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11. 发明专利

TW201339624A 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学积层体、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TW201339624A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW102105032
申请日：2013-02-08
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：小久見尙一郎 , OGUMI, SHOICHIRO , 江口淳哉 , EGUCHI, JUNYA , 古井玄 , FURUI, GEN , 皆越清馨 , MINAKOSHI, SEIKA , 岩田行光 , IWATA, YUKIMITSU
IPC分类号： G02B1/10 , B32B27/18 , B32B7/02 , G02B5/30
CPC分类号： G02B1/14 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B5/3025 , G02B27/28 , Y10T428/24355 , Y10T428/24372
摘要：本發明提供一種可充分抑制干涉條紋及捲曲之產生並且謀求硬塗層之薄膜化、且可防止製造成本變高的光學積層體。本發明之光學積層體係於透光性基材之一面上具有硬塗層者，其特徵在於：上述硬塗層於表面具有凹凸形狀，該凹凸形狀於將凹凸部之平均傾斜角設為θ a、將凹凸之峰度設為Kr時，上述θ a及Kr滿足下式。0.01°≦θ a≦0.10° 1≦Kr≦3
简体摘要：本发明提供一种可充分抑制干涉条纹及卷曲之产生并且谋求硬涂层之薄膜化、且可防止制造成本变高的光学积层体。本发明之光学积层体系于透光性基材之一面上具有硬涂层者，其特征在于：上述硬涂层于表面具有凹凸形状，该凹凸形状于将凹凸部之平均倾斜角设为θ a、将凹凸之峰度设为Kr时，上述θ a及Kr满足下式。0.01°≦θ a≦0.10° 1≦Kr≦3

12. 发明专利

TW201234051A 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法 LIGHT BEAM CONVERTER, OPTICAL ILLUMINATING APPARATUS, EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD 审中-公开
简体标题：光束变换组件、光学照明设备、曝光设备、以及曝光方法 LIGHT BEAM CONVERTER, OPTICAL ILLUMINATING APPARATUS, EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD
公开(公告)号：TW201234051A
公开(公告)日：2012-08-16
申请号：TW101103772
申请日：2004-10-20
申请人：尼康股份有限公司
发明人：豐田光紀
IPC分类号： G02B , G03F
CPC分类号： G02B27/0927 , G02B5/3025 , G02B27/0944 , G02B27/28 , G02B27/4233 , G02B27/4261 , G03F7/70158 , G03F7/70566
摘要：本發明提供一種光學照明裝置，不僅能有效地抑制光量損失，且能夠形成圓周方向偏光狀態的輪胎狀之照明瞳分佈。本發明的光學照明裝置，配置光束變換元件(50)，可依入射光束在所定面形成輪胎狀的光強度分布。該光束變換元件，用有旋光性的光學材料形成，由包括：依入射光束形成輪胎狀光強度分布中的第一圓弧狀區域分佈的第一基本元件(50A)，及形成第二圓弧狀區域分佈的第二基本元件(50B)，及形成第三圓弧狀區域分佈的第三基本元件(50C)，以及形成第四圓弧狀區域分佈的第四基本元件構成。該些各基本元件在沿光束之透過方向的厚度互異。
简体摘要：本发明提供一种光学照明设备，不仅能有效地抑制光量损失，且能够形成圆周方向偏光状态的轮胎状之照明瞳分布。本发明的光学照明设备，配置光束变换组件(50)，可依入射光束在所定面形成轮胎状的光强度分布。该光束变换组件，用有旋光性的光学材料形成，由包括：依入射光束形成轮胎状光强度分布中的第一圆弧状区域分布的第一基本组件(50A)，及形成第二圆弧状区域分布的第二基本组件(50B)，及形成第三圆弧状区域分布的第三基本组件(50C)，以及形成第四圆弧状区域分布的第四基本组件构成。该些各基本组件在沿光束之透过方向的厚度互异。

