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1. 发明专利

TWI626305B 清潔配方有权
简体标题：清洁配方
公开(公告)号：TWI626305B
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：TW105130675
申请日：2016-09-22
申请人：慧盛材料美國責任有限公司 , VERSUM MATERIALS US, LLC
发明人：稻岡誠二 , INAOKA, SEIJI
IPC分类号： C11D1/40 , C11D7/28 , C23G1/18 , H01L21/306

2. 发明专利

TW201712110A 清潔配方审中-公开
简体标题：清洁配方
公开(公告)号：TW201712110A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105130675
申请日：2016-09-22
申请人：氣體產品及化學品股份公司 , AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.
发明人：稻岡誠二 , INAOKA, SEIJI
IPC分类号： C11D1/40 , C11D7/28 , C23G1/18 , H01L21/306
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D7/3245 , C11D7/50 , H01L21/02068
摘要：一種有用於自半導體基材移除殘留物的組合物，其依有效清潔量包含：約55至80重量%的水；約0.3至約5.0重量%的EDTA；約10.0至約30.0重量%的胺化合物，其中該胺化合物係選自由二級胺、三級胺及其混合物所組成的群組；約0.1至約5.0重量%的多官能性有機酸；約0.01至約8.0重量%的氟離子來源；約0至約60重量%的水可混溶性有機溶劑；及約0至約15重量%的腐蝕抑制劑。
简体摘要：一种有用于自半导体基材移除残留物的组合物，其依有效清洁量包含：约55至80重量%的水；约0.3至约5.0重量%的EDTA；约10.0至约30.0重量%的胺化合物，其中该胺化合物系选自由二级胺、三级胺及其混合物所组成的群组；约0.1至约5.0重量%的多官能性有机酸；约0.01至约8.0重量%的氟离子来源；约0至约60重量%的水可混溶性有机溶剂；及约0至约15重量%的腐蚀抑制剂。

3. 发明专利

TWI564385B 矽晶圓用洗淨劑有权
简体标题：硅晶圆用洗净剂
公开(公告)号：TWI564385B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW099101652
申请日：2010-01-21
申请人：中央硝子股份有限公司 , CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：公文創一 , KUMON, SOICHI , 齋藤真規 , SAITO, MASANORI , 齋尾崇 , SAIO, TAKASHI , 七井秀壽 , NANAI, HIDEHISA , 赤松佳則 , AKAMATSU, YOSHINORI
IPC分类号： C11D7/28 , C11D7/32 , H01L21/306
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D7/30 , C11D7/3209 , C11D11/0064 , C11D11/007 , H01L21/02052

4. 发明专利

TW201840841A 半導體裝置用基板之清潔液、半導體裝置用基板之清潔方法、半導體裝置用基板之製造方法及半導體裝置用基板审中-公开
简体标题：半导体设备用基板之清洁液、半导体设备用基板之清洁方法、半导体设备用基板之制造方法及半导体设备用基板
公开(公告)号：TW201840841A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107109799
申请日：2018-03-22
申请人：日商三菱化學股份有限公司 , MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
发明人：柴田俊明 , SHIBATA, TOSHIAKI , 原田憲 , HARADA, KEN , 草野智博 , KUSANO, TOMOHIRO , 竹下祐太朗 , TAKESHITA, YUTARO , 河瀬康弘 , KAWASE, YASUHIRO
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/28 , C11D7/04 , C11D7/50 , H01L21/304
摘要：本發明係關於一種半導體裝置用基板之清潔液，其pH為8以上且11.5以下，且含有：成分(A)：含有選自由下述通式(1)～(3)所表示之化合物所組成之群中之至少1種的化合物；成分(B)：抗壞血酸；成分(C)：多羧酸或羥基羧酸；成分(D)：pH調整劑；及成分(E)：水。 [化1](上述式中，R1～R6、R11～R17及R21～R28分別與說明書中所記載之定義相同)
简体摘要：本发明系关于一种半导体设备用基板之清洁液，其pH为8以上且11.5以下，且含有：成分(A)：含有选自由下述通式(1)～(3)所表示之化合物所组成之群中之至少1种的化合物；成分(B)：抗坏血酸；成分(C)：多羧酸或羟基羧酸；成分(D)：pH调整剂；及成分(E)：水。 [化1](上述式中，R1～R6、R11～R17及R21～R28分别与说明书中所记载之定义相同)

