专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

TW201531496A 含溴聚醚聚合物及其製造方法审中-公开
简体标题：含溴聚醚聚合物及其制造方法
公开(公告)号：TW201531496A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW104103392
申请日：2015-02-02
申请人：瑪耐科股份有限公司 , MANAC INC.
发明人：屋敷勝頼 , YASHIKI, KATSUYORI
IPC分类号： C08G65/08 , C09K21/14
CPC分类号： C08G65/223 , C08G65/14 , C08G65/2609 , C08G2650/22 , C08G2650/46 , C08L2201/02 , C09K21/14
摘要：本發明係關於一種聚合物及其製造方法，該聚合物係包含以下述一般式(1)所示之重複單位，且溴含量為45至80重量%。 (式中，R1、R2、m、k及星號如說明書及申請專利範圍所記載者)
简体摘要：本发明系关于一种聚合物及其制造方法，该聚合物系包含以下述一般式(1)所示之重复单位，且溴含量为45至80重量%。 (式中，R1、R2、m、k及星号如说明书及申请专利范围所记载者)

12. 发明专利

TW201514287A 阻絕物的化學機械平坦化組合物及方法审中-公开
简体标题：阻绝物的化学机械平坦化组合物及方法
公开(公告)号：TW201514287A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103134755
申请日：2014-10-06
申请人：氣體產品及化學品股份公司 , AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：格拉罕梅特蘭蓋瑞 , GRAHAM, MAITLAND GARY , 史魯特詹姆士艾倫 , SCHLUETER, JAMES ALLEN , 史曉波 , SHI, XIAOBO
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , C08G65/08 , H01L21/304 , H01L21/321
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/30625 , H01L21/3212
摘要：本發明提供一種阻絕物的化學機械平坦化拋光組合物，其包括適當的化學添加物。該適當的化學添加物係含有環氧乙烷重複單元的有機聚合物分子，其具有以下一般分子結構：其中n表示介於6,818至181,817的重複單元總數；而且該聚環氧乙烷的分子量介於100,000至8,000,000。本發明也提供一種使用該阻絕物的化學機械平坦化拋光組合物的化學機械拋光方法。
简体摘要：本发明提供一种阻绝物的化学机械平坦化抛光组合物，其包括适当的化学添加物。该适当的化学添加物系含有环氧乙烷重复单元的有机聚合物分子，其具有以下一般分子结构：其中n表示介于6,818至181,817的重复单元总数；而且该聚环氧乙烷的分子量介于100,000至8,000,000。本发明也提供一种使用该阻绝物的化学机械平坦化抛光组合物的化学机械抛光方法。

13. 发明专利

TWI688392B 無長循環材料之泊洛沙姆組成物以及其製造方法和用途有权
简体标题：无长循环材料之泊洛沙姆组成物以及其制造方法和用途
公开(公告)号：TWI688392B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW104122001
申请日：2015-07-07
申请人：美商救生筏生物科技公司 , LIFERAFT BIOSCEIENCES, INC.
发明人：埃瑪努埃萊 R 馬汀 , EMANUELE, R. MARTIN , 巴拉蘇布拉曼尼恩曼那爾撒米 , BALASUBRAMANIAN, MANNARSAMY
IPC分类号： A61K31/77 , A61K31/78 , A61K35/14 , C08G65/08 , C08G65/30

14. 发明专利

TW201918276A 界面活性劑、其製造方法及包含此界面活性劑之溶液审中-公开
简体标题：界面活性剂、其制造方法及包含此界面活性剂之溶液
公开(公告)号：TW201918276A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106137655
申请日：2017-10-31
申请人：中日合成化學股份有限公司 , SINO-JAPAN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：邱錫海 , CHIU, HSI HAI , 莊忠哲 , CHUANG, CHUNG CHE , 林雅慧 , LIN, YA HUI
IPC分类号： B01F17/42 , C07C41/02 , C08G65/08 , C08G65/10 , C11D1/72
摘要：本發明有關於一種界面活性劑、其製造方法及包含此界面活性劑之溶液。本發明之界面活性劑具有如下式(I)所示之結構：於式(I)中，R1代表碳數為8至30之烷基、烷基苯基或如下式(II)所示之結構；R2代表碳數為2至4之伸烷氧基，其中R2之烷基與R1O-鍵結；R3代表碳數為3至18之烷基、碳數為3至18之氧烷基、酚基或鄰甲酚基；n代表0至100之範圍中之數值；且m代表0.1至10之範圍中之數值；於式(II)中，R4代表氫原子或碳數為1至4之烷基；z代表1至3之整數，且「*」代表鍵結處。
简体摘要：本发明有关于一种界面活性剂、其制造方法及包含此界面活性剂之溶液。本发明之界面活性剂具有如下式(I)所示之结构：于式(I)中，R1代表碳数为8至30之烷基、烷基苯基或如下式(II)所示之结构；R2代表碳数为2至4之伸烷氧基，其中R2之烷基与R1O-键结；R3代表碳数为3至18之烷基、碳数为3至18之氧烷基、酚基或邻甲酚基；n代表0至100之范围中之数值；且m代表0.1至10之范围中之数值；于式(II)中，R4代表氢原子或碳数为1至4之烷基；z代表1至3之整数，且“*”代表键结处。

