专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

TWI450822B 積層薄膜有权
简体标题：积层薄膜
公开(公告)号：TWI450822B
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW098135329
申请日：2009-10-20
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啟 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： B32B27/08 , B32B27/30 , C08K3/24 , C08K3/38
CPC分类号： C08J7/047 , C08J2367/00 , C08J2429/00

12. 发明专利

TW201348017A 液壓轉印用基膜审中-公开
简体标题：液压转印用基膜
公开(公告)号：TW201348017A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102109790
申请日：2013-03-20
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 練苧喬士 , NERIO, TAKASHI
IPC分类号： B44C1/175
CPC分类号： B44C1/175
摘要：本發明之技術課題係提供一種可充分防止浮在液面時造成之卷縮而能夠形成轉印效率優越的液壓轉印用膜之液壓轉印用基膜、由此所形成的液壓轉印用膜及使用該液壓轉印用膜之液壓轉印方法。本發明之解決手段係：在邊緣部分3具有線狀切槽之液壓轉印用基膜1；由在該液壓轉印用基膜1之表面上實施印刷而成的液壓轉印用膜；及一種液壓轉印方法，其具有：將該液壓轉印用膜之已實施印刷的面朝上而浮在液面的步驟、及從漂浮的液壓轉印用膜之上方將被轉印物壓入的步驟。
简体摘要：本发明之技术课题系提供一种可充分防止浮在液面时造成之卷缩而能够形成转印效率优越的液压转印用膜之液压转印用基膜、由此所形成的液压转印用膜及使用该液压转印用膜之液压转印方法。本发明之解决手段系：在边缘部分3具有线状切槽之液压转印用基膜1；由在该液压转印用基膜1之表面上实施印刷而成的液压转印用膜；及一种液压转印方法，其具有：将该液压转印用膜之已实施印刷的面朝上而浮在液面的步骤、及从漂浮的液压转印用膜之上方将被转印物压入的步骤。

13. 发明专利

TWI645221B 積層體、及偏光膜之製造方法有权
简体标题：积层体、及偏光膜之制造方法
公开(公告)号：TWI645221B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW102127781
申请日：2013-08-02
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/00 , B29C55/06 , B29K29/00 , B29L11/00

14. 发明专利

TWI639618B 乙烯醇系聚合物薄膜及使用其之光學薄膜之製造方法有权
简体标题：乙烯醇系聚合物薄膜及使用其之光学薄膜之制造方法
公开(公告)号：TWI639618B
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW103127015
申请日：2014-08-07
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08F16/06 , B29C55/04 , G02B5/30 , B29L7/00 , B29L11/00

15. 发明专利

TWI619619B 捲繞有液壓轉印用基底薄膜而成之卷、捲繞有液壓轉印用基底薄膜而成之卷之製造方法、液壓轉印用薄膜、液壓轉印用薄膜之製造方法及液壓轉印方法有权
简体标题：卷绕有液压转印用基底薄膜而成之卷、卷绕有液压转印用基底薄膜而成之卷之制造方法、液压转印用薄膜、液压转印用薄膜之制造方法及液压转印方法
公开(公告)号：TWI619619B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW102110909
申请日：2013-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 練苧喬士 , NERIO, TAKASHI , 秦秀行 , HADA, HIDEYUKI , 笹井弘治 , SASAI, KOUJI
IPC分类号： B41M1/40 , B41M3/12 , B44C1/175
CPC分类号： B26D1/245 , B26D1/02 , B26D2001/0053 , B44C1/1733

16. 发明专利

TW201719207A 偏光膜及其製造方法审中-公开
简体标题：偏光膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201719207A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW106102789
申请日：2013-08-02
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/00 , B29C55/06 , B29K29/00 , B29L11/00
CPC分类号： G02B5/3033 , B29C55/023 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , B32B27/08 , B32B27/22 , B32B27/306 , B32B2250/24 , B32B2307/4026 , B32B2307/42 , B32B2457/20 , B32B2457/202
摘要：本發明係提供一種即使沒有預先進行不溶化處理，在與水接觸的步驟中也可抑制PVA之溶出，且可使用通用的偏光膜製造設備簡便地製造偏光性能佳之偏光膜的積層體、及使用其之偏光膜之製造方法；以及提供一種偏光性能佳，同時在正交偏光(crossed nicol)狀態的紅色光之洩漏少的偏光膜、及其製造方法。一種製造方法，其係包含具有熱可塑性樹脂膜層與膨潤度為180%以上260%以下的PVA層之積層體、及將該積層體拉伸的步驟之偏光膜之製造方法；以及包含在雙折射率為45×10-3以上之基體吸附有二色性色素的偏光膜、及將具有熱可塑性樹脂膜層與PVA層的積層體拉伸為5.7倍以上的步驟之偏光膜之製造方法，PVA層所包含之PVA的平均聚合度為2,800以上9,500以下。
简体摘要：本发明系提供一种即使没有预雪铁龙行不溶化处理，在与水接触的步骤中也可抑制PVA之溶出，且可使用通用的偏光膜制造设备简便地制造偏光性能佳之偏光膜的积层体、及使用其之偏光膜之制造方法；以及提供一种偏光性能佳，同时在正交偏光(crossed nicol)状态的红色光之泄漏少的偏光膜、及其制造方法。一种制造方法，其系包含具有热可塑性树脂膜层与膨润度为180%以上260%以下的PVA层之积层体、及将该积层体拉伸的步骤之偏光膜之制造方法；以及包含在双折射率为45×10-3以上之基体吸附有二色性色素的偏光膜、及将具有热可塑性树脂膜层与PVA层的积层体拉伸为5.7倍以上的步骤之偏光膜之制造方法，PVA层所包含之PVA的平均聚合度为2,800以上9,500以下。

