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    • 11. 发明专利
    • 3,8-二鹵素化-1,6-取代芘及其製造方法
    • 3,8-二卤素化-1,6-取代芘及其制造方法
    • TW200536924A
    • 2005-11-16
    • TW093128267
    • 2004-09-17
    • 出光興產股份有限公司 IDEMITSU KOSAN CO., LTD.
    • 舟橋正和 FUNAHASHI, MASAKAZU
    • C09K
    • C07C25/22C07C211/61C07C255/51C07C2601/14C07C2602/08C07C2602/10C07C2603/18C07C2603/50
    • 本發明係關於下述一般式(2)所示之一種3,8-二鹵素化-1,6-取代芘,其特徵為作為染料等之中間體,特別是作為電子照相感光體之電荷輸送材料、有機電致發光元件用材料及有機電致發光元件用之電洞輸送材料與發光材料之中間體為有用者。093128267-p01.bmp(式中,R1及R2係各自獨立之、取代或不取代之碳數1~50之烷基、取代或不取代之碳數5~50之芳基、取代或不取代之碳數7~50之芳烷基、取代或不取代之碳數3~50之環烷基、取代或不取代之碳數1~50之烷氧基、取代或不取代之碳數5~50芳氧基、鹵原子、氰基或甲矽烷基,X係鹵原子)。093128267-p01.bmp
    • 本发明系关于下述一般式(2)所示之一种3,8-二卤素化-1,6-取代芘,其特征为作为染料等之中间体,特别是作为电子照相感光体之电荷输送材料、有机电致发光组件用材料及有机电致发光组件用之电洞输送材料与发光材料之中间体为有用者。093128267-p01.bmp(式中,R1及R2系各自独立之、取代或不取代之碳数1~50之烷基、取代或不取代之碳数5~50之芳基、取代或不取代之碳数7~50之芳烷基、取代或不取代之碳数3~50之环烷基、取代或不取代之碳数1~50之烷氧基、取代或不取代之碳数5~50芳氧基、卤原子、氰基或甲硅烷基,X系卤原子)。093128267-p01.bmp