5. 发明专利

TWI484030B 基板用除水劑、使用它之除水方法及乾燥方法有权
简体标题：基板用除水剂、使用它之除水方法及干燥方法
公开(公告)号：TWI484030B
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：TW096134188
申请日：2007-09-13
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：關裕之 , SEKI, HIROYUKI
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/28 , C11D7/50 , B08B3/08
CPC分类号： C11D7/28 , C11D7/5018 , C11D7/5022 , C11D11/0047 , H01L21/0206 , H01L21/02071

6. 发明专利

TW201341518A 含經氟取代之烯烴之組合物审中-公开
简体标题：含经氟取代之烯烃之组合物
公开(公告)号：TW201341518A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW102123381
申请日：2005-04-29
申请人：哈尼威爾國際公司 , HONEYWELL INTERNATIONAL INC.
发明人：辛吉拉傑R , SINGH, RAJIV R. , 法姆漢格T , PHAM, HANG T. , 威爾森大衛P , WILSON, DAVID P. , 湯瑪斯雷蒙H , THOMAS, RAYMOND H.
IPC分类号： C09K5/04 , C09K3/30 , C08J9/14 , C11D7/28 , C07C21/18
CPC分类号： C09K5/045 , A01N29/00 , A23L27/202 , A23V2002/00 , A61K9/008 , A61K47/06 , A61L2/18 , A62D1/00 , A62D1/0028 , A62D1/0057 , B01J31/0231 , B01J37/03 , B01J37/035 , C07C21/18 , C08J9/146 , C08J2203/164 , C08J2207/04 , C08J2325/06 , C09D7/20 , C09K3/00 , C09K3/30 , C09K21/08 , C09K2205/12 , C09K2205/126 , C09K2205/22 , C09K2205/24 , C11B9/0007 , C11D3/245 , C11D11/0047 , C11D17/0043 , Y02A40/965
摘要：本發明揭示四氟丙烯類(尤其係(HFO-1234))在包括致冷設備之各種應用中之用途。此等材料通常適用作加熱及冷卻之致冷劑、發泡劑、氣溶膠噴霧劑、溶劑組合物及滅火劑與火災抑制劑。
简体摘要：本发明揭示四氟丙烯类(尤其系(HFO-1234))在包括致冷设备之各种应用中之用途。此等材料通常适用作加热及冷却之致冷剂、发泡剂、气溶胶喷雾剂、溶剂组合物及灭火剂与火灾抑制剂。

7. 发明专利

TWI693265B 剝離溶劑組成物、剝離方法及洗淨溶劑組成物有权
简体标题：剥离溶剂组成物、剥离方法及洗净溶剂组成物
公开(公告)号：TWI693265B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW105114361
申请日：2016-05-10
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：安藤敬二 , ANDO, KEIJI , 大槻記靖 , OTSUKI, NORIYASU
IPC分类号： C09D9/00 , B08B3/08 , B08B3/10 , C08J11/08 , C11D7/50 , C11D7/28 , C11D7/26

8. 发明专利

TW201946891A 包含全氟庚烯之三元、四元共沸物及類共沸物組成物审中-公开
简体标题：包含全氟庚烯之三元、四元共沸物及类共沸物组成物
公开(公告)号：TW201946891A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108115149
申请日：2019-05-01
申请人：美商科慕FC有限責任公司 , THE CHEMOURS COMPANY FC, LLC
发明人：穆西米哈里森K , MUSYIMI, HARRISON K.
IPC分类号： C07C21/18 , C07C9/15 , C07C69/14 , C07C21/073 , C11D7/28 , C11D7/24 , C11D7/26
摘要：本申請案提供三元及四元共沸物或類共沸物組成物，其包含全氟庚烯及兩種或更多種額外的組分，其中該等額外的組分係以與該全氟庚烯有效形成共沸物組成物或類共沸物組成物的量存在於該組成物中。亦提供在清潔及載體流體應用中使用本文所提供之該等組成物之方法。
简体摘要：本申请案提供三元及四元共沸物或类共沸物组成物，其包含全氟庚烯及两种或更多种额外的组分，其中该等额外的组分系以与该全氟庚烯有效形成共沸物组成物或类共沸物组成物的量存在于该组成物中。亦提供在清洁及载体流体应用中使用本文所提供之该等组成物之方法。

