷於基材的表面的一第二導電油墨所形成。第三線路圖案直接連接第一線路圖案與第二線路圖案。第一導電油墨具有一第一電阻率，第二導電油墨具有一第二電阻率，且第二電阻率大於第一電阻率。
简体摘要：本发明提供一种印刷导电结构、包含其之发光模块以及其制造方法。印刷导电结构包含一基材、一第一线路图案、一第二线路图案与一第三线路图案。第一线路图案与第二线路图案由印刷于基材的一表面的一第一导电油墨所形成。第一线路图案与第二线路图案之间具有一间隙。第三线路图案由印刷于基材的表面的一第二导电油墨所形成。第三线路图案直接连接第一线路图案与第二线路图案。第一导电油墨具有一第一电阻率，第二导电油墨具有一第二电阻率，且第二电阻率大于第一电阻率。

22. 发明专利

TW201813675A 可自發電敷材及其製造方法审中-公开
简体标题：可自发电敷材及其制造方法
公开(公告)号：TW201813675A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW105130986
申请日：2016-09-26
申请人：正美企業股份有限公司
发明人：林文安 , LIN, WEN AN , 張哲鈴 , CHANG, CHE LING
IPC分类号： A61L15/08 , A45D44/22
摘要：一種可自發電敷材及其製造方法，係在一基材上分別覆印有一第一導電層及一第二導電層，並使第二導電層的位置避開第一導電層的位置，且第二導電層的多個第二電極與第一導電層的多個第一電極相互錯位。當一溶液浸潤基材後，可將基材貼附在人體皮膚部位，使得溶液被基材吸收後保持在第一導電層及第二導電層上，令各第一電極及各第二電極透過溶液中形成一電位差，進而自行放電傳導至人體皮膚部位。本發明亦提供上述可自發電敷材的製造方法。
简体摘要：一种可自发电敷材及其制造方法，系在一基材上分别覆印有一第一导电层及一第二导电层，并使第二导电层的位置避开第一导电层的位置，且第二导电层的多个第二电极与第一导电层的多个第一电极相互错位。当一溶液浸润基材后，可将基材贴附在人体皮肤部位，使得溶液被基材吸收后保持在第一导电层及第二导电层上，令各第一电极及各第二电极透过溶液中形成一电位差，进而自行放电传导至人体皮肤部位。本发明亦提供上述可自发电敷材的制造方法。

23. 实用新型

TWM553306U 包裝結構有权
简体标题：包装结构
公开(公告)号：TWM553306U
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW106211761
申请日：2017-08-09
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO.,LTD.
发明人：廖俊鴻 , LIAO, CHUN-HUNG
IPC分类号： B65D65/34 , B65B61/02

24. 实用新型

TWM482925U 殼體結構有权
简体标题：壳体结构
公开(公告)号：TWM482925U
公开(公告)日：2014-07-21
申请号：TW103207148
申请日：2014-04-24
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：李永華 , LEE, YUNG HUA , 孫潔湘 , SUN, CHIEH HSIANG , 周雅惠 , CHOU, YA HUI , 陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： H05K5/02

25. 发明专利

TWI413664B 塗裝紫外線硬化塗料之塗裝方法有权
简体标题：涂装紫外线硬化涂料之涂装方法
公开(公告)号：TWI413664B
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW098130811
申请日：2009-09-11
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：陳駿鵬 , CHEN, CHUN PUNG
IPC分类号： C09D201/00 , C09D7/12 , B05D7/14 , B41M5/00

26. 发明专利

TW200500227A 隱藏圖文之製法审中-公开
简体标题：隐藏图文之制法
公开(公告)号：TW200500227A
公开(公告)日：2005-01-01
申请号：TW092117592
申请日：2003-06-27
申请人：正美企業股份有限公司
发明人：翁金標
IPC分类号： B44F
摘要：本發明是在提供一種隱藏圖文之製法，係包括下列步驟：1、先經由印刷設計後，再印刷原稿；2、將該印刷原稿轉換為一電腦稿；3、將該電腦稿予以防偽處理；3–1、由電腦稿之設計圖檔單取其中一色版；3–2、電腦稿之過濾片檔案製作；3–3、圖像版畫線條化處理：將過濾片檔案與之前選取之色版重疊對齊，依該色版圖樣之深淺比例轉換為相對應之粗細比例的線條填充圖樣；3–4、將防偽圖案以圖像浮雕線條變形處理，使該線條填充圖樣上與防偽圖案重疊的線段會產生角度與位移變形，此變形後之線條填充圖樣即為一防偽輸出品；藉此，使具絕佳之防偽效果者。
简体摘要：本发明是在提供一种隐藏图文之制法，系包括下列步骤：1、先经由印刷设计后，再印刷原稿；2、将该印刷原稿转换为一电脑稿；3、将该电脑稿予以防伪处理；3–1、由电脑稿之设计图档单取其中一色版；3–2、电脑稿之过滤片文档制作；3–3、图像版画线条化处理：将过滤片文档与之前选取之色版重叠对齐，依该色版图样之深浅比例转换为相对应之粗细比例的线条填充图样；3–4、将防伪图案以图像浮雕线条变形处理，使该线条填充图样上与防伪图案重叠的线段会产生角度与位移变形，此变形后之线条填充图样即为一防伪输出品；借此，使具绝佳之防伪效果者。

27. 发明专利

TWI690740B 導光元件及其製成方法有权
简体标题：导光组件及其制成方法
公开(公告)号：TWI690740B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW107113468
申请日：2018-04-20
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO.,LTD.
发明人：曾得祥 , TSENG, TE-HSIANG
IPC分类号： G02B6/125 , G02B6/13

28. 发明专利

TWI674059B 適用於印刷電子元件之電路板有权
简体标题：适用于印刷电子组件之电路板
公开(公告)号：TWI674059B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW107134245
申请日：2018-09-28
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO.,LTD.
发明人：林文安 , LIN, WEN-AN , 張哲鈴 , CHANG, CHE-LING
IPC分类号： H05K7/20 , H05K1/18

29. 实用新型

TWM561066U 乾濕分離之面膜包裝結構有权
简体标题：干湿分离之面膜包装结构
公开(公告)号：TWM561066U
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW107200413
申请日：2018-01-10
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO.,LTD.
发明人：張源炘 , CHANG, YUAN-HSIN , 孟慶龍 , MENG, CHING-LUNG
IPC分类号： B65D30/22

30. 实用新型

TWM557999U 面膜有权
公开(公告)号：TWM557999U
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW106217907
申请日：2017-12-01
申请人：正美企業股份有限公司 , CYMMETRIK ENTERPRISE CO.,LTD.
发明人：張源炘 , CHANG, YUAN-HSIN , 孟慶龍 , MENG, CHING-LUNG
IPC分类号： A45D44/22

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