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11. 发明专利

TW201300937A 防塵薄膜組件製造用套件审中-公开
简体标题：防尘薄膜组件制造用套件
公开(公告)号：TW201300937A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101104114
申请日：2012-02-08
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI , 瀨間達也 , SEMA, TATSUYA
IPC分类号： G03F1/62
CPC分类号： G03F1/64
摘要：提供一種防塵薄膜組件框架的變形以及扭曲減低了的防塵薄膜組件製造用套件。本發明的防塵薄膜組件製造用夾具中，夾具針的前端頭部分與夾具孔的深部設置的圓錐部的圓錐面相抵接，藉由按壓該圓錐面，防塵薄膜組件框架被固定。
简体摘要：提供一种防尘薄膜组件框架的变形以及扭曲减低了的防尘薄膜组件制造用套件。本发明的防尘薄膜组件制造用夹具中，夹具针的前端头部分与夹具孔的深部设置的圆锥部的圆锥面相抵接，借由按压该圆锥面，防尘薄膜组件框架被固定。

12. 发明专利

TW202004332A 防護薄膜框架、防護薄膜組件及防護薄膜框架之製造方法审中-公开
简体标题：防护薄膜框架、防护薄膜组件及防护薄膜框架之制造方法
公开(公告)号：TW202004332A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108111464
申请日：2019-04-01
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： G03F1/64 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種防護薄膜框架、包含此防護薄膜框架之防護薄膜組件、及以良好產率製造此防護薄膜框架之方法，該防護薄膜框架在光微影的曝光步驟之中，即使於雜散光射抵防護薄膜框架的內側面之情形下，亦不因酸的脫離等而污染光罩，可抑制被誤認成異物之表面缺陷的產生而容易進行外觀檢查。本發明係關於一種防護薄膜框架及其製造方法與防護薄膜組件。該防護薄膜框架具備：框架母材；厚度2.0～7.5μm且黑色之陽極氧化被膜，形成於前述框架母材的表面；以及透明的聚合物電沉積塗膜，形成於前述陽極氧化被膜上。前述防護薄膜組件具備：前述防護薄膜框架；以及防護薄膜，設在前述防護薄膜框架的一端面。
简体摘要：本发明提供一种防护薄膜框架、包含此防护薄膜框架之防护薄膜组件、及以良好产率制造此防护薄膜框架之方法，该防护薄膜框架在光微影的曝光步骤之中，即使于杂散光射抵防护薄膜框架的内侧面之情形下，亦不因酸的脱离等而污染光罩，可抑制被误认成异物之表面缺陷的产生而容易进行外观检查。本发明系关于一种防护薄膜框架及其制造方法与防护薄膜组件。该防护薄膜框架具备：框架母材；厚度2.0～7.5μm且黑色之阳极氧化被膜，形成于前述框架母材的表面；以及透明的聚合物电沉积涂膜，形成于前述阳极氧化被膜上。前述防护薄膜组件具备：前述防护薄膜框架；以及防护薄膜，设在前述防护薄膜框架的一端面。

13. 发明专利

TWI608289B 防塵薄膜組件有权
简体标题：防尘薄膜组件
公开(公告)号：TWI608289B
公开(公告)日：2017-12-11
申请号：TW105142888
申请日：2016-12-23
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： G03F1/48 , G03F1/62
CPC分类号： G03F1/64

14. 发明专利

TWI440971B 防塵薄膜組件框架有权
简体标题：防尘薄膜组件框架
公开(公告)号：TWI440971B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：TW101104113
申请日：2012-02-08
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： G03F1/64
CPC分类号： G03F7/70983 , G03F1/64

15. 发明专利

TWI392958B 微影用防護薄膜組件有权
简体标题：微影用防护薄膜组件
公开(公告)号：TWI392958B
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：TW098110847
申请日：2009-04-01
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： G03F1/62
CPC分类号： G03F1/64

