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热词
    • 2. 发明公开
    • 가스 분류 공급장치 및 가스 분류 공급방법
    • 气体供应装置和气体分配供应方法
    • KR1020150026920A
    • 2015-03-11
    • KR1020140112466
    • 2014-08-27
    • 가부시키가이샤 후지킨도쿄엘렉트론가부시키가이샤
    • 타카하시에이지사사키노리카즈사와치아츠시사와다요헤이이케다노부카즈도히료우수케니시노코우지
    • H01L21/02
    • G05D7/0664G05D11/132Y10T137/0363Y10T137/2529Y10T137/2562Y10T137/7759Y10T137/7761H01L21/02G05D7/0641G05D11/16
    • (과제) 압력식 유량 제어장치로부터의 가스 흐름을 복수의 분류로를 통해서 분류 공급하는 가스 분류 공급장치에 있어서, 가스 도입시의 분류로에 있어서의 가스의 오버슈트의 발생을 방지함과 아울러 분류량 제어의 응답성과 안정성과 제어 정밀도를 높인다.
      (과제 해결수단) 가스 공급원으로부터의 가스의 유량 제어장치와, 유량 제어장치로부터의 가스를 가스 사용 개소로 분류하는 병렬로 접속된 복수의 분류로(L
      1 ∼L
      n )와, 각 분류로(L
      1 ∼L
      n )에 설치한 열식 유량센서와, 열식 유량센서(29a∼29n)의 하류측에 설치한 전동밸브(28a∼28n)와, 각 전동밸브(28a∼28n)의 개폐를 제어하는 컨트롤러(16a∼16n)와, 외부로부터 유량비 지령값이 입력됨과 아울러 각 열식 유량센서(29a∼29n)의 유량으로부터 총 유량을 연산하고, 상기 연산한 총 유량과 상기 유량비 지령값으로부터 각 분류로(L
      1 ∼L
      n )의 유량값을 연산해서 각 컨트롤러(16a∼16n)에 상기 연산 유량값을 설정 유량으로서 입력하는 유량비 설정 연산기(RSC)를 구비하고, 우선, 상기 유량비 설정 연산기(RSC)로부터 입력된 설정 유량값이 최대가 되는 어느 하나의 분류로 (L
      1 ∼L
      n )를 비제어 상태로 해서 그 개방도를 일정값으로 유지함과 아울러 그 밖의 분류로의 개방도를 설정 개방도로 제어하고, 그 후에 각 컨트롤러(16a∼16n)에 의해 각 분류로(L
      1 ∼L
      n )의 분류량을 피드백 제어한다.
    • (问题)中,通过多个分散路径分散并供给来自压力式流量控制装置的气体流的气体分散供给装置,能够防止产生气体,并且能够抑制气体的响应特性,稳定性,控制精度 当输入气体时,色散量控制在色散路径上得到改善。 (溶液)本发明包括来自气体供给源的气体的流量控制装置,并联连接的多个分散路径(L1-Ln),以将来自流量控制装置的气体分散到气体使用场所, 安装在每个分散路径(L1-Ln)处的热流量传感器,安装在热流量传感器(29a-29n)的下侧的电动阀(28a-28n),控制器(16a-16n) 控制每个电动阀的打开和关闭,以及流量设定操作单元(RSC)。
    • 3. 发明公开
    • 반도체 제조 장치의 가스 분류 공급 장치
    • 用于半导体生产设备的气体分流供应装置
    • KR1020140098840A
    • 2014-08-08
    • KR1020147018214
    • 2012-10-17
    • 가부시키가이샤 후지킨
    • 니시노코우지도히료우스케이케다노부카즈히라타카오루모리사키카즈유키
    • G05D7/06G05D11/03
    • G05D7/0641G05D7/0664Y10T137/2544G05D7/06
    • 압력식 유량 제어부(1a)를 형성하는 컨트롤 밸브(3)와, 컨트롤 밸브(3)의 하류측에 연통되는 가스 공급 주관(8)과, 컨트롤 밸브(3) 하류측의 가스 공급 주관(8)에 설치한 오리피스(6)와, 가스 공급 주관(8)의 하류측에 병렬 형상으로 접속된 복수의 분기 관로(9a, 9n)와, 각 분기 관로(9a, 9n)에 개재 설치한 분기 관로 개폐 밸브(10a, 10n)와, 압력 센서(5)와, 각 분기 관로(9a, 9n)의 출구측에 형성한 분류 가스 출구(11a, 11n)와, 연산 유량값과 설정 유량값의 차가 감소하는 방향으로 상기 컨트롤 밸브(3)를 개폐 작동시키는 제어 신호(Pd)를 밸브 구동부(3a)에 출력하고 분기 관로 개폐 밸브(10a, 10n)에 각 분기 관로 개폐 밸브(10a, 10n)를 각각 일정 시간만 순차 개방한 후 이것을 폐쇄하는 개폐 제어 신호(Od1, Odn)를 출력하는 연산 제어부(7)를 구비하고, 압력식 유량 제어부(1a)에 의해 오리피스(6)를 유통하는 프로세스 가스의 유량 제어를 행함과 아울러, 분기 관로 개폐 밸브(10a, 10n)의 개폐에 의해 프로세스 가스를 분류 공급하는 반도체 제조 장치의 가스 분류 공급 장치.
