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    • 14. 发明专利
    • 濾波波長之裝置及方法 DEVICE AND METHOD FOR WAVELENGTH FILTERING
    • 滤波波长之设备及方法 DEVICE AND METHOD FOR WAVELENGTH FILTERING
    • TW200619723A
    • 2006-06-16
    • TW094133410
    • 2005-09-26
    • IDC公司 IDC, LLC
    • 布萊恩J 蓋利 GALLY, BRIAN J.威廉J 卡密司 CUMMINGS, WILLIAM J.
    • G02FG02B
    • G02B26/001G02B6/29356G09G3/3466Y10T29/49002
    • 本發明之實施例包括用於濾波波長之裝置及方法。舉例而言,本發明之一實施例包括一種包含複數個顯示元件之顯示器,該複數個顯示元件各自包含一可移動反射器、一第一部分反射器及一第二部分反射器。該第一部分反射器定位於距該可移動反射器一第一距離處並於其間形成一第一光學諧振空腔。該第二部分反射器定位於距該第一部分反射器一第二距離處並於其間形成一第二光學諧振空腔。在各個實施例中,該可移動反射器可相對於該第一部分反射器移動以改變該第一光學空腔。其他實施例包括一種製作裝置之方法。
    • 本发明之实施例包括用于滤波波长之设备及方法。举例而言,本发明之一实施例包括一种包含复数个显示组件之显示器,该复数个显示组件各自包含一可移动反射器、一第一部分反射器及一第二部分反射器。该第一部分反射器定位于距该可移动反射器一第一距离处并于其间形成一第一光学谐振空腔。该第二部分反射器定位于距该第一部分反射器一第二距离处并于其间形成一第二光学谐振空腔。在各个实施例中,该可移动反射器可相对于该第一部分反射器移动以改变该第一光学空腔。其他实施例包括一种制作设备之方法。
    • 19. 发明专利
    • 用以修改一干涉調變器之偏移電壓特性之方法 PROCESS FOR MODIFYING OFFSET VOLTAGE CHARACTERISTICS OF AN INTERFEROMETRIC MODULATOR
    • 用以修改一干涉调制器之偏移电压特性之方法 PROCESS FOR MODIFYING OFFSET VOLTAGE CHARACTERISTICS OF AN INTERFEROMETRIC MODULATOR
    • TW200626951A
    • 2006-08-01
    • TW094132358
    • 2005-09-19
    • IDC公司 IDC, LLC
    • 威廉J 卡密司 CUMMINGS, WILLIAM J.布萊恩J 蓋利 GALLY, BRIAN J.
    • G02B
    • G09G3/3466G02B26/001G09G2320/0204
    • 本發明揭示一種依據一組特定的處理參數來製造而可具有一非零偏移電壓之干涉調變器。一經開發出之程序用以修改該等處理參數以令該非零電壓偏移成更接近零。例如,該程序可涉及識別一組用以製造一干涉調變器而令該干涉調變器產生一非零偏移電壓之處理參數。然後可修改該組處理參數以令該非零偏移電壓偏移成更接近零。例如,修改該組處理參數可涉及:修改用於製造該干涉調變器之一或多個沉積參數;向該干涉調變器施加一電流(例如,一反作用電流)及/或對該干涉調變器進行退火。依據該組經修改的處理參數而製造之干涉調變器可具有更佳的性能及/或更簡單的驅動方案。
    • 本发明揭示一种依据一组特定的处理参数来制造而可具有一非零偏移电压之干涉调制器。一经开发出之进程用以修改该等处理参数以令该非零电压偏移成更接近零。例如,该进程可涉及识别一组用以制造一干涉调制器而令该干涉调制器产生一非零偏移电压之处理参数。然后可修改该组处理参数以令该非零偏移电压偏移成更接近零。例如,修改该组处理参数可涉及:修改用于制造该干涉调制器之一或多个沉积参数;向该干涉调制器施加一电流(例如,一反作用电流)及/或对该干涉调制器进行退火。依据该组经修改的处理参数而制造之干涉调制器可具有更佳的性能及/或更简单的驱动方案。