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    • 15. 发明专利
    • 半導體發光裝置 SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE
    • 半导体发光设备 SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE
    • TW201130157A
    • 2011-09-01
    • TW099129502
    • 2010-09-01
    • 東芝股份有限公司
    • 名古肇橘浩一彥坂年輝木村重哉布上真也
    • H01L
    • H01L33/12B82Y20/00H01L33/04H01L33/32H01S5/34333
    • 根據一個實施例,半導體發光裝置包括n型及p型半導體層、一發光部份、一多層式結構本體、及一n側中間層。該發光部份被設置在該等半導體層之間。該發光部份包括含有GaN之隔離層、及一設置在該等隔離層間之井層。該井層包含Inx1Ga1-x1N。該本體被設置在該n型半導體層及該發光部份之間。本體包括:含有GaN之第一層、及被設置在該等第一層間之第二層。該第二層包含Inx2Ga1-x2N。第二銦組成比率x2係不少於該第一銦組成比率x1之0.6倍,且係低於該第一銦組成比率x1。該中間層被設置在該本體及該發光部份之間,且包括含有Aly1Ga1-y1N(0
    • 根据一个实施例,半导体发光设备包括n型及p型半导体层、一发光部份、一多层式结构本体、及一n侧中间层。该发光部份被设置在该等半导体层之间。该发光部份包括含有GaN之隔离层、及一设置在该等隔离层间之井层。该井层包含Inx1Ga1-x1N。该本体被设置在该n型半导体层及该发光部份之间。本体包括:含有GaN之第一层、及被设置在该等第一层间之第二层。该第二层包含Inx2Ga1-x2N。第二铟组成比率x2系不少于该第一铟组成比率x1之0.6倍,且系低于该第一铟组成比率x1。该中间层被设置在该本体及该发光部份之间,且包括含有Aly1Ga1-y1N(0
    • 16. 发明专利
    • 半導體發光元件 SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE
    • 半导体发光组件 SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE
    • TW201034245A
    • 2010-09-16
    • TW098128679
    • 2009-08-26
    • 東芝股份有限公司
    • 柴田恭平彥坂年輝
    • H01L
    • H01L33/38H01L33/14H01L33/20H01L33/42
    • 本發明係一種半導體發光元件,其中,具備含有第1半導體層,和第2半導體層,和設置於前述第1半導體層與前述第2半導體層之間的發光層之半導體多層構造體,和連接於前述半導體多層構造體之前述第1半導體層的第1電極,和設置於前述半導體多層構造體之前述第2半導體層上方的第2電極,和連接於前述第2電極之第3電極;前述第2電極係具有對於前述半導體多層構造體之主面而言,從垂直的方向而視,設置於前述第1電極與前述第3電極之間,朝向於連結前述第1電極與前述第3電極之路徑而延伸存在的缺口乃至少形成有1個之第1範圍,和設置於前述第1電極的周圍,未形成有缺口之第2範圍,和設置於前述第3電極的周圍,未形成有缺口之第3範圍。
    • 本发明系一种半导体发光组件,其中,具备含有第1半导体层,和第2半导体层,和设置于前述第1半导体层与前述第2半导体层之间的发光层之半导体多层构造体,和连接于前述半导体多层构造体之前述第1半导体层的第1电极,和设置于前述半导体多层构造体之前述第2半导体层上方的第2电极,和连接于前述第2电极之第3电极;前述第2电极系具有对于前述半导体多层构造体之主面而言,从垂直的方向而视,设置于前述第1电极与前述第3电极之间,朝向于链接前述第1电极与前述第3电极之路径而延伸存在的缺口乃至少形成有1个之第1范围,和设置于前述第1电极的周围,未形成有缺口之第2范围,和设置于前述第3电极的周围,未形成有缺口之第3范围。