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    • 95. 发明专利
    • 半導體封裝之晶粒墊 DIE PAD FOR SEMICONDUCTOR PACKAGES
    • 半导体封装之晶粒垫 DIE PAD FOR SEMICONDUCTOR PACKAGES
    • TWI325620B
    • 2010-06-01
    • TW095132903
    • 2006-09-06
    • 先進連接科技有限公司
    • 沙費多 伊斯蘭瑞瑪里可 聖托斯 聖 安東尼奧安那格 沙巴吉歐
    • H01L
    • H01L23/49503H01L21/561H01L21/568H01L23/3107H01L23/49548H01L24/29H01L24/45H01L24/48H01L24/49H01L24/73H01L24/86H01L24/97H01L2224/05599H01L2224/2919H01L2224/32245H01L2224/45124H01L2224/45139H01L2224/45144H01L2224/48091H01L2224/48227H01L2224/48247H01L2224/48257H01L2224/48465H01L2224/48639H01L2224/48644H01L2224/48655H01L2224/48664H01L2224/48739H01L2224/48744H01L2224/48755H01L2224/48764H01L2224/4911H01L2224/49171H01L2224/73265H01L2224/83001H01L2224/83101H01L2224/85001H01L2224/85205H01L2224/85439H01L2224/85444H01L2224/85455H01L2224/85464H01L2224/92H01L2224/92247H01L2224/97H01L2924/00011H01L2924/00014H01L2924/01006H01L2924/01013H01L2924/01015H01L2924/01028H01L2924/01029H01L2924/01033H01L2924/01046H01L2924/01047H01L2924/01078H01L2924/01079H01L2924/01082H01L2924/01088H01L2924/014H01L2924/14H01L2924/181H01L2924/18301H01L2924/19107H01L2224/82H01L2224/85H01L2224/83H01L2224/86H01L2924/0665H01L2924/00H01L2924/3512H01L2924/00012H01L2224/45015H01L2924/207H01L2924/01005
    • 本發明揭示一種半導體裝置封裝(10),其包括至少部分由一模製化合物(18)所覆蓋的一半導體裝置(20)與一導電引線框架(22)。該導電引線框架(22)包括:複數個引線(23),其位於該封裝(10)的周邊附近;以及一晶粒墊(30),其位於由該等複數個引線(23)所形成之中央區域。該半導體裝置(20)係黏附至該晶粒墊(30),而從該晶粒(20)向外延伸之該晶粒墊(30)的一部分係粗糙的,以提升對該模製化合物(18)的黏著。就其他方面而言,溝槽(50、52)係位於晶粒墊(30)表面,以進一步提升該晶粒墊(30)的黏著,同時能夠避免濕氣滲入該半導體晶片(20)的附近。 【創作特點】 上述先前技術之缺陷係因一包含至少部分由模製化合物覆蓋之一半導體裝置與一導電引線框架的半導體裝置封裝而得以克服或改善。該模製化合物會形成一第一封裝面、對立於該第一封裝面之一第二封裝面與延伸於該等第一與第二封裝面間之封裝側面的至少一部分。該導電引線框架包括:複數個引線,其位於該封裝的周邊附近;以及一晶粒墊,其位於由該等複數個引線所形成之中央區域。每一引線具有一位於該第一封裝面之第一引線表面與一將供該半導體裝置電連接之接和點。該晶粒墊包括:一第一晶粒墊表面,其位於該第一封裝面;以及一第二晶粒墊表面,其對立於該第一晶粒墊表面。該半導體裝置係黏附至該第二晶粒墊表面之中央區域,且該第二晶粒墊會從該晶粒向外延伸,並接觸該模製化合物。接觸該模製化合物之第二表面的至少一部分係粗糙的,以提升該模製化合物與該晶粒墊之間的黏著。該第二表面之粗糙部分可具有大於約0.4微米,且較佳地大於約0.5微米之平均粗糙度(Ra)。
