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    • 100. 发明专利
    • 硬化膜形成組成物、配向材料及相位差材料
    • 硬化膜形成组成物、配向材料及相位差材料
    • TW201529669A
    • 2015-08-01
    • TW103135967
    • 2014-10-17
    • 日產化學工業股份有限公司NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 伊藤潤ITO, JUN湯川昇志郎YUKAWA, SHOJIRO後藤耕平GOTO, KOHEI畑中真HATANAKA, TADASHI
    • C08L101/06G02F1/1337G02F1/13363
    • G02F1/133788C08F220/58G02B5/3083G02F1/133711C08F220/14C08F2220/1858C08F220/06C08F212/08
    • 提供適於形成液晶配向性與密著耐久性優良 之硬化膜的硬化膜形成組成物、提供配向材料、使用該配向材料提供相位差材料。 硬化膜形成組成物,係含有:(A)由 具有光配向性基與選自由羥基、羧基、胺基、烷氧基矽烷基及下述式(2) 表示之基所成群組的一者之低分子化合物以及具有光配向性基與選自由羥基、羧基、醯胺基、胺基及烷氧基矽烷基及下述式(2)表示之基所成群組的取代基之聚合物中選出之至少一種;(B)具有由羥基、羧基、胺基、烷 氧基矽烷基及上述式(2)表示之基中選出之至少一個取代基的聚合物;(C)交聯劑;以及(D)1分子中具有至少1個包含C=C雙鍵之聚合性基,且具有至少1個N-烷氧基甲基之低分子化合物。使用該硬化膜形成組成物,形成硬化膜,利用光配向技術來形成配向材料。於配向材料之上塗佈聚合性液晶,使其硬化而得到相位差材料。
    • 提供适于形成液晶配向性与密着耐久性优良 之硬化膜的硬化膜形成组成物、提供配向材料、使用该配向材料提供相位差材料。 硬化膜形成组成物,系含有:(A)由 具有光配向性基与选自由羟基、羧基、胺基、烷氧基硅烷基及下述式(2) 表示之基所成群组的一者之低分子化合物以及具有光配向性基与选自由羟基、羧基、酰胺基、胺基及烷氧基硅烷基及下述式(2)表示之基所成群组的取代基之聚合物中选出之至少一种;(B)具有由羟基、羧基、胺基、烷 氧基硅烷基及上述式(2)表示之基中选出之至少一个取代基的聚合物;(C)交联剂;以及(D)1分子中具有至少1个包含C=C双键之聚合性基,且具有至少1个N-烷氧基甲基之低分子化合物。使用该硬化膜形成组成物,形成硬化膜,利用光配向技术来形成配向材料。于配向材料之上涂布聚合性液晶,使其硬化而得到相位差材料。