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1. 发明授权

KR101834609B1 변성 중합체 및 그의 수소 부가물의 제조 방법 有权
标题翻译：生产改性聚合物和加氢的方法
公开(公告)号：KR101834609B1
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：KR1020147014892
申请日：2012-11-12
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 우에바,겐타로 , 오타,사다타카 , 사쿠라,요시로
IPC分类号： C08F6/06 , C08F8/04 , C08F12/04 , C08F36/04
CPC分类号： C08F236/10 , B01D11/0426 , C08C1/12 , C08C19/25 , C08F2/06 , C08F6/04 , C08F6/06 , C08F6/10 , C08F8/42 , C08J11/02 , C08F8/04 , C08F297/04 , C08L53/02
摘要： 본발명은중합을저해하는성분을제거하고, 잔부를중합용매로서재이용할수 있는변성중합체또는그의수소부가물의제조방법을제공한다. 중합용매로서이용하는탄화수소계용매하에서, 공액디엔및 방향족비닐화합물의적어도한쪽을단량체로하고, 활성유기금속을중합개시제로하여중합하여얻어지고, 주쇄및 측쇄중 적어도한쪽에관능기를갖는변성중합체, 또는그의수소부가물의제조방법이다. 또한, (a) 중합용매에변성중합체또는수소첨가물이용해되어있는반응용액을, 탄화수소계용매를함유하는용매분과변성중합체등을함유하는고형분으로분리하는탈용매공정, (b) 용매분을증류시키고, 탄화수소계용매및 실라놀화합물을함유하는경비분을분리하는경비분분리공정, 및 (c) 경비분과추출제를이용하는액-액추출에의해, 경비분으로부터실라놀화합물의적어도일부를제거하는실라놀제거공정을순차적으로구비한다. 또한, 액-액추출에의해실라놀화합물이제거된추출잔액의적어도일부를중합용매로서재이용한다.
摘要翻译：本发明提供了一种制备改性聚合物或其氢加合物的方法，由此可以除去聚合抑制组分，其余部分可以用作聚合溶剂。下的活性有机金属引发剂，聚合，改性聚合物在主链中的至少一个和侧链，或具有官能团所获得的总和用作聚合溶剂，共轭二烯和芳族乙烯基化合物的至少一种单体的烃系溶剂，和是一种生产氢加合物的方法。此外，（a）该反应溶液用于改性聚合物或在聚合溶剂中的氢化产物，除去溶剂过程用于分离含有溶剂分钟的固体组分和含改性聚合物的烃系溶剂，（b）和蒸馏溶剂分钟，基于烃的溶剂和硅烷醇化合物，和（c）使用气载分馏剂从所述废组分中除去至少一部分硅烷醇化合物的液 - 液萃取并按顺序去除Knol。此外，将通过液 - 液萃取除去硅烷醇化合物的萃取残渣的至少一部分用作聚合溶剂。

2. 发明授权

KR101747012B1 중합체의 제조 방법 有权
标题翻译：生产聚合物的方法
公开(公告)号：KR101747012B1
公开(公告)日：2017-06-14
申请号：KR1020157016235
申请日：2014-01-08
申请人： 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤
发明人： 아라키,요시후미 , 사사야,에이지 , 스즈키,다쿠야
IPC分类号： C08F6/06 , C08F36/04 , C08F297/04 , C08F2/06 , C08L9/00
CPC分类号： C08F236/10 , C08C2/00 , C08C19/02 , C08F6/06 , C08F36/04 , C08F297/04 , C08L9/00 , C08F2/06
摘要： 탄화수소용매중, 유기리튬화합물을중합개시제로하고, 적어도공액디엔단량체를중합시켜, 중합체를얻는중합공정과, 상기중합공정후, 하기 (1) 내지 (4)의공정: (1) 상기중합체를포함하는용액 100질량부에대해, 산과, 20 내지 300질량부의물을혼합하는공정 (2) 상기중합체를포함하는용액 100질량부에대해물을 10질량부이하로하는공정 (3) 상기중합체를포함하는용액에탄산가스및/또는탈탄산하는화합물을첨가하는공정 (4) 상기중합체를포함하는용액을중합체의농도가 95질량% 이상으로될 때까지탈용매하는공정을, 순차행하는중합체의제조방법.
摘要翻译：（1）至（4）：（1）在有机锂化合物作为聚合引发剂的存在下，在烃溶剂中使至少共轭二烯单体聚合以获得聚合物的步骤;以及（2）相对于100质量份含有聚合物的溶液，制备10质量份或更少的水的步骤，（3）将聚合物与100质量份聚合物混合的步骤（4）使含有聚合物的溶液脱溶解直到聚合物浓度达到95质量％以上的步骤，以及（4）方式。