13. 发明专利

TW201133029A 雷射照射裝置 LASER IRRADIATION DEVICE 审中-公开
简体标题：激光照射设备 LASER IRRADIATION DEVICE
公开(公告)号：TW201133029A
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW100106280
申请日：2011-02-24
申请人： V科技股份有限公司
发明人：畑中誠
IPC分类号： G02B , H01L
CPC分类号： G02B27/28 , B23K26/0608 , G02B27/48
摘要：本發明提供一種雷射照明裝置，不造成裝置之大型化及繁雜化，亦不造成照度降低，並能防止使用雷射光作為光源時的干涉條紋發生。本發明於雷射光之光路依序配置有：偏光消除板6、複眼式透鏡7及聚光透鏡8、9。偏光消除板6係有多個相位差板6a～6d以1：1對應於透鏡單元的方式配置，相位差板具有對應於複眼式透鏡7之各透鏡單元之大小且使入射的雷射光獲得相位差而出射，各相位差板係以相鄰者之出射光之偏光面相差45°的方式配置。
简体摘要：本发明提供一种激光照明设备，不造成设备之大型化及繁杂化，亦不造成照度降低，并能防止使用激光光作为光源时的干涉条纹发生。本发明于激光光之光路依序配置有：偏光消除板6、复眼式透镜7及聚光透镜8、9。偏光消除板6系有多个相位差板6a～6d以1：1对应于透镜单元的方式配置，相位差板具有对应于复眼式透镜7之各透镜单元之大小且使入射的激光光获得相位差而出射，各相位差板系以相邻者之出射光之偏光面相差45°的方式配置。

14. 发明专利

TW201000971A 具改善亮度之ＯＥＬＤ用偏光板 POLARIZER FOR OELD HAVING IMPROVED BRIGHTNESS 审中-公开
公开(公告)号：TW201000971A
公开(公告)日：2010-01-01
申请号：TW098117048
申请日：2009-05-22
申请人： LG化學公司
发明人：金信英 , 尹赫 , 朴文洙 , 巴利耶瑟極
IPC分类号： G02B , H01L
CPC分类号： H01L51/50 , G02B5/30 , G02B5/3033 , G02B27/28 , H01L33/58 , H01L51/5262 , H01L51/5281 , H01L51/5293
摘要：本發明係有關於一種具改善亮度之有機發光二極體(OELD)用偏光板。此包括一線性偏光片及一1/4延遲板之偏光板係包括：一反射偏光膜，係設置在線性偏光片及1/4延遲板之間，且反射偏光膜可使一與線性偏光片之穿透軸同水平之偏振光穿過，但反射一與線性偏光片之穿透軸垂直之偏振光。當本發明之偏光板做為OLED裝置之偏光板時，可有效大幅改善OLED裝置之亮度。
简体摘要：本发明系有关于一种具改善亮度之有机发光二极管(OELD)用偏光板。此包括一线性偏光片及一1/4延迟板之偏光板系包括：一反射偏光膜，系设置在线性偏光片及1/4延迟板之间，且反射偏光膜可使一与线性偏光片之穿透轴同水平之偏振光穿过，但反射一与线性偏光片之穿透轴垂直之偏振光。当本发明之偏光板做为OLED设备之偏光板时，可有效大幅改善OLED设备之亮度。

15. 发明专利

TW200907429A 偏光纖維、偏光片、偏光板、積層光學薄膜及圖像顯示裝置失效
简体标题：偏光纤维、偏光片、偏光板、积层光学薄膜及图像显示设备
公开(公告)号：TW200907429A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097121709
申请日：2008-06-11
申请人：日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
发明人：宮武稔 MIYATAKE, MINORU , 西村明憲 NISHIMURA, AKINORI , 品川雅 SHINAGAWA, MASASHI , 岩河康子 IWAKAWA, YASUKO
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/30 , D01D5/36 , D01F8/06 , D01F8/10 , G02B5/3025 , G02B27/28
摘要：本發明之偏光纖維,其垂直於長軸方向的斷面形成海島構造,同時該斷面形狀係沿長軸方向連續地形成。形成海島構造之海部分的樹脂(海成分)含有二色性色素,形成海島構造之島部分的樹脂(島成分)則為透明樹脂。本發明之偏光纖維可以做為,例如,偏光片之形成材料來使用。若使用前述偏光纖維,可以形成少有透射率不均勻和裂紋之偏光片。
简体摘要：本发明之偏光纤维,其垂直于长轴方向的断面形成海岛构造,同时该断面形状系沿长轴方向连续地形成。形成海岛构造之海部分的树脂(海成分)含有二色性色素,形成海岛构造之岛部分的树脂(岛成分)则为透明树脂。本发明之偏光纤维可以做为,例如,偏光片之形成材料来使用。若使用前述偏光纤维,可以形成少有透射率不均匀和裂纹之偏光片。