16. 发明专利

TWI335842B 對防護薄膜框架內面塗布粘接劑的塗布方法 METHOD OF APPLYING ADHESIVE TO INSIDE SURFACE OF PELLICLE FRAME 有权
简体标题：对防护薄膜框架内面涂布粘接剂的涂布方法 METHOD OF APPLYING ADHESIVE TO INSIDE SURFACE OF PELLICLE FRAME
公开(公告)号：TWI335842B
公开(公告)日：2011-01-11
申请号：TW097101600
申请日：2008-01-16
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：關原一敏 , 濱田裕一
IPC分类号： B05D
CPC分类号： G03F1/64
摘要：本發明之目的在於提供一種對防護薄膜框架內面塗布粘接劑的塗布方法，其對周圍環境不會造成污染，塗布品質以及其穩定性亦優良。
由於本發明將防護薄膜框架一個內面保持實質水平且朝上，邊從吐出口滴下經過溶媒稀釋的粘接劑邊移動吐出口，以塗布粘接劑，故不會因為粘接劑飛散而對作業環境或防護薄膜框架造成污染，再者，也不會發生未塗布或溢出的情況，能穩定製得外觀優良的塗膜。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种对防护薄膜框架内面涂布粘接剂的涂布方法，其对周围环境不会造成污染，涂布品质以及其稳定性亦优良。由于本发明将防护薄膜框架一个内面保持实质水平且朝上，边从吐出口滴下经过溶媒稀释的粘接剂边移动吐出口，以涂布粘接剂，故不会因为粘接剂飞散而对作业环境或防护薄膜框架造成污染，再者，也不会发生未涂布或溢出的情况，能稳定制得外观优良的涂膜。

17. 发明专利

TW201248313A 防塵薄膜組件框架 PELLICLE FRAME 审中-公开
简体标题：防尘薄膜组件框架 PELLICLE FRAME
公开(公告)号：TW201248313A
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW101104113
申请日：2012-02-08
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：濱田裕一
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70983 , G03F1/64
摘要：提供一種防塵薄膜組件框架,其在防塵薄膜組件的製造、搬運等處理夾具進行替換時,可以防止微粒的發生,使防塵薄膜組件的汙染變低。本發明的防塵薄膜組件框架,在相對的1對的邊上分別設置4個以上的防塵薄膜組件處理用的夾具孔,或者,在相對的2對邊上分別設置2個以上的夾具孔。
简体摘要：提供一种防尘薄膜组件框架,其在防尘薄膜组件的制造、搬运等处理夹具进行替换时,可以防止微粒的发生,使防尘薄膜组件的污染变低。本发明的防尘薄膜组件框架,在相对的1对的边上分别设置4个以上的防尘薄膜组件处理用的夹具孔,或者,在相对的2对边上分别设置2个以上的夹具孔。

18. 发明专利

TW201239517A 光刻用防護薄膜組件的黏貼方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR PASTING PELLICLE FOR LITHOGRAPHY 审中-公开
简体标题：光刻用防护薄膜组件的黏贴方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR PASTING PELLICLE FOR LITHOGRAPHY
公开(公告)号：TW201239517A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW100141950
申请日：2011-11-17
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：濱田裕一
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/64
摘要：本發明提供一種光刻用防護薄膜組件的黏貼方法,該方法在將防護薄膜組件黏貼到曝光用原板上時,可以使通過防護薄膜框架,施加到曝光用原板上的壓力均勻化,在黏貼防護薄膜組件時,能夠有效地防止曝光用原板產生變形。在加壓板(2)的與防護薄膜框架(6)對向的面上,以沿著防護薄膜組件的構成框架形狀的防護薄膜框架(6)的邊,與防護薄膜框架(6)對向的方式安裝多個彈簧部件(13),通過該多個彈簧部件(13),由加壓板(2)將防護薄膜組件的防護薄膜框架(6)朝著曝光用原板按壓。
简体摘要：本发明提供一种光刻用防护薄膜组件的黏贴方法,该方法在将防护薄膜组件黏贴到曝光用原板上时,可以使通过防护薄膜框架,施加到曝光用原板上的压力均匀化,在黏贴防护薄膜组件时,能够有效地防止曝光用原板产生变形。在加压板(2)的与防护薄膜框架(6)对向的面上,以沿着防护薄膜组件的构成框架形状的防护薄膜框架(6)的边,与防护薄膜框架(6)对向的方式安装多个弹簧部件(13),通过该多个弹簧部件(13),由加压板(2)将防护薄膜组件的防护薄膜框架(6)朝着曝光用原板按压。

