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    • 111. 发明专利
    • 電氣式去離子裝置
    • 电气式去离子设备
    • TW200401751A
    • 2004-02-01
    • TW092118384
    • 2003-07-04
    • 栗田工業股份有限公司 KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
    • 佐藤伸 SATO, SHIN
    • C02F
    • C02F1/4695B01D61/48B01J47/08C02F1/42C02F2201/46115
    • 本發明提供一種可高度地除去氧化矽及硼之電氣式去離子裝置。其具備有:具有陽極11之陽極室17,及具有陰極12之陰極室18,及在這些陽極室17與陰極室18之間交錯地配置有複數之陰離子交換膜13及陽離子交換膜14而交錯地形成有濃縮室15及脫鹽室16,及充填於該脫鹽室16及該濃縮室15之離子交換體。陰離子交換體與陽離子交換體(體積比)為8/2~5/5。使電極水分別在陽極室17及陰極室18中進行通水,使濃縮水在濃縮室中進行通水,在該脫鹽室中使原水進行通水而取出去離子水。濃縮水係氧化矽及硼之濃度比原水更低之水,從脫鹽室16之去離子水取出側朝向原水流入側之方向在濃縮室15中通水,從濃縮室15中流出之濃縮水至少一部分被排出到系統外。
    • 本发明提供一种可高度地除去氧化硅及硼之电气式去离子设备。其具备有:具有阳极11之阳极室17,及具有阴极12之阴极室18,及在这些阳极室17与阴极室18之间交错地配置有复数之阴离子交换膜13及阳离子交换膜14而交错地形成有浓缩室15及脱盐室16,及充填于该脱盐室16及该浓缩室15之离子交换体。阴离子交换体与阳离子交换体(体积比)为8/2~5/5。使电极水分别在阳极室17及阴极室18中进行通水,使浓缩水在浓缩室中进行通水,在该脱盐室中使原水进行通水而取出去离子水。浓缩水系氧化硅及硼之浓度比原水更低之水,从脱盐室16之去离子水取出侧朝向原水流入侧之方向在浓缩室15中通水,从浓缩室15中流出之浓缩水至少一部分被排出到系统外。
    • 114. 发明专利
    • 水處理劑及處理水之方法
    • 水处理剂及处理水之方法
    • TW430638B
    • 2001-04-21
    • TW085110128
    • 1996-08-20
    • 栗田工業股份有限公司
    • 鈴木隆守永日出夫平野昭英
    • C02F
    • 本發明係關於一種新穎水處理劑及使用該劑處理之水方法。更精確言之,本發明係關於經使用於鍋爐、冷卻水系統、熱水系統及除塵自來水廠中之新穎水處理劑以便防止此等系統由於熱傳遞失效,流速降低及經由結垢、污泥及淤泥之黏附或沉積在加熱的管子上、熱交換器上、冷凝器上、聚合反應器上與其中之各種管道中所造成的局部腐蝕所形成的障礙,且亦與使用該處理劑處理其中之水的方法有關。本發明所用的水處理劑為由共軛二烯磺酸及/或其鹽類、(甲基)丙烯酸及/或其鹽類,與(甲基)丙烯醯胺基-2-甲基烷基磺酸及/或其鹽類共聚合而成的重量平均分子量500至300,000之三元共聚體。
    • 本发明系关于一种新颖水处理剂及使用该剂处理之水方法。更精确言之,本发明系关于经使用于锅炉、冷却水系统、热水系统及除尘自来水厂中之新颖水处理剂以便防止此等系统由于热传递失效,流速降低及经由结垢、污泥及淤泥之黏附或沉积在加热的管子上、热交换器上、冷凝器上、聚合反应器上与其中之各种管道中所造成的局部腐蚀所形成的障碍,且亦与使用该处理剂处理其中之水的方法有关。本发明所用的水处理剂为由共轭二烯磺酸及/或其盐类、(甲基)丙烯酸及/或其盐类,与(甲基)丙烯酰胺基-2-甲基烷基磺酸及/或其盐类共聚合而成的重量平均分子量500至300,000之三元共聚体。