15. 发明专利

TWI648096B 界面活性劑、其製造方法及包含此界面活性劑之溶液有权
简体标题：界面活性剂、其制造方法及包含此界面活性剂之溶液
公开(公告)号：TWI648096B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW106137655
申请日：2017-10-31
申请人：中日合成化學股份有限公司 , SINO-JAPAN CHEMICAL CO., LTD.
发明人：邱錫海 , CHIU, HSI HAI , 莊忠哲 , CHUANG, CHUNG CHE , 林雅慧 , LIN, YA HUI
IPC分类号： B01F17/42 , C07C41/02 , C08G65/08 , C08G65/10 , C11D1/72

16. 发明专利

TW201825617A 壓印用底漆層形成用組成物、壓印用底漆層及積層體审中-公开
简体标题：压印用底漆层形成用组成物、压印用底漆层及积层体
公开(公告)号：TW201825617A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106130899
申请日：2017-09-11
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：後藤雄一郎 , GOTO, YUICHIRO
IPC分类号： C09D171/02 , C08G65/08 , C09D4/00 , B29C59/02 , B29C59/16 , H01L21/027
摘要：本發明提高壓印用硬化性組成物在基板上之潤濕性。本發明提供一種新型壓印用底漆層形成用組成物、以及使用了上述底漆層形成用組成物之底漆層及積層體。該壓印用底漆層形成用組成物滿足下述A及B中的至少一者，A：包含在25℃下之表面張力為40mN/m以上的成分；B：由上述壓印用底漆層形成用組成物形成之底漆層在25℃下之臨界表面張力為46mN/m以上。
简体摘要：本发明提高压印用硬化性组成物在基板上之润湿性。本发明提供一种新型压印用底漆层形成用组成物、以及使用了上述底漆层形成用组成物之底漆层及积层体。该压印用底漆层形成用组成物满足下述A及B中的至少一者，A：包含在25℃下之表面张力为40mN/m以上的成分；B：由上述压印用底漆层形成用组成物形成之底漆层在25℃下之临界表面张力为46mN/m以上。

17. 发明专利

TW201626109A 與經外塗佈之光致抗蝕劑一起使用之塗層組合物审中-公开
简体标题：与经外涂布之光致抗蚀剂一起使用之涂层组合物
公开(公告)号：TW201626109A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104141825
申请日：2015-12-11
申请人：羅門哈斯電子材料韓國有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS KOREA LTD.
发明人：李宣姃 , LEE, SUN-JUNG , 姜智薰 , KANG, JIHOON , 洪東濟 , HONG, DONG-JE
IPC分类号： G03F7/11 , C09D7/12 , C08G65/08 , C08K5/06 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/325
摘要：提供有機塗層組合物，尤其與經外塗佈之光致抗蝕劑一起使用之抗反射塗層組合物，其包括包括式(I)的表面劑。其中A和B各自獨立地為氫、視情況經取代之烷基或視情況經取代之芳基；X和Y各自獨立地為氫、視情況經取代之烷基或視情況經取代之碳環芳基；且n為正整數。較佳之塗層組合物可改進經外塗佈之光致抗蝕劑層的圖案崩塌極限。
简体摘要：提供有机涂层组合物，尤其与经外涂布之光致抗蚀剂一起使用之抗反射涂层组合物，其包括包括式(I)的表面剂。其中A和B各自独立地为氢、视情况经取代之烷基或视情况经取代之芳基；X和Y各自独立地为氢、视情况经取代之烷基或视情况经取代之碳环芳基；且n为正整数。较佳之涂层组合物可改进经外涂布之光致抗蚀剂层的图案崩塌极限。