19. 发明专利

TW201133129A 微影用防塵薄膜組件 PELLICLE FOR LITHOGRAPHY 审中-公开
简体标题：微影用防尘薄膜组件 PELLICLE FOR LITHOGRAPHY
公开(公告)号：TW201133129A
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW099138692
申请日：2010-11-10
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：濱田裕一
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/64
摘要：本發明提供一種微影用防塵薄膜組件，其可減少可能從氣壓調節孔產生或是從其通過的異物。該微影用防塵薄膜組件的特徵為：具有防塵薄膜組件框架，其設有從外周面貫通到內周面的氣壓調節孔，該氣壓調節孔的與深度方向垂直的剖面的剖面積S(mm 2 )和該氣壓調節孔的深度方向的長度L(mm)的比S/L在0.25mm以上5.0mm以下，該剖面積S宜在0.5mm 2 以上10.0mm 2 以下。
简体摘要：本发明提供一种微影用防尘薄膜组件，其可减少可能从气压调节孔产生或是从其通过的异物。该微影用防尘薄膜组件的特征为：具有防尘薄膜组件框架，其设有从外周面贯通到内周面的气压调节孔，该气压调节孔的与深度方向垂直的剖面的剖面积S(mm 2 )和该气压调节孔的深度方向的长度L(mm)的比S/L在0.25mm以上5.0mm以下，该剖面积S宜在0.5mm 2 以上10.0mm 2 以下。

20. 发明专利

TW454104B 供光罩保護用之框支持膜失效
简体标题：供光罩保护用之框支持膜
公开(公告)号：TW454104B
公开(公告)日：2001-09-11
申请号：TW085107995
申请日：1996-07-02
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：濱田裕一 , 田周
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/64 , Y10T428/249985
摘要：本發明提供一種進步之框支持膜，可供製造精密電子元件時對光石印圖型化工程之光罩提供防塵保護作用，其包含一個由硬質膜框;一個由塑性樹脂膜製成之高透光性薄膜，以不鬆弛的方式鋪設並黏著結合於膜框的一端表面;以及一層形成在膜框另一端表面上的壓敏黏著劑層，以便利安裝框支持膜至光罩表面上及固定於正確位置。其特點包含使形成在膜框端表面上的壓敏黏著劑層向外凸出成例如桶狀圓頂形而非如習知技術之平坦表面，以使習知技術中在安裝習知框支持膜時，因為黏著層表面與光罩表面間無可避免會產生空氣間隙所造成的問題得以免除。內外表面間壓力差對於薄膜氣密密封所造成的負面效應可藉由在膜框上提供一個空氣逸路穿孔並覆蓋濾片而予以解決。
简体摘要：本发明提供一种进步之框支持膜，可供制造精密电子组件时对光石印图型化工程之光罩提供防尘保护作用，其包含一个由硬质膜框;一个由塑性树脂膜制成之高透光性薄膜，以不松弛的方式铺设并黏着结合于膜框的一端表面;以及一层形成在膜框另一端表面上的压敏黏着剂层，以便利安装框支持膜至光罩表面上及固定于正确位置。其特点包含使形成在膜框端表面上的压敏黏着剂层向外凸出成例如桶状圆顶形而非如习知技术之平坦表面，以使习知技术中在安装习知框支持膜时，因为黏着层表面与光罩表面间无可避免会产生空气间隙所造成的问题得以免除。内外表面间压力差对于薄膜气密密封所造成的负面效应可借由在膜框上提供一个空气逸路穿孔并覆盖滤片而予以解决。

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