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3. 发明专利

TWI319839B 微影裝置及器件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备及器件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI319839B
公开(公告)日：2010-01-21
申请号：TW094144280
申请日：2005-12-14
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：馬歇爾邦特克 , 派翠西斯阿若瑟斯約克伯提那曼斯 , 蓮博特絲姬德絲馬莉雅凱瑟絲 , 馬可康尼爾司賈古柏司凡海瑟 , 沃特法蘭司威廉穆可其司
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70283 , G03F7/70508
摘要：本發明揭示一種微影裝置，其包括：一投影系統，其經組態以將一輻射光束作為一輻射子光束陣列投影；及一可分別控制元件陣列，其經組態以調變該等輻射子光束，以於一基板上形成一所要求之劑量圖案。該所要求之劑量圖案係隨著時間的進行自一局部曝光陣列形成，在該局部曝光陣列中，至少相鄰之局部曝光係在明顯不同之時刻成像，且其中每一局部曝光皆係由其中一個輻射子光束形成。該微影裝置亦包括一光柵化器件，該光柵化器件設置成將規定該所要求劑量圖案之資料變換成一資料序列，該資料序列代表在該圖案內一對應的點序列處之所要求劑量圖案，且該微影裝置亦包括一資料調處器件，該資料調處器件設置成接收該資料序列並構成一適於控制該可分別控制元件陣列之控制信號。【創作特點】根據一實施例，提供一種微影裝置，其包括一投影系統、一可分別控制元件陣列、一光柵化器件、及一資料調處器件。該投影系統經組態以將一輻射光束作為一輻射子光束陣列投影至一基板上。該可分別控制元件陣列經組態以調變該等輻射子光束，以大體上於該基板上形成一所要求之劑量圖案。該所要求之劑量圖案係隨著時間的進行自一局部曝光陣列形成，在該局部曝光陣列中，至少相鄰之局部曝光係在明顯不同之時刻成像且其中每一局部曝光皆係由其中一個輻射子光束形成。該光柵化器件設置成將規定該所要求劑量圖案之資料變換成一資料序列，該資料序列代表在該圖案內一對應的點序列處之所要求劑量。該資料調處器件設置成接收該資料序列並自其構成一適於控制該可分別控制元件陣列之控制信號。該資料調處器件經組態以計算每一局部曝光之所需子光束強度，以便再現所要求之劑量圖案。對於每一局部曝光，該計算皆依據於包含基板上一圍繞該局部曝光之區域中之所要求劑量圖案的上下文資訊。該資料調處器件包括一經設置以儲存該資料序列之一部分的記憶體緩衝器。該資料調處器件亦包括一所需子光束強度計算器件，該所需子光束強度計算器件經組態以根據由該記憶體緩衝器所提供之上下文資訊來為複數個相鄰局部曝光計算所需子光束強度。
根據另一實施例，提供一種器件製造方法，其包括如下步驟：將一輻射光束作為一輻射子光束陣列投影至一基板上，並以一可分別控制元件陣列來調變該等輻射子光束，以於該基板上大體形成一所要求之劑量圖案。該所要求之劑量圖案係隨著時間的進行自一局部曝光陣列形成，在該局部曝光陣列中，至少相鄰之局部曝光係在明顯不同之時刻成像且其中每一局部曝光皆係由其中一個輻射子光束形成。該方法進一步包括如下步驟：將規定該所要求劑量圖案之資料變換成一資料序列，該資料序列代表在該圖案內一對應的點序列處之所要求劑量；在一資料調處器件處接收該資料序列；在該資料調處器件處構成一適於控制該可分別控制元件陣列之控制信號；及在該資料調處器件處計算每一局部曝光之所需子光束強度，以便再現所要求之劑量圖案。對於每一局部曝光，該計算皆依據於包含基板上一圍繞該局部曝光之區域中之所要求劑量圖案的上下文資訊。該資料調處器件包括一經設置以儲存該資料序列之一部分的記憶體緩衝器。該資料調處器件亦包括一所需子光束強度計算器件，該所需子光束強度計算器件經組態以根據由該記憶體緩衝器所提供之上下文資訊來為複數個相鄰局部曝光計算所需子光束強度。
下文將參照附圖來詳細闡述本發明之其他實施例、特徵及優點、以及本發明不同實施例之結構及運作。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备，其包括：一投影系统，其经组态以将一辐射光束作为一辐射子光束数组投影；及一可分别控件数组，其经组态以调制该等辐射子光束，以于一基板上形成一所要求之剂量图案。该所要求之剂量图案系随着时间的进行自一局部曝光数组形成，在该局部曝光数组中，至少相邻之局部曝光系在明显不同之时刻成像，且其中每一局部曝光皆系由其中一个辐射子光束形成。该微影设备亦包括一光栅化器件，该光栅化器件设置成将规定该所要求剂量图案之数据变换成一数据串行，该数据串行代表在该图案内一对应的点串行处之所要求剂量图案，且该微影设备亦包括一数据调处器件，该数据调处器件设置成接收该数据串行并构成一适于控制该可分别控件数组之控制信号。【创作特点】根据一实施例，提供一种微影设备，其包括一投影系统、一可分别控件数组、一光栅化器件、及一数据调处器件。该投影系统经组态以将一辐射光束作为一辐射子光束数组投影至一基板上。该可分别控件数组经组态以调制该等辐射子光束，以大体上于该基板上形成一所要求之剂量图案。该所要求之剂量图案系随着时间的进行自一局部曝光数组形成，在该局部曝光数组中，至少相邻之局部曝光系在明显不同之时刻成像且其中每一局部曝光皆系由其中一个辐射子光束形成。