      就另一方面而言,第一複數個溝槽係位於該第二晶粒墊表面,且該等第一複數個溝槽當中每一溝槽一般會與一個別晶粒墊側表面平行延伸,且自該表面偏移,同時會位於該個別晶粒墊側表面與該半導體裝置之間。該等溝槽之深度可介於該晶粒墊輪廓高度的約30%至約70%,且較佳地介於該晶粒墊輪廓高度的約40%至約60%。第二複數個溝槽會位於該第二晶粒墊表面,且該等第二複數個溝槽當中每一溝槽會從該等第一複數個溝槽當中的一溝槽延伸至一個別晶粒墊側表面。
      就另一方面而言,至少一第一溝槽係橫跨該第一晶粒墊表面而放置,且該至少一第一溝槽會在該半導體裝置之下延伸。該等至少一第一溝槽之深度可介於該晶粒墊輪廓高度的約30%至約70%,且較佳地介於該晶粒墊輪廓高度的約40%至約60%。複數個第二溝槽會位於該第一晶粒墊表面,且該等複數個第二溝槽當中每一第二溝槽一般會與一個別晶粒墊側表面平行延伸,自該表面偏移。該晶粒墊可包括將其穿透的至少一孔徑,且該至少一孔徑係位於該等第一與第二溝槽其中至少一者,以供接收該模製化合物。
      於該等具體實施例之任一者中,該晶粒墊可進一步包括從其延伸的繫桿,且至少一唇部可延伸自該晶粒墊的側表面。同時,至少一孔徑可從該晶粒墊之第一側延伸至該晶粒墊之第二側,且該半導體裝置會跨越該至少一孔徑,以利濕氣能從該封裝排出。
      一種形成一半導體裝置封裝之方法,其包括:形成一導電引線框架,其包括:複數個引線,其位於該封裝之周邊附近;以及一晶粒墊,其位於由該等複數個引線所形成之中央區域;使該晶粒墊之第二表面的至少一部分粗糙化;使一半導體裝置黏附至該晶粒墊之第二表面;使於該半導體裝置上之I/O墊電連接至該等引線;以及對該等半導體裝置與引線框架施加模製化合物,使得該模製化合物會黏著至該引線框架之第二表面的粗糙部分,且使得對立於該引線框架第二表面之該引線框架第一表面會從該模製化合物曝露出來。該方法進一步包括:在施加該模製化合物之後,分割該等複數個互連引線框架,以提供複數個半導體裝置。該第二表面之粗糙部分可具有大於約0.4微米,且較佳地大於約0.5微米之平均粗糙度(Ra)。
      就其中一方面而言,該方法包括於該第二晶粒墊表面形成複數個溝槽,且該等複數個溝槽當中每一溝槽一般會與一個別晶粒墊側表面平行延伸,且自該表面偏移,同時會位於該個別晶粒墊側表面與該半導體裝置之間。該方法可能亦包括於該第二晶粒墊表面形成第二複數個溝槽,且該等第二複數個溝槽當中每一溝槽會從該等第一複數個溝槽當中的一溝槽延伸至一個別晶粒墊側表面。
      就另一方面而言,該方法包括於該第一晶粒墊表面形成至少一第一溝槽,且該至少一第一溝槽會在該半導體裝置之下延伸。該方法亦可能包括於該第一晶粒墊表面形成複數個第二溝槽,且該等第二複數個第二溝槽當中每一第二溝槽一般會與一個別晶粒墊側表面平行延伸,且自該表面偏移。該方法可進一步包括使至少一孔徑穿透該晶粒墊而放置,其中該至少一孔徑係位於該等第一與第二溝槽其中至少一者,並且會接收該模製化合物。
      於該等具體實施例之任一者中,該晶粒墊可進一步包括從其延伸的繫桿,且該方法可進一步包括:蝕刻與該晶粒墊第一表面共面之繫桿表面的一部分,以形成自該晶粒墊之第一表面偏移的繫桿表面。該方法亦可包括於該晶粒墊之側表面處形成至少一唇部。同時,至少一孔徑可從該晶粒墊之第一側延伸至該晶粒墊之第二側,且該半導體裝置會跨越該至少一孔徑,以利濕氣能從該封裝排出。
      附圖與下文說明中會提出本發明之一或更多項具體實施例的細節。從該說明與附圖以及申請專利範圍將可明白本發明的其他特徵、目的與優點。