3. 发明授权

KR100979871B1 ＡｒＦ 엑시머 레이저 레지스트용 중합체 용액의 제조 방법 有权
标题翻译：制备用于ArF准分子激光抗蚀剂的聚合物溶液的方法
公开(公告)号：KR100979871B1
公开(公告)日：2010-09-02
申请号：KR1020077028166
申请日：2003-03-14
申请人： 주식회사 다이셀
发明人： 와따나베,히또시 , 하야미즈,히데따까 , 기시무라,마사아끼
IPC分类号： C08F6/16 , C08F20/28 , C08F6/00
CPC分类号： C08F220/18 , C08F6/00 , C08F6/02 , C08F6/06 , G03F7/0397
摘要： 본 발명의 포토레지스트용 고분자 화합물의 제조법은, 락톤 골격을 포함하는 단량체 (a), 산에 의해 이탈하여 알칼리 가용성이 되는 기를 포함하는 단량체 (b), 및 히드록실기를 갖는 지환식 골격을 포함하는 단량체 (c)로부터 선택된 1종 이상의 단량체에 대응하는 반복 단위를 갖는 포토레지스트용 고분자 화합물을 제조하는 방법으로서, (i) 상기 단량체 (a), (b) 및 (c)로부터 선택된 1종 이상의 단량체를 포함하는 단량체 혼합물을 중합하는 중합 공정 (A) 다음에, 이 중합에 의해 생성한 중합체에, 유기 용매와 물을 사용한 추출 조작을 행하여, 생성한 중합체를 유기 용매층으로, 불순물로서의 금속 성분을 수층으로 분배하는 추출 공정 (B)를 포함하거나, 또는 금속 함유량이 100 중량 ppb 이하인 생성한 중합체 용액을, 양이온 교환기를 갖는 다공질 폴리올레핀막으로 구성된 필터에 통액시키는 공정 (I)를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이 방법에 따르면, 금속 등의 불순물 함유량이 적은 포토레지스트용 고분자 화합물을 얻을 수 있다.
ArF 엑시머 레이저 레지스트용 중합체 용액, 락톤 골격, 알칼리 가용성, 양이온 교환기, 폴리올레핀막

4. 发明公开

KR1020020016554A 폴리(ｐ－ｔ－부톡시스티렌)의 제조 방법 无效
标题翻译：生产聚（对 - 叔丁氧基苯乙烯）的方法
公开(公告)号：KR1020020016554A
公开(公告)日：2002-03-04
申请号：KR1020010050951
申请日：2001-08-23
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 오카하시다카노리 , 다케시마히로하루 , 이토세이고
IPC分类号： C08F112/14
CPC分类号： C08F6/06 , C08L25/00
摘要： PURPOSE: To improve the liquid-separability between a hydrocarbon reactive solvent layer containing poly(p-t-butoxystyrene) and an aqueous layer after a polymerization reaction stop in the production of poly(p-t-butoxystyrene) by the polymerization of p-t-butoxystyrene in the presence of a hydrocarbon reactive solvent and a polymerization initiator. CONSTITUTION: When the solvent layer and the aqueous layer are subjected to a liquid separation, a polar solvent of 1-50 pts.wt. is present with respect to the solvent layer of 100 pts.wt.
摘要翻译：目的：通过在聚（对丁氧基苯乙烯）生产聚合反应停止聚苯乙烯聚合反应溶剂层与含水聚合反应性溶剂层之间的液相分离性，的烃反应性溶剂和聚合引发剂。构成：当溶剂层和水层进行液体分离时，极性溶剂为1-50重量份相对于100重量份的溶剂层存在