该光栅化器件设置成将规定该所要求剂量图案之数据变换成一数据串行，该数据串行代表在该图案内一对应的点串行处之所要求剂量。该数据调处器件设置成接收该数据串行并自其构成一适于控制该可分别控件数组之控制信号。该数据调处器件经组态以计算每一局部曝光之所需子光束强度，以便再现所要求之剂量图案。对于每一局部曝光，该计算皆依据于包含基板上一围绕该局部曝光之区域中之所要求剂量图案的上下文信息。该数据调处器件包括一经设置以存储该数据串行之一部分的内存缓冲器。该数据调处器件亦包括一所需子光束强度计算器件，该所需子光束强度计算器件经组态以根据由该内存缓冲器所提供之上下文信息来为复数个相邻局部曝光计算所需子光束强度。根据另一实施例，提供一种器件制造方法，其包括如下步骤：将一辐射光束作为一辐射子光束数组投影至一基板上，并以一可分别控件数组来调制该等辐射子光束，以于该基板上大体形成一所要求之剂量图案。该所要求之剂量图案系随着时间的进行自一局部曝光数组形成，在该局部曝光数组中，至少相邻之局部曝光系在明显不同之时刻成像且其中每一局部曝光皆系由其中一个辐射子光束形成。该方法进一步包括如下步骤：将规定该所要求剂量图案之数据变换成一数据串行，该数据串行代表在该图案内一对应的点串行处之所要求剂量；在一数据调处器件处接收该数据串行；在该数据调处器件处构成一适于控制该可分别控件数组之控制信号；及在该数据调处器件处计算每一局部曝光之所需子光束强度，以便再现所要求之剂量图案。对于每一局部曝光，该计算皆依据于包含基板上一围绕该局部曝光之区域中之所要求剂量图案的上下文信息。该数据调处器件包括一经设置以存储该数据串行之一部分的内存缓冲器。该数据调处器件亦包括一所需子光束强度计算器件，该所需子光束强度计算器件经组态以根据由该内存缓冲器所提供之上下文信息来为复数个相邻局部曝光计算所需子光束强度。下文将参照附图来详细阐述本发明之其他实施例、特征及优点、以及本发明不同实施例之结构及运作。

6. 发明专利

TWI322929B 微影裝置及設備製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
简体标题：微影设备及设备制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI322929B
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW094127593
申请日：2005-08-12
申请人： ASML荷蘭公司
发明人：傑倫喬漢那蘇菲亞瑪利亞摩頓 , 克斯汀那斯傑若德瑪利亞迪莫 , 瑪歇喬漢那斯伊莉沙白胡伯特穆特珍 , 安東尼奧斯喬漢那斯凡德涅 , 宙斯特傑倫奧登斯 , 喬漢那安娜魁德克斯 , 瑪利亞伊莉沙白瑞曼惠斯坎 , 馬可寇特史帝芬格 , 派翠西斯阿若瑟斯約克伯提那曼斯 , 馬提那斯康納斯瑪利亞微哈珍 , 約克伯喬漢那斯李奧那多漢德瑞可微斯派 , 費德瑞可艾德華迪瓊 , 可恩古曼 , 伯瑞斯曼徹奇可夫 , 賀曼布恩 , 史多元耐田諾 , 理查莫爾曼 , 馬汀法蘭斯皮爾史密特 , 巴特李奧納德皮特史古德馬克 , 法蘭西瑟斯喬漢那斯約瑟夫簡森 , 米歇爾瑞潘 , 賽多斯皮特斯瑪里亞凱德 , 喬漢斯亨利哈斯威廉瑪斯賈庫博 , 尼可拉斯譚凱特 , 艾瑞克羅勒夫洛卜史塔 , 愛恩羅德克亨利卡斯喬漢斯范密爾
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
摘要：本發明提供一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及若干元件，其用以控制及/或補償浸液自該基板之蒸發。【創作特點】需要提供一種能降低由浸液引起之微影誤差的系統。
根據本發明之一態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及一液體蒸發控制器，其經配置以控制該液體供應系統所供應之液體的淨蒸發速率。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及一基板台掃描系統，其經配置以沿一相對於該密封構件之預定掃描路徑移動該基板台，藉此掃描該基板表面上之該目標部分；及一基板加熱器，其經組態以根據該基板台相對於該密封構件之位置、速度、加速度及掃描路徑、局部基板溫度及局部基板台溫度中之至少一者來加熱該基板之至少一部分。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及一氣體密封，其經組態以控制自該密封構件逃逸穿過一由該密封構件之一邊界而被定界於一側上且由該基板而被定界於第二側上之間隙的液體的量，該氣體密封包含一氣體出口(經由該氣體出口將氣體供應至該間隙內之區域)及一真空排氣入口(由該氣體出口供應之氣體經由該真空排氣入口而得以自該間隙內之區域移除)，該氣體出口及該真空排氣入口分別連接至嵌入於該密封構件中之一氣體出口管及一真空排氣入口管，其中該密封構件進一步包含一密封構件溫度穩定器。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；一基板台熱交換流體控制器，其用於控制經配置以流經嵌入於該基板台中之一通道網路的熱交換流體之溫度及流動速率。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該基板台包含至少一整合之局部溫度控制系統，該局部溫度控制系統包含：一與一加熱器耦接之溫度感應器，該加熱器經組態以當如由該溫度感應器所量測之局部溫度落至一預定參考值以下時產生熱，且當該局部溫度升至該預定參考值以上時停止產生熱。