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    • 2. 发明专利
    • 閘閥及基板處理系統
    • 闸阀及基板处理系统
    • TW201430252A
    • 2014-08-01
    • TW102130798
    • 2013-08-28
    • 東京威力科創股份有限公司TOKYO ELECTRON LIMITED
    • 達下弘一TATESHITA, KOICHI
    • F16K3/04F16K3/30
    • H01L21/67126F16K3/184F16K3/186F16K51/02
    • 本發明的閘閥(70),具備:具有形成進行搬運之複數開口部(71a)的垂直壁的殼體(71);設置在殼體(71)內,開口部(71a)開合用的閥體(81);使閥體(81)升降的閥體升降機構(73);與閥體升降機構(73)的升降一起使得閥體(81)轉動的閥體轉動機構(75);及將閥體(81)的密封面推壓於開口部的閥體推壓機構(74)。閥體升降機構(73)使閥體(81)在開口部對應位置與退避位置之間升降,閥體轉動機構(75)藉著閥體升降機構(73)使得閥體(81)升降時轉動閥體(81),閥體推壓機構(74)推壓位於開口部對應位置的閥體(81)。
    • 本发明的闸阀(70),具备:具有形成进行搬运之复数开口部(71a)的垂直壁的壳体(71);设置在壳体(71)内,开口部(71a)开合用的阀体(81);使阀体(81)升降的阀体直升电梯构(73);与阀体直升电梯构(73)的升降一起使得阀体(81)转动的阀体转动机构(75);及将阀体(81)的密封面推压于开口部的阀体推压机构(74)。阀体直升电梯构(73)使阀体(81)在开口部对应位置与退避位置之间升降,阀体转动机构(75)借着阀体直升电梯构(73)使得阀体(81)升降时转动阀体(81),阀体推压机构(74)推压位于开口部对应位置的阀体(81)。
    • 10. 发明专利
    • 流體控制閥
    • 流体控制阀
    • TW201827735A
    • 2018-08-01
    • TW106102576
    • 2017-01-24
    • 黃國洪江桂香黃翊黃千碩
    • 黃國洪江桂香黃翊黃千碩
    • F16K31/02F16K3/04
    • 一種流體控制閥,與流體搭配使用,且包含一個界定出一個第一流道的第一閥座、一個連接於該第一閥座的第一變形件、一個連接該第一變形件且形成一個容置空間的儲存件、一個設於該容置空間內的磁性件、一個連接該儲存件的第二變形件、一個連接該第二變形件且界定出一個第二流道的第二閥座,及一個電磁控制單元。透過該電磁控制單元,使該磁性件在一個第一模式及一個第二模式間運作,進而控制該流體的流動或止流狀態,且只須瞬間供電即能完成控制,相對於一般截斷閥,不僅能節省人力及操作時間,更能達到節能的目的。
    • 一种流体控制阀,与流体搭配使用,且包含一个界定出一个第一流道的第一阀座、一个连接于该第一阀座的第一变形件、一个连接该第一变形件且形成一个容置空间的存储件、一个设于该容置空间内的磁性件、一个连接该存储件的第二变形件、一个连接该第二变形件且界定出一个第二流道的第二阀座,及一个电磁控制单元。透过该电磁控制单元,使该磁性件在一个第一模式及一个第二模式间运作,进而控制该流体的流动或止流状态,且只须瞬间供电即能完成控制,相对于一般截断阀,不仅能节省人力及操作时间,更能达到节能的目的。