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91. 发明专利

TWI248226B 電解液及非水電解液鋰二次電池 ELECTROLYTE SOLUTION AND LITHIUM SECONDARY BATTERY USING NON-AQUEOUS ELECTROLYTE SOLUTION 失效
简体标题：电解液及非水电解液锂二次电池 ELECTROLYTE SOLUTION AND LITHIUM SECONDARY BATTERY USING NON-AQUEOUS ELECTROLYTE SOLUTION
公开(公告)号：TWI248226B
公开(公告)日：2006-01-21
申请号：TW093133434
申请日：2004-11-03
申请人：史鐵勒傑米華股份有限公司 STELLA CHEMIFA CORPORATION , 大塚化學股份有限公司 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：西田哲郎 NISHIDA, TETSUO , 富崎惠 TOMISAKI, MEGUMI , 平野一孝 HIRANO, KAZUTAKA
IPC分类号： H01M
CPC分类号： H01M10/0567 , H01M4/131 , H01M4/133 , H01M4/134 , H01M10/0525 , H01M10/0568 , H01M10/0569 , H01M2300/0022
摘要：本發明一種非水電解液鋰二次電池用電解液，其係提供含有為式(1)所示之脂肪族第4級銨鹽之常溫熔融鹽、有機溶劑及式(2)所示之鋰鹽之非水電解液鋰二次電池用電解液，其特徵為該之有機溶劑含有相當於電解液之1至5重量%之碳酸乙烯酯，其中，該式(1)及式(2)如下：
(R1至R3為碳原子數1至4之鏈狀烴基；R4為甲氧基甲基、乙氧基甲基、丙氧基甲基及異丙氧基甲基；X1、X2為含氟陰離子)。
本發明亦提供使用上述電解液之鋰二次電池。
简体摘要：本发明一种非水电解液锂二次电池用电解液，其系提供含有为式(1)所示之脂肪族第4级铵盐之常温熔融盐、有机溶剂及式(2)所示之锂盐之非水电解液锂二次电池用电解液，其特征为该之有机溶剂含有相当于电解液之1至5重量%之碳酸乙烯酯，其中，该式(1)及式(2)如下： (R1至R3为碳原子数1至4之链状烃基；R4为甲氧基甲基、乙氧基甲基、丙氧基甲基及异丙氧基甲基；X1、X2为含氟阴离子)。本发明亦提供使用上述电解液之锂二次电池。

92. 发明专利

TWI236468B 鹵化��–內醯胺化合物之製造法 PRODUCTION OF HALOGENATED ��-LACTAM COMPOUND 有权
简体标题：卤化��–内酰胺化合物之制造法 PRODUCTION OF HALOGENATED ��-LACTAM COMPOUND
公开(公告)号：TWI236468B
公开(公告)日：2005-07-21
申请号：TW088105263
申请日：1999-04-02
申请人：大塚化學股份有限公司 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：島林昭裕 AKIHIRO SHIMABAYASHI , 河原一郎 ICHIROU KAWAHARA , 谷口重俊 SHIGETOSHI YAGUCHI , 朝井洋明 HIROAKI ASAI
IPC分类号： C07D
CPC分类号： C07D499/00 , C07D501/00
摘要：一種鹵化β-內醯胺化合物之製造法，其特徵為使通式(1)所式之β-內醯胺係胺基化合物為：
為或
(1) (2) (3)[式中，n為0至2之整數；A為式(2)或(3)所示；R1及R2為相同式或相異且為氫原子、鹵原子、C1-3烷基、C2-4烯基、C2-4炔基、親核性基或CH2R3基，其中R3為鹵原子或親核性基]，在鹵分子存在下，在酸性條件中，與亞硝酸或亞硝酸在漿液分散狀態下反應，製得式(4)所示之鹵化β-內醯胺化合物：
(4)[式中A為前述定義，X1為氫原子或鹵原子，X2為鹵原子]。
简体摘要：一种卤化β-内酰胺化合物之制造法，其特征为使通式(1)所式之β-内酰胺系胺基化合物为：为或 (1) (2) (3)[式中，n为0至2之整数；A为式(2)或(3)所示；R1及R2为相同式或相异且为氢原子、卤原子、C1-3烷基、C2-4烯基、C2-4炔基、亲核性基或CH2R3基，其中R3为卤原子或亲核性基]，在卤分子存在下，在酸性条件中，与亚硝酸或亚硝酸在浆液分散状态下反应，制得式(4)所示之卤化β-内酰胺化合物： (4)[式中A为前述定义，X1为氢原子或卤原子，X2为卤原子]。

