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1. 发明公开

KR1020170010718A 전극-기반 디바이스를 형성하는 원자층 피착 공정을 위한 마스킹 방법 审中-实审
标题翻译： - 用于基于电极的器件的ALD处理的掩蔽方法
公开(公告)号：KR1020170010718A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：KR1020160090710
申请日：2016-07-18
申请人： 울트라테크 인크.
发明人： 바티아리트위크
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/56 , H01G9/00 , H01G9/048
CPC分类号： H01L21/0331 , H01G9/0029 , H01G9/045 , H01G2009/0408 , H01L21/0332 , H01L24/03 , H01L28/40 , H01L28/60 , H01L2224/03472 , H01L2924/014 , H01L2924/1205
摘要： 전극-기반디바이스에서원자층 피착(ALD) 공정을위한마스킹방법이개시되며, 마스킹재료로솔더가사용된다. 본발명의방법은 ALD에위해형성된차단층및 능동디바이스영역을가진전기디바이스의전기콘택트부재들을노출하는단계를포함한다. 이것은전기콘택트부재위에솔더요소들을피착한후, ALD를사용하여차단층을형성하며, 차단층은능동디바이스영역및 솔더요소들을피복하고, 솔더요소들은전기콘택트부재들을각각피복한다. 그다음솔더요소들이용융되어, 솔더요소들을피복하는차단층의각각의부분들을제거한다. 적층커패시터를형성할때 콘택트부를노출하기위해유사한방법이채용된다.
摘要翻译：公开了用于基于电极的器件的原子层沉积工艺的掩模方法，其中使用焊料作为掩模材料。这些方法包括暴露具有有源器件区域和通过原子层沉积形成的势垒层的电气器件的电接触构件。这包括在电接触构件上沉积焊料元素，然后使用原子层沉积形成阻挡层，其中阻挡层覆盖有源器件区域并且还覆盖分别覆盖电接触构件的焊料元件。焊料元件然后被熔化，这消除了覆盖焊料元件的阻挡层的各个部分。当形成层状电容器时，采用类似的方法来曝光接触。

2. 发明公开

KR1020080044289A 공칭 전압이 높은 전해질 축전기의 제조 방법 有权
标题翻译：用于生产高标称电压的电解电容器的方法
公开(公告)号：KR1020080044289A
公开(公告)日：2008-05-20
申请号：KR1020087006189
申请日：2006-09-02
申请人： 하.체. 스타르크 게엠베하
发明人： 메르케르우도 , 로베니히빌프리트 , 부쏘브클라우스
IPC分类号： H01G9/15
CPC分类号： H01G9/15 , H01G9/0032 , H01G9/0036 , H01G9/025 , H01G9/04 , H01G9/042 , H01G9/045 , H01G9/048 , H01G9/07 , H01G2009/0408 , Y10T29/417
摘要： The invention relates to a method for producing electrolyte capacitors having low equivalent serial resistance and low residual current for high nominal voltage, electrolyte capacitors which are produced according to said method, and to the use of said type of electrolyte capacitors.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造具有低额定串联电阻和低额定电流的电解电容器的方法，所述电解电容器具有根据所述方法制造的高标称电压，电解电容器以及使用所述类型的电解电容器。

3. 发明公开

KR1020020063379A 건식법에 의한 알루미늄 에칭박 제조 기술 无效
标题翻译：干式铝蚀刻箔制造技术
公开(公告)号：KR1020020063379A
公开(公告)日：2002-08-03
申请号：KR1020010004005
申请日：2001-01-29
申请人： (주)씨이드
发明人： 김종민
IPC分类号： C23F1/36
CPC分类号： C23F4/00 , H01G2009/0408 , H01G2009/0416
摘要： PURPOSE: A technology is provided which manufactures etching foil for an electrolytic capacitor by forming aluminum etching foil not using chemical conversion solution but using RF plasma in aluminum foil etching. CONSTITUTION: The dry type aluminum etching foil manufacturing technology is characterized in that contamination by other gases can be minimized when initial base pressure is 2x10¬-7 torr, gases (Ar and O2) are injected until working pressure becomes 4x10¬-5 torr, an antenna is wound around a quartz tube to generate plasma as an ICP type plasma source, RF power is impressed to the antenna to generate an RF ion source as a water cooling type, RF power for generating plasma uses frequency of 13.56 MHz, size of an ion gun is a diameter of 350 mm, a grid is installed to accelerate ions, ion energy is 500 to 1500 eV, ion current is 900 mA, gas flow rate is 8 to 25 mA, the RF ion source is positioned left and right sides around a circular foil to etch both sides of the circular foil, and a roll etching system comprises a winding system for continuously etching a roll shaped aluminum film having a width of 30 cm, a tension system and a control system, wherein the roll etching system is fabricated in such a manner that the aluminum film can be wound and rewound in a proper transfer speed during etching and further comprises a guide roll system to prevent crimple of the film.
摘要翻译：目的：提供一种技术，通过形成不使用化学转化解决方案的铝蚀刻箔，但在铝箔蚀刻中使用RF等离子体，制造用于电解电容器的蚀刻箔。构造：干式铝蚀刻箔制造技术的特征在于，当初始基底压力为2×10 -7 torr时，其他气体的污染可以最小化，气体（Ar和O 2）被注入，直到工作压力变为4×10 -5 torr，将天线缠绕在石英管周围以产生等离子体作为ICP型等离子体源，向天线施加RF功率以产生作为水冷式的RF离子源，用于产生等离子体的RF功率使用13.56MHz的频率，离子枪的直径为350mm，安装栅格加速离子，离子能量为500〜1500eV，离子电流为900mA，气体流量为8〜25mA，射频离子源位于左右两侧围绕圆形箔来蚀刻圆形箔的两侧，并且辊蚀刻系统包括用于连续蚀刻宽度为30cm的卷状铝膜的卷绕系统，张力系统和控制系统，其中辊蚀刻系统是fabr 以能够在蚀刻期间以适当的转印速度卷绕和重绕铝膜的方式进一步制成，并且还包括导辊系统以防止卷曲。