5. 发明公开

KR1020150042234A 비닐 락탐 중합체의 수용액 및 그 분말의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：生产乙烯基乳酸聚合物及其粉末的水溶液的方法
公开(公告)号：KR1020150042234A
公开(公告)日：2015-04-20
申请号：KR1020157005794
申请日：2013-07-30
申请人： 바스프 에스이
发明人： 필게스울리히 , 포트촐리베른트데 , 볼프안디
IPC分类号： C08F6/06 , C08F6/10 , C08F6/16 , C08F26/10 , C08L39/06 , A61M1/16 , A61K8/49
CPC分类号： C08F6/06 , C08F6/10 , C08F6/16 , C08L39/06 , A61K8/49 , A61M1/16 , C08F26/10
摘要： 본발명은비닐락탐중합체, 특히폴리비닐피롤리돈의수용액및 건조에의해그로부터수득가능한고체의제조방법에관한것이다. 상기방법은이산화황, 아황산및 하나이상의아황산염으로이루어진군으로부터선택되는하나이상의황 성분을사용해잔류단량체를감소시키는것을특징으로한다. 본발명은또한상기방법을사용해수득될수 있고양호한저장안정성을갖는비닐락탐중합체, 및그의용도, 이들비닐락탐중합체를포함하거나, 또는상기를사용해제조된제품및 제제에관한것이다.

6. 发明公开

KR1020120116929A 폴리아크릴산 수용액의 제조 방법 有权
标题翻译：生产水性聚丙烯酸溶液的方法
公开(公告)号：KR1020120116929A
公开(公告)日：2012-10-23
申请号：KR1020127014220
申请日：2010-11-02
申请人： 바스프 에스이
发明人： 클라이너,마티아스 , 로트,볼프강 , 브라임,마르쿠스 , 귀틀리히-하우크,엘케 , 우르텔,볼레테 , 비르셈,루트 , 데테링,위르겐
IPC分类号： C08F6/00 , C08F20/06 , C08L33/08 , B01J19/00 , C08F6/06 , C08F6/10
CPC分类号： C08F6/06 , B01J19/0093 , B01J2219/00006 , B01J2219/00033 , B01J2219/00783 , B01J2219/00858 , B01J2219/00873 , B01J2219/00889 , C08F2/01 , C08F2/10 , C08F6/003 , C08F6/10 , C08F20/06 , C08L33/02 , C08F6/00 , B01J19/00 , C08F2/16 , C08L33/08
摘要： 본 발명은 수성 매질에서 적어도 하나의 수용성 개시제 및 적어도 하나의 수용성 조절제의 존재 하에 아크릴산 및 임의로 수용성 모노에틸렌 불포화 공단량체를 라디칼 중합시켜 아크릴산의 단독중합체 또는 공중합체 수용액을 제조하는 방법이며, 여기서 중합은 연속식 방법에 의해 수행되고 중합 후 생성된 중합체 수용액으로부터 저분자량 성분을 적어도 부분적으로 제거하는 방법에 관한 것이다. 바람직하게는, 마이크로구조화된 혼합기 및 반응기가 중합에 이용된다. 바람직하게는, 마이크로구조를 갖는 적어도 하나의 반응기 및/또는 혼합기가 이 방법에 이용된다.

7. 发明公开

KR1020110106882A 포토레지스트용 수지 용액의 제조 방법, 포토레지스트 조성물 및 패턴 형성 방법 无效
标题翻译：用于制造光刻胶，光刻胶组合物的树脂溶液的方法和图案形成方法
公开(公告)号：KR1020110106882A
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：KR1020117016465
申请日：2009-01-15
申请人： 주식회사 다이셀
发明人： 에구찌,아끼라 , 니시무라,마사미찌
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/26 , C08F6/06
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/16 , C08F6/06 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/26
摘要： Disclosed is a method for producing a resin solution for photoresists, which includes the steps of heating and thereby aging a solution at 30° C. to 90° C. for 30 minutes or longer, the solution containing, in a solvent, a photoresist resin capable of being alkali-soluble by the action of an acid; and filtering the aged solution through a filter medium having a pore size of 1 μm or less. The method gives a photoresist composition having good filterability which enables uniform patterning. The method also gives a resin solution for photoresists which is stable over a long time, namely, a resin solution for photoresists which maintains good filterability even after long-term storage.

