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1. 发明专利

TW201234405A 帶電粒子束調節器 CHARGED PARTICLE BEAM MODULATOR 审中-公开
简体标题：带电粒子束调节器 CHARGED PARTICLE BEAM MODULATOR
公开(公告)号：TW201234405A
公开(公告)日：2012-08-16
申请号：TW100141408
申请日：2011-11-14
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：威蘭德瑪寇傑加寇 , 傑格雷寇 , 凡賓艾利克山德亨卓克文森 , 史丁柏齡克史丁威稜賀曼卡羅 , 凡戴佩特特意尼斯 , 德爾斯漢克
IPC分类号： H01J , G03F
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/241 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/2482
摘要：本發明關於一種用於將圖型轉移到目標表面上的帶電粒子微影系統。該種系統包含束產生器、束光闌陣列以及調節裝置。束產生器是經配置用於產生複數個帶電粒子射束,複數個射束定義一柱。束光闌陣列具有用於阻隔射束到達目標表面之表面以及用於允許射束到達目標表面之在表面中的隙縫陣列。調節裝置是經配置用於調節射束來防止射束中的一或多者到達目標表面或允許射束中的一或多者到達目積表面,藉由使射束偏轉或未偏轉以使得射束為由束光闌陣列所阻隔或未阻隔。調節裝置包含其具有關聯調節器的複數個隙縫、以及複數個感光元件,二者均為以陣列所配置。調節裝置的表面區域包含狹長束區域與電力介面區域,狹長束區域包含隙縫陣列與關聯調節器,電力介面區域是用於容納電力配置,其適合用來供電給在調節裝置內的元件。電力介面區域是位在沿著狹長束區域的長側且朝實質平行於其的方向而延伸。
简体摘要：本发明关于一种用于将图型转移到目标表面上的带电粒子微影系统。该种系统包含束产生器、束光阑数组以及调节设备。束产生器是经配置用于产生复数个带电粒子射束,复数个射束定义一柱。束光阑数组具有用于阻隔射束到达目标表面之表面以及用于允许射束到达目标表面之在表面中的隙缝数组。调节设备是经配置用于调节射束来防止射束中的一或多者到达目标表面或允许射束中的一或多者到达目积表面,借由使射束偏转或未偏转以使得射束为由束光阑数组所阻隔或未阻隔。调节设备包含其具有关联调节器的复数个隙缝、以及复数个感光组件,二者均为以数组所配置。调节设备的表面区域包含狭长束区域与电力界面区域,狭长束区域包含隙缝数组与关联调节器,电力界面区域是用于容纳电力配置,其适合用来供电给在调节设备内的组件。电力界面区域是位在沿着狭长束区域的长侧且朝实质平行于其的方向而延伸。

2. 发明专利

TWI562186B 用於將圖型轉移到目標表面上的帶電粒子微影系統及方法以及用於使用在帶電粒子微影系統中的調節器裝置有权
简体标题：用于将图型转移到目标表面上的带电粒子微影系统及方法以及用于使用在带电粒子微影系统中的调节器设备
公开(公告)号：TWI562186B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW100141408
申请日：2011-11-14
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO , 傑格雷寇 , JAGER, REMCO , 凡賓艾利克山德亨卓克文森 , VAN VEEN, ALEXANDER HENDRIK VINCENT , 史丁柏齡克史丁威稜賀曼卡羅 , STEENBRINK, STIJN WILLEM HERMAN KAREL , 凡戴佩特特意尼斯 , VAN DE PEUT, TEUNIS , 德爾斯漢克 , DERKS, HENK
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/04 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/241 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/2482