4. 发明公开

KR1020150001815A 텍스처 가공된 집전장치 포일 审中-实审
标题翻译：纹理电流收集器
公开(公告)号：KR1020150001815A
公开(公告)日：2015-01-06
申请号：KR1020147031660
申请日：2013-04-30
申请人： 하이드로 알루미늄 롤드 프로덕츠 게엠베하
发明人： 함펠울리히 , 에크하드카스린 , 유프시몬 , 지멘안드레아스
IPC分类号： H01G11/68 , H01G9/04 , H01M4/66 , H01M4/75 , C25D5/16 , C25D7/06 , H01M4/04
CPC分类号： H01G11/04 , C25D5/16 , C25D7/0692 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01M4/661 , H01M4/667 , H01M4/70 , Y02E60/13 , Y02T10/7022 , H01G9/04 , H01G2009/0408 , H01M4/0402 , H01M4/662 , H01M4/75
摘要： 본 발명은, 캐리어 물질과 금속으로 제조되는 적어도 하나의 전기 전도층을 포함하는, 배터리, 어큐뮬레이터 또는 커패시터용 집전장치 포일에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이에 상당하는 집전장치 포일을 제조하는 방법과, 집전장치 포일의 유리한 용도에 관한 것이다. 접촉면과 부착 특성이 최적화되어 사용수명이 개선된 배터리, 어큐뮬레이터 또는 커패시터용 접전장치 포일을 제공하는 본 발명의 목적은, 적어도 하나의 전기 전도성 층이 적어도 부분적으로 전착 공정에 의해 제조되어 텍스처를 구비하는 사실에 의해 달성된다.

5. 发明授权

KR101369489B1 공칭 전압이 높은 전해질 축전기의 제조 방법 有权
标题翻译：用于生产高标称电压的电解电容器的方法
公开(公告)号：KR101369489B1
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：KR1020087006189
申请日：2006-09-02
申请人： 하.체. 스타르크 게엠베하
发明人： 메르케르우도 , 로베니히빌프리트 , 부쏘브클라우스
IPC分类号： H01G9/15
CPC分类号： H01G9/15 , H01G9/0032 , H01G9/0036 , H01G9/025 , H01G9/04 , H01G9/042 , H01G9/045 , H01G9/048 , H01G9/07 , H01G2009/0408 , Y10T29/417
摘要： 본 발명은 높은 공칭 전압에 대하여 잔류 전류가 낮고 등가 직류 저항이 낮은 전해질 축전기의 제조 방법, 이 방법으로 제조된 전해질 축전기 및 이러한 전해질 축전기의 용도에 관한 것이다.
摘要翻译：制备电解质电容器包括阳极氧化电极材料的多孔电极体以形成电介质，其被涂覆在电极材料上; 将含有至少一种导电聚合物颗粒和分散剂的分散体涂覆在含有多孔电极体的多孔体上; 形成固体电解质，其中电介质表面被分散剂部分或全部地涂覆; 至少部分除去分散剂并硬化所获得的组分。制备电解质电容器包括阳极氧化电极材料的多孔电极体以形成电介质，其被涂覆在电极材料上; 将含有至少一种导电聚合物颗粒和分散剂的分散体涂覆在含有多孔电极体的多孔体上; 形成固体电解质，其中电介质表面被分散剂部分或全部地涂覆; 至少部分除去分散剂并硬化所获得的组分; 其中多孔电极体的阳极氧化中的阳极张力大于30V，导电聚合物颗粒的平均直径为1-100nm。独立权利要求包括：（1）通过上述方法获得的电解电容器; 和（2）包括该电解电容器的电子电路。

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