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1. 发明公开

KR1020140088789A 광학 필름 검사 장치 审中-实审
标题翻译：光学检测装置
公开(公告)号：KR1020140088789A
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：KR1020130000732
申请日：2013-01-03
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 홍승균 , 배성준 , 박재현
IPC分类号： G01N21/958 , G01M11/00
CPC分类号： G01N21/958 , G01N21/8422 , G01N2201/061 , G01N2201/121
摘要： The present invention relates to an optical film inspection device and, more specifically, to an optical film inspection device including: a light quantity measurement unit having a light source to emit light to an optical film and a photographing device to photograph the optical film; a control unit to calculate light quantity calibration data by comparing light quantity data received from the light quantity measurement unit with a normal state, and to transmit the light quantity calibration data to a light quantity adjustment unit; and a light quantity adjustment unit to adjust the light quantity of the light source in accordance with the light quantity calibration data received from the control unit. The quantity of light can be measured in real-time and a user is capable of applying an appropriate amount of light to the inspection device when the occasion requires.
摘要翻译：本发明涉及一种光学膜检查装置，更具体地说，涉及一种光学膜检查装置，包括：光量测量单元，具有向光学膜发射光的光源和拍摄装置以拍摄光学膜; 控制单元，通过将从光量测量单元接收的光量数据与正常状态进行比较来计算光量校准数据，并将光量校准数据发送到光量调节单元; 以及光量调节单元，用于根据从控制单元接收的光量校准数据来调节光源的光量。可以实时地测量光量，并且当需要时用户能够向检查装置施加适量的光。

2. 发明公开

KR1020160146913A 공초점 라인 검사 광학 시스템 审中-实审
标题翻译：协同线检测光学系统
公开(公告)号：KR1020160146913A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：KR1020167032599
申请日：2015-04-22
申请人： 케이엘에이-텐코 코포레이션
发明人： 왕마크에스 , 커크크리스 , 카리소브안드레이
IPC分类号： G01N21/88 , H01L21/66 , G01N21/95 , G02B21/00 , G02B21/36
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N2201/068 , G01N2201/10 , G01N2201/121 , G02B21/0028 , G02B21/0032 , G02B21/0072 , G02B21/365 , H01L22/12
摘要： 라인스캔웨이퍼검사시스템은, 사이드로브를제거하고스캐닝방향을따른해상도를향상시키기위해서, 공초점슬릿애퍼처필터를포함한다. 슬릿애퍼처필터와연관된위치검출기가슬릿애퍼처에대한조사라인이미지위치를모니터링하고교정하여이미지위치변동을용인가능한한계내에서유지한다. 각각의검출기는라인위치를측정하고, 이어서피드백루프에서수집경로내의광학적, 기계적, 및전자적부품들을조정하기위해서라인위치신호를이용한다. 피드백루프를실행시간보정프로세스에서또는검사중에이용하여안정성을향상시킬수 있다.
摘要翻译：线扫描晶片检查系统包括共焦狭缝孔径滤光器以去除旁瓣并增强扫描方向上的分辨率。与狭缝孔径滤波器相关联的位置检测器监测和校正相对于狭缝孔径的照明线图像位置，以将图像位置变化保持在可容许的极限内。每个检测器测量线路位置，然后使用线路位置信号在反馈回路中调整收集路径中的光学，机械和电子部件。反馈回路可用于运行时校准过程或检查期间以增强稳定性。

3. 发明公开

KR1020150114465A 열기관에서 유체를 분석하기 위한 온보드 디바이스 및 방법 审中-实审
标题翻译：用于分析热发动机中的流体的ONBOARD装置和方法
公开(公告)号：KR1020150114465A
公开(公告)日：2015-10-12
申请号：KR1020157017680
申请日：2013-12-04
申请人： 에스 뻬 트루와 아쉬
发明人： 오베르띠,실벵 , 푸르넬,조앙
IPC分类号： G01N21/3577 , G01N21/27 , G01N21/31
CPC分类号： G01N21/3577 , G01N21/274 , G01N21/3504 , G01N2021/3181 , G01N2201/062 , G01N2201/0624 , G01N2201/121 , G01N2201/1211 , G01N2201/124 , G01N2201/1242 , G01N2201/1247 , G01N2201/127 , G01N2201/12723
摘要： 본발명은제품을분석하기위한분광기를제어하기위한방법에관한것이며, 상기방법은광원(LS)의작동을나타내는측정치(LFL, TPL, Ix, Vx)를획득하는단계, 작동측정치에의존하여, 광원의공급전류(LCx)의값, 및/또는광원에의해방사된광빔(LB)의루트상에배치되고분석될제품과상호작용한, 센서(OPS)의광검출기(y)들의적분시간(ITy)의값을결정하고, 적분시간및/또는공급전류값이임계값들사이에있으면, 결정된공급전류값에대응하는공급전류를상기광원에공급하는단계, 결정된적분시간값으로광검출기의적분시간값을조정하는단계, 센서에의해공급된광 세기측정치(MSy)를획득하여, 스펙트럼이형성되는것을가능하게하는단계를포함한다.