    • 本发明揭示一种半导体设备封装(10),其包括至少部分由一模制化合物(18)所覆盖的一半导体设备(20)与一导电引线框架(22)。该导电引线框架(22)包括:复数个引线(23),其位于该封装(10)的周边附近;以及一晶粒垫(30),其位于由该等复数个引线(23)所形成之中央区域。该半导体设备(20)系黏附至该晶粒垫(30),而从该晶粒(20)向外延伸之该晶粒垫(30)的一部分系粗糙的,以提升对该模制化合物(18)的黏着。就其他方面而言,沟槽(50、52)系位于晶粒垫(30)表面,以进一步提升该晶粒垫(30)的黏着,同时能够避免湿气渗入该半导体芯片(20)的附近。 【创作特点】 上述先前技术之缺陷系因一包含至少部分由模制化合物覆盖之一半导体设备与一导电引线框架的半导体设备封装而得以克服或改善。该模制化合物会形成一第一封装面、对立于该第一封装面之一第二封装面与延伸于该等第一与第二封装面间之封装侧面的至少一部分。该导电引线框架包括:复数个引线,其位于该封装的周边附近;以及一晶粒垫,其位于由该等复数个引线所形成之中央区域。每一引线具有一位于该第一封装面之第一引线表面与一将供该半导体设备电连接之接和点。该晶粒垫包括:一第一晶粒垫表面,其位于该第一封装面;以及一第二晶粒垫表面,其对立于该第一晶粒垫表面。该半导体设备系黏附至该第二晶粒垫表面之中央区域,且该第二晶粒垫会从该晶粒向外延伸,并接触该模制化合物。接触该模制化合物之第二表面的至少一部分系粗糙的,以提升该模制化合物与该晶粒垫之间的黏着。该第二表面之粗糙部分可具有大于约0.4微米,且较佳地大于约0.5微米之平均粗糙度(Ra)。 就另一方面而言,第一复数个沟槽系位于该第二晶粒垫表面,且该等第一复数个沟槽当中每一沟槽一般会与一个别晶粒垫侧表面平行延伸,且自该表面偏移,同时会位于该个别晶粒垫侧表面与该半导体设备之间。该等沟槽之深度可介于该晶粒垫轮廓高度的约30%至约70%,且较佳地介于该晶粒垫轮廓高度的约40%至约60%。第二复数个沟槽会位于该第二晶粒垫表面,且该等第二复数个沟槽当中每一沟槽会从该等第一复数个沟槽当中的一沟槽延伸至一个别晶粒垫侧表面。 就另一方面而言,至少一第一沟槽系横跨该第一晶粒垫表面而放置,且该至少一第一沟槽会在该半导体设备之下延伸。该等至少一第一沟槽之深度可介于该晶粒垫轮廓高度的约30%至约70%,且较佳地介于该晶粒垫轮廓高度的约40%至约60%。复数个第二沟槽会位于该第一晶粒垫表面,且该等复数个第二沟槽当中每一第二沟槽一般会与一个别晶粒垫侧表面平行延伸,自该表面偏移。该晶粒垫可包括将其穿透的至少一孔径,且该至少一孔径系位于该等第一与第二沟槽其中至少一者,以供接收该模制化合物。 于该等具体实施例之任一者中,该晶粒垫可进一步包括从其延伸的系杆,且至少一唇部可延伸自该晶粒垫的侧表面。同时,至少一孔径可从该晶粒垫之第一侧延伸至该晶粒垫之第二侧,且该半导体设备会跨越该至少一孔径,以利湿气能从该封装排出。 一种形成一半导体设备封装之方法,其包括:形成一导电引线框架,其包括:复数个引线,其位于该封装之周边附近;以及一晶粒垫,其位于由该等复数个引线所形成之中央区域;使该晶粒垫之第二表面的至少一部分粗糙化;使一半导体设备黏附至该晶粒垫之第二表面;使于该半导体设备上之I/O垫电连接至该等引线;以及对该等半导体设备与引线框架施加模制化合物,使得该模制化合物会黏着至该引线框架之第二表面的粗糙部分,且使得对立于该引线框架第二表面之该引线框架第一表面会从该模制化合物曝露出来。该方法进一步包括:在施加该模制化合物之后,分割该等复数个互连引线框架,以提供复数个半导体设备。该第二表面之粗糙部分可具有大于约0.4微米,且较佳地大于约0.5微米之平均粗糙度(Ra)。 就其中一方面而言,该方法包括于该第二晶粒垫表面形成复数个沟槽,且该等复数个沟槽当中每一沟槽一般会与一个别晶粒垫侧表面平行延伸,且自该表面偏移,同时会位于该个别晶粒垫侧表面与该半导体设备之间。该方法可能亦包括于该第二晶粒垫表面形成第二复数个沟槽,且该等第二复数个沟槽当中每一沟槽会从该等第一复数个沟槽当中的一沟槽延伸至一个别晶粒垫侧表面。 就另一方面而言,该方法包括于该第一晶粒垫表面形成至少一第一沟槽,且该至少一第一沟槽会在该半导体设备之下延伸。该方法亦可能包括于该第一晶粒垫表面形成复数个第二沟槽,且该等第二复数个第二沟槽当中每一第二沟槽一般会与一个别晶粒垫侧表面平行延伸,且自该表面偏移。该方法可进一步包括使至少一孔径穿透该晶粒垫而放置,其中该至少一孔径系位于该等第一与第二沟槽其中至少一者,并且会接收该模制化合物。 于该等具体实施例之任一者中,该晶粒垫可进一步包括从其延伸的系杆,且该方法可进一步包括:蚀刻与该晶粒垫第一表面共面之系杆表面的一部分,以形成自该晶粒垫之第一表面偏移的系杆表面。该方法亦可包括于该晶粒垫之侧表面处形成至少一唇部。同时,至少一孔径可从该晶粒垫之第一侧延伸至该晶粒垫之第二侧,且该半导体设备会跨越该至少一孔径,以利湿气能从该封装排出。 附图与下文说明中会提出本发明之一或更多项具体实施例的细节。从该说明与附图以及申请专利范围将可明白本发明的其他特征、目的与优点。