16. 发明专利

TWI247339B 利用極化光之微影印刷 LITHOGRAPHIC PRINTING WITH POLARIZED LIGHT 有权
简体标题：利用极化光之微复印刷 LITHOGRAPHIC PRINTING WITH POLARIZED LIGHT
公开(公告)号：TWI247339B
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：TW093104315
申请日：2004-02-20
申请人：艾斯摩控股股份有限公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：納畢拉巴巴阿里 BABA-ALI, NABILA , 賈斯汀克魯瑟 KREUZER, JUSTIN L. , 海瑞希威爾 SEWELL, HARRY O.
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70566 , G02B27/28 , G03F7/2006
摘要：本發明提供以極化光改進微影印刷的系統及方法。在本發明的實施例中，極化光(放射或切線極化)係用於照亮相移遮罩(PSM)，並產生一曝光光束。一負光阻層接著經由該曝光光束的光而曝光。可使用一無鉻PSM。在本發明的進一步實施例中，放射極化光係用於照亮一遮罩並產生一曝光光束。一正光阻層接著經由該曝光光束的光而曝光。該遮罩可為一衰減PSM或二元遮罩。即使當在低k應用時，印刷不同點距的接點孔，亦可獲得極高的影像品質。
简体摘要：本发明提供以极化光改进微复印刷的系统及方法。在本发明的实施例中，极化光(放射或切线极化)系用于照亮相移遮罩(PSM)，并产生一曝光光束。一负光阻层接着经由该曝光光束的光而曝光。可使用一无铬PSM。在本发明的进一步实施例中，放射极化光系用于照亮一遮罩并产生一曝光光束。一正光阻层接着经由该曝光光束的光而曝光。该遮罩可为一衰减PSM或二元遮罩。即使当在低k应用时，印刷不同点距的接点孔，亦可获得极高的影像品质。

17. 发明专利

TW200521500A 光學元件、聚光背光系統及液晶顯示裝置失效
简体标题：光学组件、聚光背光系统及液晶显示设备
公开(公告)号：TW200521500A
公开(公告)日：2005-07-01
申请号：TW093126874
申请日：2004-09-06
申请人：日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
发明人：高橋直樹 TAKAHASHI, NAOKI , 原和孝 HARA, KAZUTAKA , 白男川美紀 SHIRAOGAWA, MIKI , 武田健太郎 TAKEDA, KENTAROU
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B6/0056 , G02B5/3016 , G02B27/28 , G02F1/133536 , G02F1/13362 , G02F2001/133543
摘要：本發明係一種光學元件，其特徵為層疊有偏光元件(A)及直線偏光反射型偏光件(B)，該偏光元件(A)係將入射光進行偏光分離後出射且含有膽固醇型液晶，該直線偏光反射型偏光件(B)係使正交之直線偏光中的一方透過，並選擇性反射他方；且偏光元件(A)使相對於法線方向入射光之出射光的失真率為0.5以上，相對於自法線方向傾斜60°以上入射之入射光，其出射光之失真率為0.2以下，出射光之直線偏光成分隨入射角度增大而增大之光學元件可將來自光源之入射光聚光化、平行光化，並可抑制任意方向之光之透過。
简体摘要：本发明系一种光学组件，其特征为层叠有偏光组件(A)及直线偏光反射型偏光件(B)，该偏光组件(A)系将入射光进行偏光分离后出射且含有胆固醇型液晶，该直线偏光反射型偏光件(B)系使正交之直线偏光中的一方透过，并选择性反射他方；且偏光组件(A)使相对于法线方向入射光之出射光的失真率为0.5以上，相对于自法线方向倾斜60°以上入射之入射光，其出射光之失真率为0.2以下，出射光之直线偏光成分随入射角度增大而增大之光学组件可将来自光源之入射光聚光化、平行光化，并可抑制任意方向之光之透过。

