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热词
    • 1. 发明授权
    • 다중-포트 SRAM 소자
    • 多端口SRAM器件
    • KR101795135B1
    • 2017-11-07
    • KR1020150062680
    • 2015-05-04
    • 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
    • 리아우존지
    • G11C11/41G11C11/412G11C8/16G11C5/06H01L27/11
    • G11C11/419G11C5/06G11C8/16G11C11/412H01L27/0207H01L27/1104
    • 다중-포트메모리셀은제1 금속층내의제1 전도성라인, 제2 금속층내의제2 전도성라인, 제3 금속층내의제3 전도성라인, 제4 금속층내의제4 전도성라인을포함한다. 제1 전도성라인은기록비트라인노드와전기적으로결합된기록비트라인; 제1 판독비트라인노드와전기적으로결합된제1 판독비트라인; 제2 판독비트라인노드와전기적으로결합된제2 판독비트라인을포함한다. 제2 전도성라인은기록워드라인노드와전기적으로결합된기록워드라인을포함한다. 제4 전도성라인은제1 판독워드라인노드와전기적으로결합된제1 판독워드라인; 제2 판독워드라인노드와전기적으로결합된제2 판독워드라인을포함한다.
    • 端口存储器单元包括:第一导电线,所述第二导电线,所述第三导线,在所述第一金属层的多个第二金属层的第三金属层中的第四金属层的第四导电线。 第一导线包括电耦合到写位线节点的写位线; 电耦合到第一读取位线节点的第一读取位线; 以及电耦合到第二读取位线节点的第二读取位线。 第二导线包括电连接到写字线节点的写字线。 第四导线包括电耦合到第一读取字线节点的第一读取字线; 以及电耦合到第二读字线节点的第二读字线。
    • 2. 发明授权
    • 반도체 장치
    • 半导体器件
    • KR101569212B1
    • 2015-11-13
    • KR1020080085479
    • 2008-08-29
    • 르네사스 일렉트로닉스 가부시키가이샤
    • 후나네기요따다시바따겐시마자끼야스히사
    • G11C11/41
    • G11C11/417G11C5/02G11C5/06G11C7/1075G11C8/16G11C11/412G11C11/413H01L27/0207H01L27/11H01L27/1104
    • 노이즈마진을확대가능한반도체장치를제공한다. 예를들면, 각메모리셀 MC가제1 포트용의워드선 WLA와제2 포트용의워드선 WLB에접속되고, 복수의메모리셀 MC가매트릭스형상으로배치된메모리영역에서, 각워드선을, WLA0, WLB0, WLB1, WLA1, WLA2, …라고하는순번으로배치한다. 또한,WLA-WLA간및 WLB-WLB간의피치 d2를 WLA-WLB간의피치 d1보다도작게한다. 이와같이, 임의의워드선을기준으로그 양측의한쪽에피치 d2로동일포트의워드선이배치되고, 다른쪽에피치 d1로서로다른포트의워드선이배치되는구성을이용함으로써, 예를들면, WLA와 WLB를교대로배치하는경우와비교하여, 소면적에서서로다른포트간의간섭을저감할수 있어, 노이즈마진의확대가가능하게된다.
    • 提供了一种能够扩大噪声容限的半导体器件。 例如,在每个存储单元MC纱布第一字线WLA沃赫字线被连接到WLB,多个存储单元MC配置成矩阵用于第二端口的端口的存储器区域中,相应的字线,WLA0, WLB0,WLB1,WLA1,WLA2,... 为了。 另外,使WLA-WLA与WLB-WLB之间的间距d2小于WLA-WLB之间的间距d1。 因此,基于所述任意字线的节距D2劳动工作端口的字线的两侧设置在侧,通过使用其中另一个端口的一个字线布置在所述间距D1为另一侧的结构,例如,WLA和 与WLB交替布置的情况相比,可以减小小区域中的不同端口之间的干扰,并且可以扩大噪声容限。
    • 8. 发明公开
    • 비휘발성 정적 랜덤 억세스 메모리 장치들 및 동작 방법
    • 非易失性静态随机访问存储器件和操作方法
    • KR1020130018588A
    • 2013-02-25
    • KR1020120085039
    • 2012-08-03
    • 플래시 실리콘, 인코포레이션
    • 리왕
    • G11C11/41G11C11/413
    • G11C14/0054G11C14/0063
    • PURPOSE: Nonvolatile static random access memory devices and an operating method thereof are provided to implement integration in a compact cell array by applying a single nonvolatile element embedded in a static random access memory cell. CONSTITUTION: An SRAM element includes a latch and two access transistors(MN3,MN4). The latch includes two output nodes. Two access transistors and the latch are combined between one of two output nodes and one of a bit line pair. A nonvolatile memory element is combined with one of two output nodes and a voltage line. Two gates of two access transistors are combined with a word line. [Reference numerals] (AA) Word line
