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1. 发明公开

KR1020130137126A 초크 유동 요소 추출을 위한 시스템, 방법 및 장치 审中-实审
标题翻译：系统，方法和装置用于回流流动元件提取
公开(公告)号：KR1020130137126A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：KR1020137003086
申请日：2011-06-30
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 샤지알리 , 고쵸리차드 , 벤저룩사우헤일 , 카우앤드류 , 나가르카티시드하르트피 , 엔틀리윌리엄알
IPC分类号： H01L21/3065 , F16K31/12
CPC分类号： H01J37/32174 , H01J37/321 , H01J37/3244 , H01J37/32467 , H01J37/32642 , H01J37/3266 , H01J2237/334 , F16K31/12 , G05B13/02 , H01L21/3065 , H05B31/26
摘要： 플라즈마 소스는 링 플라즈마 챔버, 링 플라즈마 챔버의 외부 주위의 1차 권선, 다수의 페라이트들로서, 링 플라즈마 챔버는 각각의 페라이트들을 통과하는, 상기 다수의 페라이트들, 및 플라즈마 챔버를 프로세스 챔버에 연결시키는 다수의 플라즈마 챔버 출구들을 포함한다. 플라즈마 챔버 출구들의 각각 하나는 각각의 플라즈마 제한부를 갖는다. 플라즈마 발생 시스템 및 방법이 또한 설명된다.

2. 发明授权

KR101677748B1 펄스 플라즈마 장치 및 펄스 플라즈마 장치 구동 방법 有权
标题翻译：脉冲等离子体装置及其操作方法
公开(公告)号：KR101677748B1
公开(公告)日：2016-11-29
申请号：KR1020140148444
申请日：2014-10-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 권오형 , 강남준 , 성덕용 , 조정현
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J7/24 , H01J37/32091 , H01J37/321 , H01J37/32146 , H01J37/32926 , H01J2237/327 , H01J2237/334 , H05B31/26
摘要： 본발명의기술적사상에의한펄스플라즈마장치는공정챔버에서반사되는반사전력을최소화하여펄스플라즈마를이용한반도체웨이퍼의식각공정의효율성을향상시키기위해, 0이아닌복수의레벨을가진펄스플라즈마전력을인가하고, 상기복수의레벨의플라즈마전력에따른임피던스정합커패시턴스를상기복수의레벨플라즈마의듀티사이클의비율에따라조합하여임피던스를정합할수 있는것을특징으로한다.
摘要翻译：脉冲等离子体装置包括处理室，源RF发生器，被配置为向处理室的上电极提供具有第一和第二占空比的第一和第二电平的RF脉冲功率，被配置为指示反射RF功率的反射功率指示器，第一匹配网络和控制器。当分别提供第一级RF脉冲功率或第二级RF脉冲功率时，第一匹配网络被配置为将处理室的阻抗与源RF发生器的阻抗分别匹配为第一或第二匹配电容值。控制器被配置为基于第一和第二匹配电容值和第一和第二占空比的比率来计算第三匹配电容值，将第三匹配电容值提供给第一匹配网络，并且控制源RF发生器和第一匹配网络。

3. 发明公开

KR1020160097925A 무전극 조명기기 审中-实审
标题翻译：等离子照明系统
公开(公告)号：KR1020160097925A
公开(公告)日：2016-08-18
申请号：KR1020150020419
申请日：2015-02-10
申请人： 엘지전자 주식회사
发明人： 박경훈 , 전종길
IPC分类号： H05B31/26 , H05B7/06 , H05B6/70
CPC分类号： H05B31/26 , H05B6/707 , H05B7/06
摘要： 실시예에따른무전극조명기기는고전압이인가되어마이크로파를생성시키는마그네트론, 상기마그네트론에결합되어상기마그네트론에서발진된마이크로파를안내하는도파관, 상기도파관의출구측에결합되어마이크로파의외부방출을차폐하여공진모드를형성하는공진기, 상기공진기의내부에배치되어마이크로파에의해여기되어빛을발광하도록발광물질이구비되는무전극전구, 상기무전극전구에회전력을공급하는모터, 상기모터를상기도파관에서이격되게지지하는적어도하나의서포터및 상기서포터와모터의사이에서완충력을제공하는완충부재를포함하고, 상기완충부재는상기서포터보다큰 연성을가지는것을특징으로한다.
摘要翻译：根据本发明实施例的无电极照明装置包括：向其施加高电压的产生微波的磁控管; 耦合到磁控管以引导由磁控管产生的微波的波导; 耦合到波导的出口侧的谐振器，以通过阻挡向外部的微波的发射来形成谐振模式; 一个无电极灯泡布置在谐振器内部，并含有发光物质，以发射由微波激发的光; 电动机向无电极灯泡提供扭矩; 至少一个支撑所述马达与所述波导分离的支撑件; 以及形成在所述支撑件和所述电动机之间并提供缓冲力的缓冲构件。缓冲构件的延展性高于支撑件的延展性。本发明的实施例的目的是提供具有优异的降噪性能的无电极照明装置。

4. 发明公开

KR1020160050396A 펄스 플라즈마 장치 및 펄스 플라즈마 장치 구동 방법 有权
标题翻译：脉冲等离子体装置及其操作方法
公开(公告)号：KR1020160050396A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：KR1020140148444
申请日：2014-10-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 권오형 , 강남준 , 성덕용 , 조정현
IPC分类号： H01J37/32 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J7/24 , H01J37/32091 , H01J37/321 , H01J37/32146 , H01J37/32926 , H01J2237/327 , H01J2237/334 , H05B31/26 , H01J37/32082 , H05H1/46 , H05H2001/4645
摘要： 본발명의기술적사상에의한펄스플라즈마장치는공정챔버에서반사되는반사전력을최소화하여펄스플라즈마를이용한반도체웨이퍼의식각공정의효율성을향상시키기위해, 0이아닌복수의레벨을가진펄스플라즈마전력을인가하고, 상기복수의레벨의플라즈마전력에따른임피던스정합커패시턴스를상기복수의레벨플라즈마의듀티사이클의비율에따라조합하여임피던스를정합할수 있는것을특징으로한다.
摘要翻译：为了通过使从处理室反射的反射功率最小化来提高使用脉冲等离子体蚀刻半导体晶片的工艺的效率，根据本发明的脉冲等离子体装置应用具有多个非零电平和匹配的脉冲等离子体功率通过根据具有多个电平的等离子体的占空比的比例，组合基于具有多个电平的等离子体功率的阻抗匹配电容的阻抗。脉冲等离子体装置包括：处理室，其包括上电极和下电极; 源RF发生器，其将具有第一占空比的第一级RF脉冲功率和具有第二占空比的第二级RF脉冲功率施加到所述上电极; 反射功率测量器，其测量从处理室再次反射到源RF发生器的反射RF功率; 第一匹配网络，其将处理室的等离子体阻抗与源RF功率的阻抗相匹配; 以及控制单元，其控制源RF发生器和第一匹配网络，以便使由反射功率测量器测量的反射RF功率最小化。

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