8. 发明授权

KR100702376B1 레지스트용 미정제 수지의 정제 방법 有权
标题翻译：精炼酚醛树脂的方法
公开(公告)号：KR100702376B1
公开(公告)日：2007-04-02
申请号：KR1020057014347
申请日：2004-01-29
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 하다히데오 , 이와이다케시 , 미야이리미와 , 무로이마사아키 , 아츠치고타 , 도미다히로아키
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/28
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F6/06 , C08F6/12
摘要： 레지스트용 미정제 수지 중에 포함되는 중합체나 소중합체 등의 부생물을 효과적으로 제거할 수 있는 레지스트용 미정제 수지의 정제 방법이 제공된다. 이 방법은, 적어도 레지스트용 수지 (A) 및 산발생제 (B)를 유기 용매 (C1)에 용해하여 이루어지는 포토레지스트 조성물에 사용하는 성분 (A)의 미정제 수지를 정제하는 방법으로서, 포토레지스트 조성물 중의 성분 (A)의 농도를 X 로 하고, 또한 성분 (A)의 미정제 수지를 유기 용매 (C2)에 용해하여 이루어지는 용액에서의 미정제 수지 농도를 Y 로 하였을 때, (i) Y 는 X 보다 작아지도록 미정제 수지 용액을 제조하고, 이어서 (ii) 미정제 수지 용액을 여과하는 것을 포함한다.

9. 发明授权

KR1019940006447B1 에틸렌/알파올레핀 공중합체의 정제방법 失效
标题翻译：纯化乙烯/α-烯烃共聚物的方法
公开(公告)号：KR1019940006447B1
公开(公告)日：1994-07-20
申请号：KR1019860007761
申请日：1986-09-16
申请人： 유니로열케미칼컴페니인코퍼레이티드.
发明人： 월터누덴베르그 , 에드워드알.그랜드보이스 , 자밀에이.칸 , 로버트에이.야츠
IPC分类号： C08F6/08
CPC分类号： C08F6/06 , C08F6/00 , C08F210/16 , C08F4/68
摘要： 내용 없음.

10. 发明公开

KR20180067567A 블록 공중합체, 분산제 및 안료 분산 조성물 审中-公开
公开(公告)号：KR20180067567A
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：KR20187012560
申请日：2017-10-26
申请人： OTSUKA CHEMICAL CO LTD
发明人： SHIMIZU TATSUHIKO , UMEMOTO HIKARU
IPC分类号： C08F293/00 , C08F6/06 , C08F8/00 , C09D17/00
CPC分类号： C08F6/06 , C08F8/00 , C08F293/00 , C09D17/00
摘要： [과제] 분산제로서이용할수 있고, 우수한내열성을갖는블록공중합체를제공한다. [해결수단] 블록공중합체는, 산성기를갖는비닐모노머에유래하는구조단위를포함하는 A 블록과, 하기일반식 (1)로표시되는구조단위및 하기일반식 (2)로표시되는구조단위를포함하는 B 블록을갖는것을특징으로한다.[식 (1), (2)에있어서, R, R, R, R및 R는, 각각독립적으로치환기를갖고있어도되는쇄상혹은환상탄화수소기를나타낸다. R, R및 R중 2개이상이서로결합하여환상구조를형성하고있어도된다. R및 R가서로결합하여환상구조를형성하고있어도된다. X및 X는 2가의연결기를나타낸다. R및 R은수소원자또는메틸기를나타낸다. Y은방향족디카르복시산이미드음이온, 방향족술폰산음이온, 방향족포스폰산음이온및 방향족카르복시산음이온으로이루어지는군에서선택되는적어도 1종을나타낸다.]

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