93. 发明专利

TW200523264A 青黴素結晶及其製造法失效
简体标题：青霉素结晶及其制造法
公开(公告)号：TW200523264A
公开(公告)日：2005-07-16
申请号：TW093130220
申请日：2004-10-06
申请人：大塚化學股份有限公司 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD. , 大鵬藥品工業股份有限公司 TAIHO PHARMACEUTICAL CO., LTD.
发明人：和田功 WADA, ISAO , 龜山豊 KAMEYAMA, YUTAKA
IPC分类号： C07D
CPC分类号： C07D499/86
摘要：本發明是提供安定性優異之2β–氯甲基–2α–甲基沛喃–3α–羧酸二苯甲基酯(CMPB)之結晶，以及CMPB結晶之製造方法，該方法包含有：(A)將含有CMPB之溶液濃縮之步驟；(B)對所得濃縮物進行管柱層析之步驟；(C)濃縮含有CMPB分液之步驟；及(D)將所得之含有CMPB濃縮物溶解於醚溶劑，接著於該溶液中添加烴溶劑以使CMPB結晶析出之步驟。093130220-p01.bmp
简体摘要：本发明是提供安定性优异之2β–氯甲基–2α–甲基沛喃–3α–羧酸二苯甲基酯(CMPB)之结晶，以及CMPB结晶之制造方法，该方法包含有：(A)将含有CMPB之溶液浓缩之步骤；(B)对所得浓缩物进行管柱层析之步骤；(C)浓缩含有CMPB分液之步骤；及(D)将所得之含有CMPB浓缩物溶解于醚溶剂，接着于该溶液中添加烃溶剂以使CMPB结晶析出之步骤。093130220-p01.bmp

94. 发明专利

TW200519068A 四級銨鹽、電解質、電解液及電化學裝置失效
简体标题：四级铵盐、电解质、电解液及电化学设备
公开(公告)号：TW200519068A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：TW093132967
申请日：2004-10-29
申请人：大塚化學股份有限公司 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD. , 史特拉化學股份有限公司 STELLA CHEMIFA CORPORATION
发明人：鍋島亮浩 NABESHIMA, AKIHIRO , 德田弘晃 TOKUDA, HIROAKI , 西田哲郎 NISHIDA, TETSUO , 富崎惠 TOMISAKI, MEGUMI , 平野一孝 HIRANO, KAZUTAKA
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C217/08 , H01M10/0568
摘要：本發明之第四級銨鹽係以通式(1)表示者。093132967-p01.bmp式中、R^1及R^2為相同或相異之C1–4烷基。此外，R^1及R^2可與該等將結合之氮原子相互結合而共同形成飽和雜環。R^3及R^4為相同或相異之甲基或乙基。X^–為陰離子。本發明之四級銨鹽具有10℃以下之熔點，對非水系有機溶劑之溶解性優異，且具有特別高之導電度，而可適宜作為電解質。
简体摘要：本发明之第四级铵盐系以通式(1)表示者。093132967-p01.bmp式中、R^1及R^2为相同或相异之C1–4烷基。此外，R^1及R^2可与该等将结合之氮原子相互结合而共同形成饱和杂环。R^3及R^4为相同或相异之甲基或乙基。X^–为阴离子。本发明之四级铵盐具有10℃以下之熔点，对非水系有机溶剂之溶解性优异，且具有特别高之导电度，而可适宜作为电解质。

95. 发明专利

TWI230743B 導電性薄片狀化合物及導電性組成物 ELECTRONIC CONDUCTIVE FLAKE COMPOUND AND ELECTRONIC CONDUCTIVE COMPOSITION 失效
简体标题：导电性薄片状化合物及导电性组成物 ELECTRONIC CONDUCTIVE FLAKE COMPOUND AND ELECTRONIC CONDUCTIVE COMPOSITION
公开(公告)号：TWI230743B
公开(公告)日：2005-04-11
申请号：TW092119624
申请日：2003-07-18
申请人：大化學股份有限公司 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：晴山幸哉 YUKIYA HAREYAMA , 小川傑稔 HIDETOSHI OGAWA
IPC分类号： C23C
CPC分类号： H01B1/08 , C08K9/02 , C23C30/00 , Y10T428/29 , Y10T428/2982 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993
摘要：本發明的導電性薄片狀化合物係平均長徑1至100μm、平均厚度0.01至1.5μm，且在依氧化鉀(K2O)換算含有0.3至5重量%鉀的氧化鈦表面上，形成由含銻的氧化錫所構成的第1導電層，再於第1導電層上形成由氧化錫所構成之第2導電層。
简体摘要：本发明的导电性薄片状化合物系平均长径1至100μm、平均厚度0.01至1.5μm，且在依氧化钾(K2O)换算含有0.3至5重量%钾的氧化钛表面上，形成由含锑的氧化锡所构成的第1导电层，再于第1导电层上形成由氧化锡所构成之第2导电层。