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；至少一溫度感應器，其經組態以量測該基板、該基板台及一基板固持器中之至少一者的至少一部分的溫度；及一投影系統控制器，其經組態以調整該圖案化之輻射光束的特性以回應於由該至少一溫度感應器所量測之該(等)溫度。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化設備，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；一投影系統，其經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上；一液體供應系統，其經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間；一密封構件，其經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體；及一基板台移位系統，其經配置以沿一相對於該密封構件之預定路徑移動該基板台，藉此在該基板表面上移動該目標部分；及一微波源及微波封鎖設備，其經共同組態以向該基板表面上之液體供應熱。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；及控制該液體供應系統所供應之液體的淨蒸發速率。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；及提供一基板台移位系統，其經配置以沿一相對於該密封構件之預定路徑移動該基板台，藉此在該基板表面上移動該目標部分；及根據該基板台相對於該密封構件之位置、速度、加速度及預定路徑、局部基板溫度及局部基板台溫度中之至少一者來加熱該基板之至少一部分。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；及提供一氣體密封，其經組態以控制自該密封構件逃逸穿過一由該密封構件之一邊界而被定界於一側上且由該基板而被定界於第二側上之間隙的液體的量，提供一包含一氣體入口(經由該氣體入口可將氣體供應至該間隙內之區域)及一真空排氣入口(由該氣體入口供應之氣體經由該真空排氣入口而得以自該間隙內之該區域移除)的氣體密封，該氣體入口及該真空排氣出口分別連接至嵌入於該密封構件中之一氣體入口管及一真空排氣出口管，且穩定該密封構件之溫度。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；提供被嵌入於該基板台中的一通道網路，及控制經配置以流經該通道網路之熱交換流體的溫度及流動速率。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統，其中該基板台包含至少一整合之局部溫度控制系統，該局部溫度控制系統包含：一與一加熱器耦接之溫度感應器，該加熱器經組態以當如由該溫度感應器所量測之局部溫度落至一預定參考值以下時產生熱，且當該局部溫度升至該預定參考值以上時停止產生熱。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供經組態以量測該基板、該基板台及一基板固持器中之至少一者的至少一部分的溫度的至少一溫度感應器；及調整該圖案化之輻射光束的特性以回應於由該至少一溫度感應器所量測之該(等)溫度。
根據本發明之進一步態樣，提供了一種設備製造方法，其包含：提供一經組態以調節一輻射光束之照明系統；提供一經建構以支撐一圖案化設備之支撐件，該圖案化設備能夠在該輻射光束之橫截面中賦予其一圖案以形成一圖案化之輻射光束；提供一經建構以固持一基板之基板台；提供一經組態以將該圖案化之輻射光束投影至該基板之一目標部分上的投影系統；提供一經組態以使用液體至少部分地填充該投影系統之一最終元件與該基板之間的空間的液體供應系統；提供一經大體上配置以在該投影系統之該最終元件與該基板之間的該空間內含有該液體的密封構件；及提供一基板台移位系統，其經配置以沿一相對於該密封構件之預定路徑移動該基板台，藉此在該基板表面上移動該目標部分；及使用一微波源及微波封鎖設備以向該基板表面上之液體供應熱。
简体摘要：本发明提供一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及若干组件，其用以控制及/或补偿浸液自该基板之蒸发。【创作特点】需要提供一种能降低由浸液引起之微影误差的系统。根据本发明之一态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及一液体蒸发控制器，其经配置以控制该液体供应系统所供应之液体的净蒸发速率。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及一基板台扫描系统，其经配置以沿一相对于该密封构件之预定扫描路径移动该基板台，借此扫描该基板表面上之该目标部分；及一基板加热器，其经组态以根据该基板台相对于该密封构件之位置、速度、加速度及扫描路径、局部基板温度及局部基板台温度中之至少一者来加热该基板之至少一部分。