9. 发明专利

TW201700724A 甲基全氟庚烯醚及反－１，２－二氯乙烯之三元組合物及其用途审中-公开
简体标题：甲基全氟庚烯醚及反－１，２－二氯乙烯之三元组合物及其用途
公开(公告)号：TW201700724A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105112578
申请日：2016-04-22
申请人：科慕FC有限責任公司 , THE CHEMOURS COMPANY, FC, LLC
发明人：羅賓馬克L , ROBIN, MARK L , 穆西米哈里森K , MUSYIMI, HARRISON K , 喬哈茲傑森R , JUHASZ, JASON R
IPC分类号： C11D7/28 , C11D7/26 , B08B3/04 , C23G5/028 , H05K3/26
CPC分类号： C11D7/5063 , B08B3/08 , C11D3/24 , C11D3/245 , C11D3/43 , C11D7/30 , C11D11/0047 , C11D11/0064 , C11D11/007 , C11D17/0043 , C23G5/028 , C23G5/032
摘要：所揭示者為一種組合物，其包含90至99重量百分比的反-1,2-二氯乙烯、自0.1至8重量百分比的甲基全氟庚烯醚及自0.5至2.0重量百分比的選自由Z-1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯、1,3,4,4,4-五氟-3-三氟甲基-1-丁烯、1,1,1,4,4,5,5,5-八氟-2-戊烯、全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟異丙基甲基醚、全氟乙基異丙基酮、七氟環戊烷、及E-1,1,1-三氟-3-氯-2-丙烯組成之群組的氟碳化物，其中該組合物是不可燃的。本揭露進一步提供一種自物品表面移除殘餘物之方法，其包含：(a)使該物品與包含MPHE、反-1,2-二氯乙烯及氟碳化物之組合物的組合物接觸，該氟碳化物選自由Z-1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯、1,3,4,4,4-五氟-3-三氟甲基-1-丁烯、1,1,1,4,4,5,5,5-八氟-2-戊烯、全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟異丙基甲基醚、全氟乙基異丙基酮、七氟環戊烷、及E-1,1,1-三氟-3-氯-2-丙烯組成之群組；以及(b)自該組合物回收該表面。
简体摘要：所揭示者为一种组合物，其包含90至99重量百分比的反-1,2-二氯乙烯、自0.1至8重量百分比的甲基全氟庚烯醚及自0.5至2.0重量百分比的选自由Z-1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯、1,3,4,4,4-五氟-3-三氟甲基-1-丁烯、1,1,1,4,4,5,5,5-八氟-2-戊烯、全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟异丙基甲基醚、全氟乙基异丙基酮、七氟环戊烷、及E-1,1,1-三氟-3-氯-2-丙烯组成之群组的氟碳化物，其中该组合物是不可燃的。本揭露进一步提供一种自物品表面移除残余物之方法，其包含：(a)使该物品与包含MPHE、反-1,2-二氯乙烯及氟碳化物之组合物的组合物接触，该氟碳化物选自由Z-1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯、1,3,4,4,4-五氟-3-三氟甲基-1-丁烯、1,1,1,4,4,5,5,5-八氟-2-戊烯、全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚、全氟异丙基甲基醚、全氟乙基异丙基酮、七氟环戊烷、及E-1,1,1-三氟-3-氯-2-丙烯组成之群组；以及(b)自该组合物回收该表面。

10. 发明专利

TWI402337B 水移除劑、預沖洗劑、水移除方法及水移除裝置有权
简体标题：水移除剂、预冲洗剂、水移除方法及水移除设备
公开(公告)号：TWI402337B
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW099113918
申请日：2010-04-30
申请人：旭化成化學股份有限公司 , ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION
发明人：松本省慈 , MATSUMOTO, SHOJI
IPC分类号： C09K3/18 , C07C43/13 , C11D7/26 , C11D7/28 , B08B3/00 , B08B3/08
CPC分类号： F26B5/005

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