4. 发明专利

TW201230131A 調整裝置和使用其之帶電粒子多重小射束微影系統 MODULATION DEVICE AND CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME 审中-公开
简体标题：调整设备和使用其之带电粒子多重小射束微影系统 MODULATION DEVICE AND CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME
公开(公告)号：TW201230131A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW100139031
申请日：2011-10-26
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：凡戴佩特特意尼斯 , 凡賓艾利克山德亨卓克文森 , 傑格雷寇 , 史丁柏齡克史丁威稜賀曼卡羅 , 威蘭德瑪寇傑加寇 , 凡米勒羅夫 , 德爾斯漢克
IPC分类号： H01J , G03F
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/22 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0437
摘要：本發明關於一種帶電粒子多重小射束微影系統。該系統包括:一射束產生器,用以產生複數道小射束;一小射束遮擋器陣列,用以圖樣化該等複數道小射束;一光纖配置;以及一投射系統。該小射束遮擋器陣列包括一基板,該基板具備一包括一或多個調整器的第一區域以及一沒有調整器的第二區域。該小射束遮擋器陣列包括一或多個光敏元件,該等光敏元件被電連接至該等一或多個調整器並且被排列成用以接收攜載圖樣資料的光射束。該光纖配置包括複數條光纖,用以將該等攜載圖樣資料的光射束導向該等一或多個光敏元件。該光纖配置在垂直於該小射束遮擋器陣列的一表面的方向中在該表面上的投射係完全落在該第二區域裡面。
简体摘要：本发明关于一种带电粒子多重小射束微影系统。该系统包括:一射束产生器,用以产生复数道小射束;一小射束遮挡器数组,用以图样化该等复数道小射束;一光纤配置;以及一投射系统。该小射束遮挡器数组包括一基板,该基板具备一包括一或多个调整器的第一区域以及一没有调整器的第二区域。该小射束遮挡器数组包括一或多个光敏组件,该等光敏组件被电连接至该等一或多个调整器并且被排列成用以接收携载图样数据的光射束。该光纤配置包括复数条光纤,用以将该等携载图样数据的光射束导向该等一或多个光敏组件。该光纤配置在垂直于该小射束遮挡器数组的一表面的方向中在该表面上的投射系完全落在该第二区域里面。

5. 发明专利

TW201142905A 調節裝置及使用其之帶電粒子多射束微影系統 MODULATION DEVICE AND CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME 审中-公开
简体标题：调节设备及使用其之带电粒子多射束微影系统 MODULATION DEVICE AND CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME
公开(公告)号：TW201142905A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW099136655
申请日：2010-10-26
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：威蘭德瑪寇傑加寇 , 傑格雷寇 , 凡賓艾利克山德亨卓克文森 , 史丁柏齡克史丁威稜賀曼卡羅
IPC分类号： H01J , G03F
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/07 , H01J37/3174 , H01J2237/0262 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要：本發明係關於一種帶電粒子多射束微影系統,其係用來使用複數個帶電粒子射束來將一圖案傳送到目標表面。該系統包括光束產生器、射束封鎖器陣列、遮蔽結構與投射系統。光束產生器會被排列以產生複數個帶電粒子射束。射束封鎖器陣列係被排列以用來根據一圖案來圖案化複數個射束。射束封鎖器陣列包含複數個調節器與複數個光敏元件,調節器包含第一電極、第二電極與孔隙,其中該等電極會被放置在孔隙的相反側上,以用來產生經過孔隙的電場,且光敏元件會被排列以接收攜帶光束的圖案資料並且電性連接到一或更多調節器,以提供所接收的圖案資料。遮蔽結構是一種導電材料,其係用來實質遮蔽來自調節器在光敏元件附近所產生的電場,其中該遮蔽結構係被排列以被設定在預定電位。該投射系統係被排列以將該圖案化射束到目標表面上。
简体摘要：本发明系关于一种带电粒子多射束微影系统,其系用来使用复数个带电粒子射束来将一图案发送到目标表面。该系统包括光束产生器、射束封锁器数组、屏蔽结构与投射系统。光束产生器会被排列以产生复数个带电粒子射束。射束封锁器数组系被排列以用来根据一图案来图案化复数个射束。射束封锁器数组包含复数个调节器与复数个光敏组件,调节器包含第一电极、第二电极与孔隙,其中该等电极会被放置在孔隙的相反侧上,以用来产生经过孔隙的电场,且光敏组件会被排列以接收携带光束的图案数据并且电性连接到一或更多调节器,以提供所接收的图案数据。屏蔽结构是一种导电材料,其系用来实质屏蔽来自调节器在光敏组件附近所产生的电场,其中该屏蔽结构系被排列以被设置在预定电位。该投射系统系被排列以将该图案化射束到目标表面上。

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