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及一气体密封，其经组态以控制自该密封构件逃逸穿过一由该密封构件之一边界而被定界于一侧上且由该基板而被定界于第二侧上之间隙的液体的量，该气体密封包含一气体出口(经由该气体出口将气体供应至该间隙内之区域)及一真空排气入口(由该气体出口供应之气体经由该真空排气入口而得以自该间隙内之区域移除)，该气体出口及该真空排气入口分别连接至嵌入于该密封构件中之一气体出口管及一真空排气入口管，其中该密封构件进一步包含一密封构件温度稳定器。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；一基板台热交换流体控制器，其用于控制经配置以流经嵌入于该基板台中之一信道网络的热交换流体之温度及流动速率。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上，其中该基板台包含至少一集成之局部温度控制系统，该局部温度控制系统包含：一与一加热器耦接之温度感应器，该加热器经组态以当如由该温度感应器所量测之局部温度落至一预定参考值以下时产生热，且当该局部温度升至该预定参考值以上时停止产生热。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；至少一温度感应器，其经组态以量测该基板、该基板台及一基板固持器中之至少一者的至少一部分的温度；及一投影系统控制器，其经组态以调整该图案化之辐射光束的特性以回应于由该至少一温度感应器所量测之该(等)温度。根据本发明之进一步态样，提供了一种微影设备，其包含：一照明系统，其经组态以调节一辐射光束；一支撑件，其经建构以支撑一图案化设备，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；一基板台，其经建构以固持一基板；一投影系统，其经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上；一液体供应系统，其经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间；一密封构件，其经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体；及一基板台移位系统，其经配置以沿一相对于该密封构件之预定路径移动该基板台，借此在该基板表面上移动该目标部分；及一微波源及微波封锁设备，其经共同组态以向该基板表面上之液体供应热。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；及控制该液体供应系统所供应之液体的净蒸发速率。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；及提供一基板台移位系统，其经配置以沿一相对于该密封构件之预定路径移动该基板台，借此在该基板表面上移动该目标部分；及根据该基板台相对于该密封构件之位置、速度、加速度及预定路径、局部基板温度及局部基板台温度中之至少一者来加热该基板之至少一部分。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；及提供一气体密封，其经组态以控制自该密封构件逃逸穿过一由该密封构件之一边界而被定界于一侧上且由该基板而被定界于第二侧上之间隙的液体的量，提供一包含一气体入口(经由该气体入口可将气体供应至该间隙内之区域)及一真空排气入口(由该气体入口供应之气体经由该真空排气入口而得以自该间隙内之该区域移除)的气体密封，该气体入口及该真空排气出口分别连接至嵌入于该密封构件中之一气体入口管及一真空排气出口管，且稳定该密封构件之温度。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；提供被嵌入于该基板台中的一信道网络，及控制经配置以流经该信道网络之热交换流体的温度及流动速率。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统，其中该基板台包含至少一集成之局部温度控制系统，该局部温度控制系统包含：一与一加热器耦接之温度感应器，该加热器经组态以当如由该温度感应器所量测之局部温度落至一预定参考值以下时产生热，且当该局部温度升至该预定参考值以上时停止产生热。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供经组态以量测该基板、该基板台及一基板固持器中之至少一者的至少一部分的温度的至少一温度感应器；及调整该图案化之辐射光束的特性以回应于由该至少一温度感应器所量测之该(等)温度。根据本发明之进一步态样，提供了一种设备制造方法，其包含：提供一经组态以调节一辐射光束之照明系统；提供一经建构以支撑一图案化设备之支撑件，该图案化设备能够在该辐射光束之横截面中赋予其一图案以形成一图案化之辐射光束；提供一经建构以固持一基板之基板台；提供一经组态以将该图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统；提供一经组态以使用液体至少部分地填充该投影系统之一最终组件与该基板之间的空间的液体供应系统；提供一经大体上配置以在该投影系统之该最终组件与该基板之间的该空间内含有该液体的密封构件；及提供一基板台移位系统，其经配置以沿一相对于该密封构件之预定路径移动该基板台，借此在该基板表面上移动该目标部分；及使用一微波源及微波封锁设备以向该基板表面上之液体供应热。

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