    • 目的:提供非易失性静态随机存取存储器件及其操作方法,以通过应用嵌入在静态随机存取存储单元中的单个非易失性元件来实现紧凑单元阵列中的集成。 构成:SRAM元件包括一个锁存器和两个存取晶体管(MN3,MN4)。 锁存器包括两个输出节点。 两个存取晶体管和锁存器组合在两个输出节点之一和位线对中的一个之间。 非易失性存储元件与两个输出节点和电压线中的一个组合。 两个存取晶体管的两个门与字线组合。 (标号)(AA)字线
    • 9. 发明公开
    • 반도체 집적 회로 및 프로세서
    • 半导体集成电路和处理器
    • KR1020130014336A
    • 2013-02-07
    • KR1020120049092
    • 2012-05-09
    • 가부시끼가이샤 도시바
    • 후지따시노부아베게이꼬
    • G11C11/41
    • G11C14/0054G11C11/16G11C14/0081
    • PURPOSE: A semiconductor integrated circuit and a processor are provided to reduce a leak current by saving data in an MTJ(Magnetic Tunnel Junction) and blocking power to a nonvolatile SRAM cell if a cache is not accessed. CONSTITUTION: A nonvolatile SRAM cell(10a) includes a first inverter(11), a second inverter(12), a first transistor(21), a second transistor(22), a third transistor(23), and an MTJ(31). One end of the first transistor is connected to a first bit line and the other end thereof is connected to a first input terminal of the first inverter. One end of a first device group is connected to a first output terminal of the first inverter and the other end thereof is connected to a second bit line. One end of a second device group is connected to the first inverter and the second inverter and the other end thereof is connected to the first terminal to which a preset potential is applied according to an operation.
    • 目的:提供半导体集成电路和处理器,以通过在MTJ(磁隧道结)中保存数据来减少泄漏电流,并且如果不访问高速缓存,则阻断非易失性SRAM单元的电力。 构成:非易失性SRAM单元(10a)包括第一反相器(11),第二反相器(12),第一晶体管(21),第二晶体管(22),第三晶体管(23)和MTJ(31 )。 第一晶体管的一端连接到第一位线,而另一端连接到第一反相器的第一输入端。 第一装置组的一端连接到第一反相器的第一输出端子,另一端连接到第二位线。 根据操作,第二设备组的一端连接到第一逆变器和第二逆变器,并且其另一端连接到施加了预置电位的第一端子。
    • 10. 发明公开
    • 전기적인 퓨즈 프로그래밍을 이용한 1T-SRAM의 리던던시 제어 회로
    • 一种使用电子保险丝编程的1T SRAM的冗余控制电路
    • KR1020120084602A
    • 2012-07-30
    • KR1020110006047
    • 2011-01-20
    • 창원대학교 산학협력단
    • 김영희
    • G11C29/04G11C11/41
    • G11C29/787G11C29/04G11C29/80G11C2229/763
    • PURPOSE: A redundancy control circuit of a 1T-SRAM using an electrical fuse programming is provided to prevent the drop of program power by directly applying external program power to an e-Fuse(electrical Fuse) cell in a program mode. CONSTITUTION: A program selection bit selecting unit(220) selects a specific bit line by outputting a bit line selection signal which is reversed through decoding. An e-Fuse cell array(230) programs a failed address by activating an e-Fuse cell connected to the selected word line and the bit line. A repair address comparing unit(240) outputs a matching signal if the failed address is identical to a memory access address at each bit. When the failed address is programmed in the e-Fuse cell array, an external voltage source is supplied.
    • 目的:提供使用电熔丝编程的1T-SRAM的冗余控制电路,以通过在编程模式下直接将外部程序电源应用于电子熔丝(电保险丝)单元来防止程序电源的下降。 构成:程序选择位选择单元(220)通过输出通过解码反转的位线选择信号来选择特定的位线。 电子熔丝单元阵列(230)通过激活连接到所选字线和位线的电子保险丝单元来编程故障地址。 如果故障地址与每个位的存储器访问地址相同,则修复地址比较单元(240)输出匹配信号。 当e-Fuse单元阵列中编程失败的地址时,会提供一个外部电压源。