96. 发明专利

TWI228546B 防銹劑及使用該防銹劑之防銹方法失效
简体标题：防锈剂及使用该防锈剂之防锈方法
公开(公告)号：TWI228546B
公开(公告)日：2005-03-01
申请号：TW092112016
申请日：2003-05-01
申请人：大塚化學股份有限公司 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：福村和則 FUKUMURA KAZUNORI , 濱裕司 HAMA HIROSHI , 河野和浩 KAWANO KAZUHIRO
IPC分类号： C23F
CPC分类号： C23F11/10 , C23F11/173
摘要：一種防銹劑，其係為：(1)含有具有親水性或水溶性的聚合性單體(A)、具有聚合性雙鍵含有基之羥基苯基苯并三唑化合物單體(B)的共聚物作為有效成分者：及(2)含有前述(A)、(B)、與以通式(1)：[式中，R1表示氫原子、C1-8的烷基、羧基、C1-8的烷氧羰基、苯氧羰基、羥基或鹵原子；R2表示氫原子、羥基、氨基、鹵原子或金屬原子。]所表示之苯并三唑類(D)，作為有效成分者。作為前述單體(B)的例子包含以通式(2)所表示之化合物。本防銹劑，亦可不使用有機溶劑而作成為水系溶液使用，尤其於銅及銅合金的防銹甚有效。
简体摘要：一种防锈剂，其系为：(1)含有具有亲水性或水溶性的聚合性单体(A)、具有聚合性双键含有基之羟基苯基苯并三唑化合物单体(B)的共聚物作为有效成分者：及(2)含有前述(A)、(B)、与以通式(1)：[式中，R1表示氢原子、C1-8的烷基、羧基、C1-8的烷氧羰基、苯氧羰基、羟基或卤原子；R2表示氢原子、羟基、氨基、卤原子或金属原子。]所表示之苯并三唑类(D)，作为有效成分者。作为前述单体(B)的例子包含以通式(2)所表示之化合物。本防锈剂，亦可不使用有机溶剂而作成为水系溶液使用，尤其于铜及铜合金的防锈甚有效。

97. 发明专利

TW200420231A 糖鏈天冬醯胺衍生物之製造方法 MANUFACTURE METHOD OF SUGAR CHAIN ASPARAGINE DERIVATIVES 审中-公开
简体标题：糖链天冬酰胺衍生物之制造方法 MANUFACTURE METHOD OF SUGAR CHAIN ASPARAGINE DERIVATIVES
公开(公告)号：TW200420231A
公开(公告)日：2004-10-16
申请号：TW093102374
申请日：2004-02-03
申请人：大塚化學股份有限公司 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：深江一博 FUKAE, KAZUHIRO
IPC分类号： A23J , C07K , C07H
CPC分类号： C12P19/28
摘要：本發明係關於一種糖鏈天冬醯胺衍生物之製造方法，其為從脫脂卵黃製造糖鏈天冬醯胺衍生物之方法，其包含(a)藉由蛋白質分解酵素從脫脂卵黃製造糖鏈胜混合物之步驟，(b)藉由胜分解酵素從糖鏈胜混合物製造糖鏈天冬醯胺混合物之步驟，(c)在糖鏈天冬醯胺混合物中之糖鏈天冬醯胺上導入脂溶性保護基，以製造糖鏈天冬醯胺衍生物混合物之步驟，及(d)將糖鏈天冬醯胺衍生物混合物進行層析，以分離各種糖鏈天冬醯胺衍生物之步驟。
简体摘要：本发明系关于一种糖链天冬酰胺衍生物之制造方法，其为从脱脂卵黄制造糖链天冬酰胺衍生物之方法，其包含(a)借由蛋白质分解酶从脱脂卵黄制造糖链胜混合物之步骤，(b)借由胜分解酶从糖链胜混合物制造糖链天冬酰胺混合物之步骤，(c)在糖链天冬酰胺混合物中之糖链天冬酰胺上导入脂溶性保护基，以制造糖链天冬酰胺衍生物混合物之步骤，及(d)将糖链天冬酰胺衍生物混合物进行层析，以分离各种糖链天冬酰胺衍生物之步骤。