18. 发明专利

TW201802878A 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法审中-公开
简体标题：照明光学设备、曝光设备、曝光方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201802878A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106136844
申请日：2004-10-15
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：白石直正 , SHIRAISHI,NAOMASA
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G02B27/28
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0006 , G02B5/3083 , G02B27/28 , G02B27/283 , G02B27/286 , G03F7/70108 , G03F7/70341 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要：本發明提供一種投影曝光裝置，在以規定的偏光(optical polarization) 狀態之照明光來照明光罩(mask)之際，可使光量損失減少。此投影曝光裝置具有照明光學系統ILS與投影光學系統PL。其中，照明光學系統ILS係以照明光IL來照射光柵(reticle)R，投影光學系統PL，係將光柵R之圖案的像投影於晶圓(wafer)W上。在照明光學系統ILS中，從曝光光源1以直線偏光狀態所射出之照明光IL，係通過進相軸之方向相異的第一及第二複折射構件12、13，大略在特定環帶狀之領域以光軸為中心之圓周方向上實質上變換成直線偏光之偏光狀態後，經複眼透鏡14等以環帶照明條件來照明該光柵R。
简体摘要：本发明提供一种投影曝光设备，在以规定的偏光(optical polarization) 状态之照明光来照明光罩(mask)之际，可使光量损失减少。此投影曝光设备具有照明光学系统ILS与投影光学系统PL。其中，照明光学系统ILS系以照明光IL来照射光栅(reticle)R，投影光学系统PL，系将光栅R之图案的像投影于晶圆(wafer)W上。在照明光学系统ILS中，从曝光光源1以直线偏光状态所射出之照明光IL，系通过进相轴之方向相异的第一及第二复折射构件12、13，大略在特定环带状之领域以光轴为中心之圆周方向上实质上变换成直线偏光之偏光状态后，经复眼透镜14等以环带照明条件来照明该光栅R。

19. 发明专利

TW201741748A 複合膜以及顯示裝置审中-公开
简体标题：复合膜以及显示设备
公开(公告)号：TW201741748A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105116042
申请日：2016-05-24
申请人：揚昇照明股份有限公司 , YOUNG LIGHTING TECHNOLOGY INC.
发明人：方崇仰 , FANG, CHONG-YANG , 王文俊 , WANG, WEN-CHUN , 陳紀文 , CHEN, CHI-WEN
IPC分类号： G02F1/13363 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/3041 , G02B5/3033 , G02B5/3083 , G02B27/28 , G02F1/13362 , G02F1/13363 , G02F2413/08
摘要：一種複合膜，其包括第一偏光膜、至少一第二偏光膜以及至少一第一相位補償膜。第一偏光膜具有第一穿透軸。各第二偏光膜具有平行於第一穿透軸的第二穿透軸。所述至少一第一相位補償膜配置於第一偏光膜與所述至少一第二偏光膜之間。各第一相位補償膜具有第一光軸。第一光軸於第一偏光膜上的正投影平行於第一穿透軸的軸向，且第一光軸與第一偏光膜之間的第一夾角大於0度且小於90度。另提供一種顯示裝置。
简体摘要：一种复合膜，其包括第一偏光膜、至少一第二偏光膜以及至少一第一相位补偿膜。第一偏光膜具有第一穿透轴。各第二偏光膜具有平行于第一穿透轴的第二穿透轴。所述至少一第一相位补偿膜配置于第一偏光膜与所述至少一第二偏光膜之间。各第一相位补偿膜具有第一光轴。第一光轴于第一偏光膜上的正投影平行于第一穿透轴的轴向，且第一光轴与第一偏光膜之间的第一夹角大于0度且小于90度。另提供一种显示设备。

20. 发明专利

TWI592766B 微影投影曝光設備的光學系統有权
简体标题：微影投影曝光设备的光学系统
公开(公告)号：TWI592766B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW102146156
申请日：2013-12-13
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：毛爾曼弗瑞德 , MAUL, MANFRED
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/28 , G02B17/06
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/3075 , G02B5/3091 , G02B17/06 , G02B27/28 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70566

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