4. 发明公开

KR1020140040222A 광학 스펙트럼의 반사 왜곡을 보상하는 위상 정정 审中-实审
标题翻译：补偿光学光谱的反射失真的相位校正
公开(公告)号：KR1020140040222A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：KR1020147000921
申请日：2012-06-25
申请人： 노스이스턴 유니버시티
发明人： 디엠맥스 , 버드벤자민 , 밀코빅밀로스
IPC分类号： G06F19/00
CPC分类号： G01N21/255 , G01J3/28 , G01N21/1702 , G01N21/31 , G01N21/35 , G01N21/3563 , G01N21/65 , G01N2201/10 , G01N2201/121
摘要： 광학 스펙트럼의 반사 왜곡을 정정하는 프로세스 및 방법이 본 명세서에서 개시된다. 부가적으로, 반사 왜곡을 보상하는 분광 시스템이 개시된다.

5. 发明公开

KR1020170043821A 자동 초점 조정 장치 및 반도체 소자의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：自动调焦装置及半导体装置的制造方法
公开(公告)号：KR1020170043821A
公开(公告)日：2017-04-24
申请号：KR1020150143372
申请日：2015-10-14
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김광수 , 세키야하루타카 , 김영덕 , 박성원 , 신헌주 , 윤광준 , 전병환
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/683 , H01L21/677
CPC分类号： G01B11/002 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2201/121 , H01L21/681
摘要： 본발명의일 실시예에의한자동초점조정장치는웨이퍼의피검사표면으로부터반사된반사광을수광하여수광신호를생성하는광 검출부, 상기수광신호를이용하여, 자동초점조정의실행여부를결정하는구동신호를생성하는제어부, 상기구동신호를인가받아, 초점오차보정신호를발생시키는초점오차보정부, 및상기웨이퍼를지지하는웨이퍼스테이지를이동시키며, 상기초점오차보정신호에의하여상기웨이퍼스테이지의 z방향위치를조정하는스테이지구동부를포함한다. 상기구동신호는온(on) 신호및 오프(off) 신호를포함하며, 상기오프신호는상기웨이퍼스테이지의 z방향위치를홀드(hold)시키는것을특징으로한다.
摘要翻译：根据本发明实施例的自动调焦装置包括：光检测单元，其接收从晶片的待检查表面反射的反射光并产生光接收信号; 接收驱动信号以生成聚焦误差校正信号的聚焦误差校正单元以及支撑晶片的晶片台，并且使晶片台在z方向上移动以及用于调整位置的舞台驱动单元。其中驱动信号包括开启信号和关闭信号，并且关闭信号保持晶片台的z方向上的位置。

6. 发明公开

KR1020160081669A 반응 장치, 검사 장치 및 검사 방법 审中-实审
标题翻译：反应装置，测试装置和测试装置的控制方法
公开(公告)号：KR1020160081669A
公开(公告)日：2016-07-08
申请号：KR1020140195897
申请日：2014-12-31
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김귀현 , 박상범 , 박주희
IPC分类号： G01N33/573 , G01N21/17 , G01N35/08
CPC分类号： G01N21/77 , B01L3/5027 , B01L2200/0684 , B01L2300/0803 , B01L2300/0816 , B01L2300/0864 , B01L2300/0887 , B01L2400/0406 , B01L2400/0409 , G01N21/78 , G01N35/00069 , G01N35/00623 , G01N2021/7773 , G01N2021/7783 , G01N2035/00346 , G01N2035/00851 , G01N2201/121 , G01N33/573 , C12Y207/0104 , C12Y302/01 , G01N21/17 , G01N35/08
摘要： 표적물질의농도를추정하는데있어서, 시료에포함된물질이방해물질로작용하는경우에, 이방해물질의농도를측정하여표적물질의추정농도를보정함으로써표적물질농도의신뢰성과정확성을향상시키는반응장치, 검사장치및 검사방법을제공한다. 일실시예에따른반응장치는, 표적물질에의해활성화되는제1물질을포함하는시약 1이수용된표적물질검출챔버; 상기표적물질을포함하는시약 2가수용된제1물질검출챔버; 시료가주입되는시료주입구; 및상기시료주입구와상기표적물질검출챔버및 상기제1물질검출챔버를연결하는채널;을포함한다.
摘要翻译：本发明提供一种反应器，试验装置和试验方法，用于通过测定干扰物质的浓度来提高目标物质的浓度的可靠性和准确性，如果试样中含有的物质作为干扰物质，则在估计目标物质的浓度和校正干扰物质的估计浓度。根据一个实施方案的反应器包括：目标物质检测室，其填充有包含被靶物质激活的第一物质的试剂1; 第一物质检测室，填充有含有目标物质的试剂2; 样品入口，其中插入样品; 以及连接样本入口，目标物质检测室和第一物质检测室的通道。

