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91. 发明专利

TWI694272B 附保護膜之偏光板的製造方法有权
简体标题：附保护膜之偏光板的制造方法
公开(公告)号：TWI694272B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW105117540
申请日：2016-06-03
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU , 猪口雄平 , INOKUCHI, YUUHEI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/00

92. 发明专利

TWI690474B 光學膜之搬送方法及偏光板之製造方法有权
简体标题：光学膜之搬送方法及偏光板之制造方法
公开(公告)号：TWI690474B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW105132875
申请日：2016-10-12
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU , 羽場康弘 , HABA, YASUHIRO
IPC分类号： B65H23/34 , B65H27/00 , G02B5/30 , G02F1/1335

93. 发明专利

TWI624700B 偏光板的製造方法有权
简体标题：偏光板的制造方法
公开(公告)号：TWI624700B
公开(公告)日：2018-05-21
申请号：TW105121357
申请日：2016-07-06
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/12

94. 发明专利

TW201800784A 延伸膜的製造方法及延伸膜的製造裝置审中-公开
简体标题：延伸膜的制造方法及延伸膜的制造设备
公开(公告)号：TW201800784A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106110311
申请日：2017-03-28
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU , 早川登 , HAYAKAWA, NOBORU , 北河佑介 , KITAGAWA, YUSUKE
IPC分类号： G02B5/30 , B29C55/06
CPC分类号： B29C55/04 , G02B5/30
摘要：本發明之課題在於提供一種於製造步驟中不易產生斷裂之延伸膜的製造方法、以及延伸膜的製造裝置。本發明之解決手段為一種延伸膜的製造方法，其係在機械流動方向將原料延伸膜裁邊之延伸膜的製造方法，且具有以在寬度方向具有0.5mm以上的間隔之方式將前述原料延伸膜分割之裁邊步驟。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种于制造步骤中不易产生断裂之延伸膜的制造方法、以及延伸膜的制造设备。本发明之解决手段为一种延伸膜的制造方法，其系在机械流动方向将原料延伸膜裁边之延伸膜的制造方法，且具有以在宽度方向具有0.5mm以上的间隔之方式将前述原料延伸膜分割之裁边步骤。

95. 发明专利

TW201718381A 光學膜的製造裝置及製造方法审中-公开
简体标题：光学膜的制造设备及制造方法
公开(公告)号：TW201718381A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105132876
申请日：2016-10-12
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU , 芹川祐二 , SERIKAWA, YUJI
IPC分类号： B65H43/04
摘要：本發明之目的係提供一種可簡單地具體指定可能會產生缺陷之輥群的光學膜之製造裝置及製造方法。本發明之光學膜之製造裝置，係對所搬送之膜施予處理而製造光學膜，該光學膜之製造裝置係具備與前述膜接觸之複數個輥，其中，前述複數個輥係依據各輥之固有值而區分為複數個群組，前述固有值係在前述各輥之周方向的一點中之標記被轉印至前述膜時，以與前述處理後之膜中的前述標記之節距對應的方式被決定。
简体摘要：本发明之目的系提供一种可简单地具体指定可能会产生缺陷之辊群的光学膜之制造设备及制造方法。本发明之光学膜之制造设备，系对所搬送之膜施予处理而制造光学膜，该光学膜之制造设备系具备与前述膜接触之复数个辊，其中，前述复数个辊系依据各辊之固有值而区分为复数个群组，前述固有值系在前述各辊之周方向的一点中之标记被转印至前述膜时，以与前述处理后之膜中的前述标记之节距对应的方式被决定。

