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    • 8. 发明授权
    • 화학증폭형 레지스트 조성물
    • 化学抑制组合物
    • KR101416244B1
    • 2014-07-07
    • KR1020080020522
    • 2008-03-05
    • 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
    • 야마구치사토시다카타요시유키야마모토사토시
    • G03F7/004
    • C07C381/12C07C309/06C07C309/17C07C2603/74C07D307/20C07D307/77C07D309/10C07D333/46G03F7/0045G03F7/0397
    • 본 발명은 (A) 화학식 1의 염, (B) 화학식 2의 염 및 (C) 산 불안정 그룹을 갖는 구조 단위를 함유하고 그 자체로는 알칼리 수용액에 불용성이거나 난용성이지만 산의 작용에 의해 알칼리 수용액에서 가용성으로 되는 수지를 포함하는 화학증폭형 레지스트 조성물을 제공한다.
      화학식 1

      상기 화학식 1에서,
      Q
      1 은 C1-C8 퍼플루오로알킬 그룹이고,
      A
      + 는 화학식 1a의 양이온, 화학식 1b의 양이온 및 화학식 1c의 양이온으로부터 선택된 하나 이상의 유기 양이온이다.
      화학식 1a

      상기 화학식 1a에서,
      p
      1 , p
      2 및 P
      3 은 각각 독립적으로 하이드록실 그룹, C3-C12 사이클릭 탄화수소 그룹 및 C1-C12 알콕시 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 그룹으로 치환될 수 있는 C1-C30 알킬 그룹이거나, 하이드록실 그룹 및 C1-C12 알콕시 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 그룹으로 치환될 수 있는 C3-C30 사이클릭 탄화수소 그룹이다.
      화학식 1b

      상기 화학식 1b에서,
      P
      4 및 P
      5 는 각각 독립적으로 수소원자, 하이드록실 그룹, C1-C12 알킬 그룹 또는 C1-C12 알콕시 그룹이다.
      화학식 1c

      상기 화학식 1c에서,
      p
      10 , p
      11 , p
      12 , p
      13 , p
      14 , p
      15 , p
      16 , p
      17 , p
      18 , p
      19 , p
      20 및 p
      21 은 각각 독립적으로 수소원자, 하이드록실 그룹, C1-C12 알킬 그룹 또는 C1-C12 알콕시 그룹이고,
      B는 황원자 또는 산소원자이며,
      m은 O 또는 1이다.
      화학식 2

      상기 화학식 2에서,
      R
      22 는 치환될 수 있는 C1-C30 탄화수소 그룹이고, 탄화수소 그룹 중의 하나 이상의 -CH
      2 -는 -CO- 또는 -O-로 치환될 수 있으며,
      Q
      3 및 Q
      4 는 각각 독립적으로 불소원자 또는 C1-C6 퍼플루오로알킬 그룹이고,
      A'
      + 는 화학식 2a의 유기 양이온이다.
      화학식 2a

      상기 화학식 2a에서,
      P
      6 및 P
      7 은 각각 독립적으로 C1-C12 알킬 그룹 또는 C3-C12 사이클로알킬 그룹이거나, P
      6 및 P
      7 은 결합하여, 인접 S
      + 와 함께 환을 형성하는 C3-C12 2가 어사이클릭(acyclic) 탄화수소 그룹을 형성하고, 상기 2가 어사이클릭 탄화수소 그룹 중의 하나 이상의 -CH
      2 -는 -CO-, -O- 또는 -S-로 치환될 수 있고,
      P
      8 은 수소원자이고,
      P
      9 는 치환될 수 있는, C1-C12 알킬 그룹, C3-C12 사이클로알킬 그룹 또는 방향족 그룹이거나, P
      8 및 P
      9 는 결합하여, 인접 -CHCO-와 함께 2-옥소사이클로알킬 그룹을 형성하는 2가 어사이클릭 탄화수소 그룹을 형성하고, 상기 2가 어사이클릭 탄화수소 그룹 중의 하나 이상의 -CH
      2 -는 -CO-, -0- 또는 -S-로 치환될 수 있다.
      화학증폭형 레지스트 조성물, 염, 수지, 산 불안정 그룹을 갖는 구조 단위, 해상도, 라인 엣지 조도.