7. 发明公开

KR1020150074624A 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법 审中-实审
标题翻译：光学检测装置和补偿检测错误的方法
公开(公告)号：KR1020150074624A
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：KR1020130162577
申请日：2013-12-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 여영배 , 장현수
IPC分类号： G01N21/31 , G01N33/49
CPC分类号： G01N21/59 , G01N21/75 , G01N2201/0612 , G01N2201/0621 , G01N2201/0696 , G01N2201/105 , G01N2201/121 , G01N2201/127
摘要： 광학검출장치및 측정오차의보정방법이개시된다. 개시된광학검출장치는시료카트리지의검출챔버들을스캔하여측정하는장치로서, 검출챔버들에광들을조사하는광원들을구비한광원부; 및검출챔버들에조사된광들을검출하는광검출기;를포함하며, 광원들은검출챔버들의검체를측정하는데사용되는주파장광원들과, 측정오차를보정하는데사용되는데사용되는부파장광원을포함하며, 주파장광원들과부파장광원은검출챔버들을스캔하는스캔라인과평행한라인을따라배열된다.
摘要翻译：公开了一种用于补偿测量误差容限的光学检测装置和方法。所公开的光学检测装置是用于扫描和测量样本盒的检测室的装置，包括：光源部分，包括用于用光照射检测室的光源; 以及用于检测照射到检测室的光的光检测器。光源包括用于测量检测室的样本的主波长光源和用于补偿测量误差的亚波长光源，并且主波长光源和亚波长光源沿着与用于扫描检测室的扫描线平行的线。

8. 发明授权

KR101444259B1 기판 검사 시의 보상 매트릭스 생성방법 有权
标题翻译：在电路板检查期间生成补偿矩阵的方法
公开(公告)号：KR101444259B1
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：KR1020130109907
申请日：2013-09-12
申请人： 주식회사 고영테크놀러지
发明人： 유희욱 , 최종진 , 정승원
IPC分类号： H05K13/08
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/956 , G01N21/95607 , G01N21/95684 , G01N2021/8896 , G01N2021/95638 , G01N2201/121 , G06T5/006 , G06T2207/20076 , G06T2207/30141
摘要： The present invention relates to a method for generating a compensation matrix in a process of circuit board inspection. The method comprises: a step of selecting an arbitrarily predetermined number, N1 (N1>=2), of feature object information within a FOV of substrate; a step of generating a first compensation matrix based on the feature object information extracted from the substrate; a step of comparing an offset value of each of all the feature objects with the predetermined reference value by applying all the feature objects within the FOV to the compensation matrix, and counting the number of feature objects of which offset value of the each feature object within the feature objects is no greater than the predetermined reference value; and a step of repetitively performing the above mentioned steps N2 (N2>=1) times, and generating a second compensation matrix using information of feature objects that have an offset value which is no greater than the predetermined reference value, in case the number of the counted feature objects is the maximum.
摘要翻译：本发明涉及在电路板检查过程中产生补偿矩阵的方法。该方法包括：在基板的FOV内选择特征对象信息的任意预定数量N1（N1> = 2）的步骤; 基于从所述基板提取的特征对象信息生成第一补偿矩阵的步骤; 通过将FOV内的所有特征对象应用于补偿矩阵，将所有特征对象中的每一个的偏移值与预定的参考值进行比较，并对其中每个特征对象的偏移值进行计数的步骤; 特征对象不大于预定的参考值; 以及重复执行上述步骤N2（N2> = 1）次的步骤，并且使用具有不大于预定参考值的偏移值的特征对象的信息来生成第二补偿矩阵，计数的要素对象是最大值。

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