96. 发明专利

TW201702650A 附保護膜之偏光板的製造方法审中-公开
简体标题：附保护膜之偏光板的制造方法
公开(公告)号：TW201702650A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105117540
申请日：2016-06-03
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU , 猪口雄平 , INOKUCHI, YUUHEI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/00
摘要：本發明係提供一種附保護膜之偏光板的製造方法，其係包含：將保護膜重疊於偏光板的單面並藉由通過一對貼合輥間而進行按壓之步驟；其中，當將保護膜的厚度設為T1[μm]，將MD的拉伸彈性模數設為E1[MPa]，將通過一對貼合輥前之MD的膜張力設為F1[N/m]，將偏光板的厚度設為T2[μm]，將MD方向的拉伸彈性模數設為E2[MPa]，並且將通過一對貼合輥前之MD的膜張力設為F2[N/m]時，係在滿足下述式：F1/(E1×T1)>F2/(E2×T2)之條件下進行按壓步驟。
简体摘要：本发明系提供一种附保护膜之偏光板的制造方法，其系包含：将保护膜重叠于偏光板的单面并借由通过一对贴合辊间而进行按压之步骤；其中，当将保护膜的厚度设为T1[μm]，将MD的拉伸弹性模数设为E1[MPa]，将通过一对贴合辊前之MD的膜张力设为F1[N/m]，将偏光板的厚度设为T2[μm]，将MD方向的拉伸弹性模数设为E2[MPa]，并且将通过一对贴合辊前之MD的膜张力设为F2[N/m]时，系在满足下述式：F1/(E1×T1)>F2/(E2×T2)之条件下进行按压步骤。

97. 发明专利

TW201643484A 偏光板之製造方法审中-公开
简体标题：偏光板之制造方法
公开(公告)号：TW201643484A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW105115292
申请日：2016-05-18
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU , 猪口雄平 , INOKUCHI, YUUHEI , 武藤清 , MUTO, KIYOSHI
IPC分类号： G02B5/30
摘要：本發明係提供一種偏光板之製造方法，其依序包含下述步驟：加熱處理第1熱塑性樹脂膜之步驟；加濕處理第1熱塑性樹脂膜之步驟；以及，在偏光膜的一面上積層第1熱塑性樹脂膜，在偏光膜的另一面上積層於溫度23℃、相對濕度55%之平衡水分率比第1熱塑性樹脂膜低的第2熱塑性樹脂膜之步驟。
简体摘要：本发明系提供一种偏光板之制造方法，其依序包含下述步骤：加热处理第1热塑性树脂膜之步骤；加湿处理第1热塑性树脂膜之步骤；以及，在偏光膜的一面上积层第1热塑性树脂膜，在偏光膜的另一面上积层于温度23℃、相对湿度55%之平衡水分率比第1热塑性树脂膜低的第2热塑性树脂膜之步骤。

98. 发明专利

TW201614273A 防眩膜审中-公开
公开(公告)号：TW201614273A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW104124361
申请日：2015-07-28
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：山口智之 , YAMAGUCHI, TOMOYUKI , 福井仁之 , FUKUI, HITOSHI , 古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU
IPC分类号： G02B5/02
摘要：本發明係提供一種低霧度，同時在寬廣的觀察角度具有優異的防眩性，且配置在影像顯示裝置時，可充分地抑制產生褪色發白及閃爍之防眩膜。本發明係提供一種防眩膜，其係具備透明支撐體、及形成在其上之具有微細表面凹凸形狀之防眩層，總霧度為0.1%以上且3%以下，表面霧度為0.1%以上且2%以下，表面凹凸形狀的傾斜角度的平均值為0.2°以上1.2°以下，傾斜角度之標準偏差為0.1°以上0.8°以下，以表面凹凸形狀的凸部之頂點作為母點而將其表面進行凡羅諾依分割後所形成之多角形的面積之平均值為50μm2以上且150μm2以下，且，其多角形的面積之變動係數為40%以上且80%以下。
简体摘要：本发明系提供一种低雾度，同时在宽广的观察角度具有优异的防眩性，且配置在影像显示设备时，可充分地抑制产生褪色发白及闪烁之防眩膜。本发明系提供一种防眩膜，其系具备透明支撑体、及形成在其上之具有微细表面凹凸形状之防眩层，总雾度为0.1%以上且3%以下，表面雾度为0.1%以上且2%以下，表面凹凸形状的倾斜角度的平均值为0.2°以上1.2°以下，倾斜角度之标准偏差为0.1°以上0.8°以下，以表面凹凸形状的凸部之顶点作为母点而将其表面进行凡罗诺依分割后所形成之多角形的面积之平均值为50μm2以上且150μm2以下，且，其多角形的面积之变动系数为40%以上且80%以下。