18. 发明专利

TW201613619A 無長循環材料之泊洛沙姆組成物以及其製造方法和用途审中-公开
简体标题：无长循环材料之泊洛沙姆组成物以及其制造方法和用途
公开(公告)号：TW201613619A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW104122001
申请日：2015-07-07
申请人：桅杆治療公司 , MAST THERAPEUTICS, INC.
发明人：埃瑪努埃萊 R 馬汀 , EMANUELE, R. MARTIN , 巴拉蘇布拉曼尼恩曼那爾撒米 , BALASUBRAMANIAN, MANNARSAMY
IPC分类号： A61K31/77 , A61K31/78 , A61K35/14 , C08G65/08 , C08G65/30
CPC分类号： C08G65/30 , A61K9/0019 , A61K31/77 , A61K35/14 , A61K35/18 , A61K35/19 , A61K2035/124 , C08G65/08 , C08G2650/58
摘要：本文提供一種無長循環材料(LCMF)之泊洛沙姆組成物及其用途。詳言之，提供LCMF泊洛沙姆188組成物及其用途。亦提供用於製備泊洛沙姆組成物，特別是該等LCMF泊洛沙姆組成物的超臨界流體萃取(SFE)方法及高壓(亞臨界)方法。
简体摘要：本文提供一种无长循环材料(LCMF)之泊洛沙姆组成物及其用途。详言之，提供LCMF泊洛沙姆188组成物及其用途。亦提供用于制备泊洛沙姆组成物，特别是该等LCMF泊洛沙姆组成物的超临界流体萃取(SFE)方法及高压(亚临界)方法。

19. 发明专利

TW201506044A 界面活性劑組成物审中-公开
简体标题：界面活性剂组成物
公开(公告)号：TW201506044A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103123011
申请日：2014-07-03
申请人：第一工業製藥股份有限公司 , DAI-ICHI KOGYO SEIYAKU CO., LTD.
发明人：小笠原亞沙子 , OGASAWARA, ASAKO
IPC分类号： C08F2/24 , C08G65/08
CPC分类号： C08F2/24 , B01F17/0021 , B01F17/0057 , B01F17/0064 , B01F17/0085 , C08F2/20 , C08F2/26 , C08F2/30 , C08G65/2612 , C08G65/326 , C08G65/327 , C08L71/00 , C08F212/08 , C08F2220/1825 , C08F2220/1858
摘要：本發明提供一種界面活性劑組成物，其含有以通式(I)所表示之反應性界面活性劑(X)之1種或2種以上、及以通式(II)所表示之多官能化合物(Y)之1種或2種以上(式中，分別表示如下：D是以D-1或D-2所表示之聚合性不飽和基，R1是氫原子或甲基，A是碳數2~4之伸烷基或取代伸烷基，n1及n2是0~1000之加成莫耳數，T是氫原子、或選自-(CH2)a-SO3M、-(CH2)b-COOM、-PO3M2、-P(U)O2M及-CO-CH2-CH(SO3M)-COOM之陰離子性親水基，且a及b分別是0~4之數，U是從通式(I)或通式(II)中去除T而成之殘基，M是氫原子、鹼金屬原子、鹼土族金屬原子、銨殘基、或烷醇胺殘基，m1是1~2之取代基數、m2是1~3之取代基數、m3是2~3之取代基數)，可抑制乳化體或分散體等的起泡，且作為例如乳化聚合用乳化劑使用時，聚合穩定性高，且可提升塗膜的耐水性等各種特性。
简体摘要：本发明提供一种界面活性剂组成物，其含有以通式(I)所表示之反应性界面活性剂(X)之1种或2种以上、及以通式(II)所表示之多官能化合物(Y)之1种或2种以上(式中，分别表示如下：D是以D-1或D-2所表示之聚合性不饱和基，R1是氢原子或甲基，A是碳数2~4之伸烷基或取代伸烷基，n1及n2是0~1000之加成莫耳数，T是氢原子、或选自-(CH2)a-SO3M、-(CH2)b-COOM、-PO3M2、-P(U)O2M及-CO-CH2-CH(SO3M)-COOM之阴离子性亲水基，且a及b分别是0~4之数，U是从通式(I)或通式(II)中去除T而成之残基，M是氢原子、碱金属原子、碱土族金属原子、铵残基、或烷醇胺残基，m1是1~2之取代基数、m2是1~3之取代基数、m3是2~3之取代基数)，可抑制乳化体或分散体等的起泡，且作为例如乳化聚合用乳化剂使用时，聚合稳定性高，且可提升涂膜的耐水性等各种特性。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式