98. 发明专利

TW200406422A 具有糖鏈天冬醯胺之糖之製造法及該糖 PROCESS FOR PREPARING GLYCOPEPTIDES HAVING ASPARAGINE-LINKED OLIGOSAGGHARIDES, AND THE GLYCOPEPTIDES 审中-公开
简体标题：具有糖链天冬酰胺之糖之制造法及该糖 PROCESS FOR PREPARING GLYCOPEPTIDES HAVING ASPARAGINE-LINKED OLIGOSAGGHARIDES, AND THE GLYCOPEPTIDES
公开(公告)号：TW200406422A
公开(公告)日：2004-05-01
申请号：TW092118290
申请日：2003-07-04
申请人： 原康宏 YASUHIRO KAJIHARA , 大塚化學股份有限公司 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人： 原康宏 YASUHIRO KAJIHARA
IPC分类号： C07K
CPC分类号： C07K1/1077 , C07K5/1008 , C07K9/001 , C08B37/00 , Y02P20/55
摘要：本發明係有關以(1)將具有羥基之樹脂(resin)之羥基與胺基氮用脂溶性保護基保護之胺基酸之羧基進行酯化反應、(2)將上述脂溶性保護基脫離，形成遊離胺基、(3)將該遊離胺基與胺基氮用脂溶性保護基保護之胺基酸之羧基進行醯胺化反應、(4)將上述脂溶性保護基脫離，形成遊離胺基、(5)反覆操作上述(3)及(4)之步驟一次以上、(6)與胺基氮用脂溶性保護基保護之糖鏈天冬醯胺之天冬醯胺部分之羧基進行醯胺化反應、(7)將上述脂溶性保護基脫離，形成遊離胺基、(8)將該遊離胺基與胺基氮用脂溶性保護基保護之胺基酸之羧基進行醯胺化反應、(9)反覆操作上述(7)及(8)之步驟一次以上、(10)將上述脂溶性保護基脫離，形成遊離胺基、(11)用酸將樹脂(resin)切斷為特徵之在鏈任意位置具有至少1個以上糖鏈天冬醯胺之糖及於上述所獲得之糖用唾液酸轉移酵素將唾液酸或其衍生物轉移所獲得之糖。
简体摘要：本发明系有关以(1)将具有羟基之树脂(resin)之羟基与胺基氮用脂溶性保护基保护之氨基酸之羧基进行酯化反应、(2)将上述脂溶性保护基脱离，形成游离胺基、(3)将该游离胺基与胺基氮用脂溶性保护基保护之氨基酸之羧基进行酰胺化反应、(4)将上述脂溶性保护基脱离，形成游离胺基、(5)反复操作上述(3)及(4)之步骤一次以上、(6)与胺基氮用脂溶性保护基保护之糖链天冬酰胺之天冬酰胺部分之羧基进行酰胺化反应、(7)将上述脂溶性保护基脱离，形成游离胺基、(8)将该游离胺基与胺基氮用脂溶性保护基保护之氨基酸之羧基进行酰胺化反应、(9)反复操作上述(7)及(8)之步骤一次以上、(10)将上述脂溶性保护基脱离，形成游离胺基、(11)用酸将树脂(resin)切断为特征之在链任意位置具有至少1个以上糖链天冬酰胺之糖及于上述所获得之糖用唾液酸转移酶将唾液酸或其衍生物转移所获得之糖。

99. 发明专利

TW575636B 耐熱性組成物有权
简体标题：耐热性组成物
公开(公告)号：TW575636B
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：TW091102182
申请日：2002-02-07
申请人：東洋紡績股份有限公司 TOYO BOSEKI KABUSHIKI KAISHA , 大塚化學股份有限公司 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：多田祐二 TADA, YUJI , 清水敏之 SHIMIZU, TOSHIYUKI
IPC分类号： C08L
CPC分类号： C08K5/5399 , C08G79/025 , C08L85/02 , H05K1/0346 , H05K1/0373 , H05K1/095 , H05K3/386 , H05K3/4626 , Y10T428/31522 , Y10T428/31678 , C08L79/08
摘要：本發明係提供一種兼具有對低沸點溶劑之溶解性，耐熱性、難燃性、黏合性、力學特性、不具鹵素原子的聚醯亞胺系樹脂組成物。
本發明之耐熱性組成物包含溶劑可溶性聚醯亞胺系樹脂(A)與下述磷紝(phosphazen)化合物(B)，該磷紝化合物(B)為下述化學式(1)所示環狀苯氧基磷紝化合物(B1)，
其中m表示3~25之整數，Ph表示苯基。
简体摘要：本发明系提供一种兼具有对低沸点溶剂之溶解性，耐热性、难燃性、黏合性、力学特性、不具卤素原子的聚酰亚胺系树脂组成物。本发明之耐热性组成物包含溶剂可溶性聚酰亚胺系树脂(A)与下述磷纴(phosphazen)化合物(B)，该磷纴化合物(B)为下述化学式(1)所示环状苯氧基磷纴化合物(B1)，其中m表示3~25之整数，Ph表示苯基。

100. 发明专利

TWI698443B 烯丙基苯氧基環膦氮烯化合物及其製造方法有权
简体标题：烯丙基苯氧基环膦氮烯化合物及其制造方法
公开(公告)号：TWI698443B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW105116700
申请日：2016-05-27
申请人：日商大塚化學股份有限公司 , OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：林雅俊 , HAYASHI, MASATOSHI , 鈴木大助 , SUZUKI, DAISUKE
IPC分类号： C07F9/6593 , C08K5/5399 , C08L101/00 , C08L43/02 , C08L47/00 , H05K1/03

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