    • 一种用于半导体制造设备的气体支流供给装置。 算术和控制单元7连续打开相应的分支管道通道开/关阀10a,10n预定时间,然后关闭阀门,气体分支流供应装置对通过孔口分配的处理气体进行流量控制 并且通过打开和关闭分支管道通道打开/关闭阀10a,10n来分流和供给处理气体。
    • 5. 发明公开
    • 스로틀 디바이스
    • 节流装置
    • KR1020130111407A
    • 2013-10-10
    • KR1020130033549
    • 2013-03-28
    • 발케-뒤르 게엠베하
    • 클리칭,비르거텔겐,토마스스토크피시,베른하르트세프린,플로리안호프만,클라우스
    • F22B37/74F22D7/00F22D7/12
    • G05D7/0652F22B37/228F22B37/74F22D7/12G05D7/0664Y10T137/87877
    • PURPOSE: A throttle device is provided to enable the pressure of a plurality of parallel pipe rows to be changed. CONSTITUTION: A throttle device includes fluid collectors (10) and a control element (20). The fluid collector includes a fluid inlet (11) and a plurality of fluid outlets (12). The control element is mounted in an inner chamber of the fluid collector to be partially displaced and includes a plurality of orifices (21, 22). The orifices and the outlets are arranged on the control element so that the cross sections of a plurality of fluid connecting routes between the inner chamber of the fluid collector and the outlets of the fluid collectors can be changed by the relative movement of the control element. The control element is a sleeve, and the orifices are arranged on the sleeve to be corresponded to the outlets of the fluid collectors. A seal is provided between the fluid collectors so that the fluid connection between the orifices of the sleeve is not generate in a region between the inner surface (13) covering the inner chamber of the fluid collector and the outer surface (24) of the sleeve.
    • 目的:提供一种节流装置,以使得可以改变多个平行管排的压力。 构成:节流装置包括流体收集器(10)和控制元件(20)。 流体收集器包括流体入口(11)和多个流体出口(12)。 所述控制元件安装在所述流体收集器的内部腔室中,以被部分地移位并且包括多个孔口(21,22)。 孔口和出口布置在控制元件上,使得可以通过控制元件的相对运动来改变流体收集器的内腔和流体收集器的出口之间的多个流体连接路径的横截面。 控制元件是套筒,并且孔口布置在套筒上以对应于流体收集器的出口。 在流体收集器之间设置有密封件,使得在覆盖流体收集器的内部腔室的内表面(13)与套管的外表面(24)之间的区域内不会产生套管的孔口之间的流体连接 。
    • 6. 发明公开
    • 반도체 제조 가스 유량 분할기 시스템 및 방법
    • 半导体制造气体分流器系统和方法
    • KR1020070011342A
    • 2007-01-24
    • KR1020067020209
    • 2005-02-01
    • 엠케이에스 인스트루먼츠 인코포레이티드
    • 샤지이알리나가르카티시드하르쓰
    • H01L21/02
    • G05D7/0664C23C16/45561C23C16/52Y10T137/0363Y10T137/2524
    • A system for dividing a single flow into two or more secondary flows of desired ratios, including an inlet adapted to receive the single flow, at least two secondary flow lines connected to the inlet, an input device adapted to receive at least one desired ratio of flow, at least one in-situ process monitor providing measurements of products produced by each of the flows lines, and a controller connected to the input device and the in-situ process monitor. The controller is programmed to receive the desired ratio of flow through the input device, receive the product measurements from the in-situ process monitor, and calculate a corrected ratio of flow based upon the desired ratio of flow and the product measurements. If the product measurements are not equal, then the corrected ratio of flow will be different than the desired ratio of flow. ® KIPO & WIPO 2007
    • 一种用于将单个流分成两个或更多个期望比例的二次流的系统,包括适于接收单个流的入口,连接到入口的至少两个二次流线,适于接收至少一个期望比例的输入装置 至少一个原位过程监视器,其提供由每个流水线产生的产品的测量值,以及连接到输入设备和原位过程监控器的控制器。 控制器被编程为接收通过输入设备的期望流量比,从原位过程监控器接收产品测量值,并且基于所需的流量比和产品测量值来计算校正的流量比。 如果产品测量值不相等,则校正后的流量比将不同于所需的流量比。 ®KIPO&WIPO 2007