17. 发明专利

TW201529681A 聚乙烯醇薄膜审中-公开
公开(公告)号：TW201529681A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103139994
申请日：2014-11-19
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：大園達也 , OZONO, TATSUYA , 高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 風藤修 , KAZETO, OSAMU
IPC分类号： C08L29/04 , G02B1/04 , C08J5/18 , C08J7/00 , B29C55/04 , G02B5/30 , G01J4/00 , G01N21/21 , G01M11/00 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00
CPC分类号： C08J5/18 , C08J2329/04 , G02B5/3033 , G02F1/133528
摘要：本發明之目的係在於提供一種能容易地製造偏光薄膜之PVA薄膜，該偏光薄膜係即使不使用其本身為具優越的色澤且穿透度低的光學薄膜也能製造色澤優越的LCD，而且能製造畫面明亮的LCD。一種PVA薄膜，其係下述斜率的最小值為-0.84至-0.783N/mm2‧秒；以夾頭間距1.5cm，使其沿長邊方向予以拉伸的方式來將從PVA薄膜所切割的寬度方向3cm之試樣設置於自動立體測圖儀，在30℃之水中浸漬1分鐘後，於該水中，以240%/分鐘之速度沿長邊方向拉伸，於應力成為11.1N/mm2時，固定夾頭間距，將時間作為橫軸、將應力作為縱軸而將其後之應力隨時間的變化作圖時，在該圖上各點的斜率之最小值。
简体摘要：本发明之目的系在于提供一种能容易地制造偏光薄膜之PVA薄膜，该偏光薄膜系即使不使用其本身为具优越的色泽且穿透度低的光学薄膜也能制造色泽优越的LCD，而且能制造画面明亮的LCD。一种PVA薄膜，其系下述斜率的最小值为-0.84至-0.783N/mm2‧秒；以夹头间距1.5cm，使其沿长边方向予以拉伸的方式来将从PVA薄膜所切割的宽度方向3cm之试样设置于自动三維测图仪，在30℃之水中浸渍1分钟后，于该水中，以240%/分钟之速度沿长边方向拉伸，于应力成为11.1N/mm2时，固定夹头间距，将时间作为横轴、将应力作为纵轴而将其后之应力随时间的变化作图时，在该图上各点的斜率之最小值。

18. 发明专利

TW201509955A 光學薄膜製造用坯材薄膜审中-公开
简体标题：光学薄膜制造用坯材薄膜
公开(公告)号：TW201509955A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103127012
申请日：2014-08-07
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI
IPC分类号： C08F16/06 , G02B5/30 , B29C55/04 , B29L7/00 , B29L11/00
CPC分类号： C08F8/12 , C08F216/06 , C08F218/08 , C08J5/18 , C08J2329/04 , G02B5/3033 , C08F218/04 , C08F216/04
摘要：課題在於：提供一種延伸性優異、可生產性良好地製造光學薄膜，而且可容易地製造光學特性及色相均優良的光學薄膜之光學薄膜製造用坯材薄膜、及使用其之光學薄膜之製造方法。解決手段為：一種光學薄膜製造用坯材薄膜，其係含有包含乙烯醇單元、及下述式(1)所示之結構單元的含有羥甲基之乙烯醇系聚合物；及一種光學薄膜之製造方法，其係具有使用該光學薄膜製造用坯材薄膜來實施單軸延伸的步驟。
简体摘要：课题在于：提供一种延伸性优异、可生产性良好地制造光学薄膜，而且可容易地制造光学特性及色相均优良的光学薄膜之光学薄膜制造用坯材薄膜、及使用其之光学薄膜之制造方法。解决手段为：一种光学薄膜制造用坯材薄膜，其系含有包含乙烯醇单元、及下述式(1)所示之结构单元的含有羟甲基之乙烯醇系聚合物；及一种光学薄膜之制造方法，其系具有使用该光学薄膜制造用坯材薄膜来实施单轴延伸的步骤。

19. 发明专利

TWI680988B 改質聚乙烯醇、樹脂組成物及薄膜有权
简体标题：改质聚乙烯醇、树脂组成物及薄膜
公开(公告)号：TWI680988B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW104133142
申请日：2015-10-08
申请人：日商可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 加藤雅己 , KATO, MASAKI , 森容子 , MORI, YOKO
IPC分类号： C08F216/06 , C08F220/56 , C08G67/00 , C08F8/12 , C08J5/18

20. 发明专利

TWI644960B 聚乙烯醇薄膜、偏光薄膜、及其等之製造方法有权
简体标题：聚乙烯醇薄膜、偏光薄膜、及其等之制造方法
公开(公告)号：TWI644960B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW103139994
申请日：2014-11-19
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：大園達也 , OZONO, TATSUYA , 高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 風藤修 , KAZETO, OSAMU
IPC分类号： C08L29/04 , G02B1/04 , C08J5/18 , C08J7/00 , B29C55/04 , G02B5/30 , G01J4/00 , G01N21/21 , G01M11/00 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式