99. 发明专利

TW201534989A 防眩膜审中-公开
公开(公告)号：TW201534989A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW104103844
申请日：2015-02-05
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU
IPC分类号： G02B5/02
摘要：本發明提供一種防眩膜，其係即使為低霧度，在廣視角中仍具有優異之防眩性，且配置於圖像顯示裝置時，可充分抑制白化及眩光之發生者。本發明提供一種防眩膜，其係具備透明支撐體、與於其上所形成之具有細微表面凹凸形狀之防眩層，總霧度為0.1%以上3%以下，表面霧度為0.1%以上2%以下，對於以入射角30°射入之光，反射角30°之反射率R(30)與反射角40°之反射率R(40)之比R(40)/R(30)為0.00001以上0.0025以下，從表面凹凸形狀之標高與防眩層之折射率計算之複合振幅的功率譜之在特定2個空間頻率中的強度比分別在特定範圍內。
简体摘要：本发明提供一种防眩膜，其系即使为低雾度，在广视角中仍具有优异之防眩性，且配置于图像显示设备时，可充分抑制白化及眩光之发生者。本发明提供一种防眩膜，其系具备透明支撑体、与于其上所形成之具有细微表面凹凸形状之防眩层，总雾度为0.1%以上3%以下，表面雾度为0.1%以上2%以下，对于以入射角30°射入之光，反射角30°之反射率R(30)与反射角40°之反射率R(40)之比R(40)/R(30)为0.00001以上0.0025以下，从表面凹凸形状之标高与防眩层之折射率计算之复合振幅的功率谱之在特定2个空间频率中的强度比分别在特定范围内。

100. 发明专利

TW201529324A 防炫膜审中-公开
公开(公告)号：TW201529324A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103141143
申请日：2014-11-27
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU
IPC分类号： B32B3/30 , B32B33/00 , G02B1/10 , G02B5/02
CPC分类号： B32B7/02 , B32B2307/40 , B32B2307/412 , B32B2457/20 , G02B1/111 , G02B5/0221 , G02B5/0294
摘要：本發明提供一種防炫膜，其係即使為低霧度在廣觀察角度中仍具有優異之防炫性，且配置於圖像顯示裝置時，可充分抑制白化及炫光之發生。本發明更提供一種防炫膜，其係具備透明支撐體、與形成於該透明支撐體上之具有細微表面凹凸形狀之防炫層，全霧度為0.1%以上且3%以下，表面霧度為0.1%以上且2%以下，相對於以入射角30°入射之光，反射角30°之反射率R(30)與反射角40°之反射率R(40)之比R(40)/R(30)為0.00001以上且0.0025以下，上述表面凹凸形狀之標高之功率譜之在空間頻率0.01μm-1、空間頻率0.02μm-1及空間頻率0.1μm-1中之強度I(0.01)、I(0.02)及I(0.1)分別在預定範圍內。
简体摘要：本发明提供一种防炫膜，其系即使为低雾度在广观察角度中仍具有优异之防炫性，且配置于图像显示设备时，可充分抑制白化及炫光之发生。本发明更提供一种防炫膜，其系具备透明支撑体、与形成于该透明支撑体上之具有细微表面凹凸形状之防炫层，全雾度为0.1%以上且3%以下，表面雾度为0.1%以上且2%以下，相对于以入射角30°入射之光，反射角30°之反射率R(30)与反射角40°之反射率R(40)之比R(40)/R(30)为0.00001以上且0.0025以下，上述表面凹凸形状之标高之功率谱之在空间频率0.01μm-1、空间频率0.02μm-1及空间频率0.1μm-1中之强度I(0.01)、I(0.02)及I(0.1)分别在预定范围内。

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