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热词
    • 3. 发明公开
    • 리프트 탭의 표면 영역의 평활화 방법과, 리프트 탭과,헤드 짐발 조립체 및 데이터 저장 장치
    • 用于磁盘驱动器的装载/卸载提升板
    • KR1020010108405A
    • 2001-12-07
    • KR1020017012244
    • 2000-04-13
    • 에이취지에스티 네덜란드 비.브이.
    • 알브레히트토마스로버트코즈로브스키윌리엄조셉싱구린더팔석마이크
    • G11B5/54
    • B23K26/0075G11B21/12G11B21/22
    • 본발명은로드/언로드형의데이터저장하드드라이브용리프트탭(20) 및상기리프트탭을평활화하는방법에관한것이다. 상기방법은리프트탭의얇은표면층을용융시키기위해짧은지속시간(예를들면, 10ns 내지 500ns)의에너지펄스를리프트탭에가하는단계를포함한다. 용융층은표면장력하에서유동하여융기부(bumps) 및스크래치를평활화한다. 용융층은빠르게재응고되어매우평활한용융및 재응고스폿을형성한다. 바람직하게, 용융및 재응고스폿은 0.2 미크론내지 10 미크론의깊이를갖는다. 보다바람직하게, 용융및 재응고스폿은 1.0 미크론내지 3.0 미크론범위의두께를갖는다. 리프트탭(20)은다수의용융및 재응고스폿을가질수 있다. 용융및 재응고스폿의크기는레이저와같은에너지원으로이용가능한전력에의해실제적으로제한된다. 바람직하게, 용융및 재응고스폿은적어도수십미크론의직경을갖는다. 본발명은용융및 재응고스폿을구비하는리프트탭을포함한다. 또한, 본발명은용융및 재응고스폿을갖는리프트탭(20)을구비하는하드드라이브및 헤드짐발조립체를포함한다.
    • 用于加载/卸载类型的数据存储硬盘驱动器的升降卡和一个平滑升降卡的方法。 该方法包括以短持续时间(例如10-500纳秒)的能量脉冲击打提升翼片以熔化提升翼片的薄表面层的步骤。 熔融层在表面张力下流动,平滑突起和划痕。 熔融层迅速重新熔化,形成了非常光滑的熔化和冷却点。 优选地,熔融和重新冷冻的斑点是0.2-10微米深。 更优选地,熔融和重新熔化的斑点在1.0至3.0微米厚的范围内。 电梯标签可以有大量熔化和重新焊接的点。 熔化和重新熔化的斑点的大小实际上受到诸如激光等能量的能量的限制。 优选地,熔融和再次冷冻的斑点直径至少几十微米。 本发明包括具有熔融和重新冷冻点的升降片。 此外,本发明还包括头部万向节组件和具有熔融和重新冷冻点的升降片的硬盘驱动器。
    • 6. 发明公开
    • 레이저 빔에 의하여 감열성 유전 물체를 미세하게연마/구성하는 방법
    • 激光束精细抛光/结构化耐热介电材料的方法
    • KR1020080003900A
    • 2008-01-08
    • KR1020077026841
    • 2006-03-21
    • 포슝스베르분드 베를린 에.베.
    • 에렌트라우트,루츠헤르텔,잉골프로젠펠트,아카디
    • B23K26/364B23K26/00
    • B23K26/0075B23K26/0624
    • The invention relates to a method for finely polishing/structuring thermosensitive dielectric materials, in particular materials exhibiting a low thermal expansion coefficient, by a laser beam consisting in directing an intensive ultrashort laser beam to a processable material surface, in adjusting the action time within a range from 10-13 s to 10-11 s and a laser pulse energy in such a way that it is less than an ablation threshold but sufficient for provoking a Coulomb explosion. The inventive method makes it possible to carry out a material removal within a nanometer range by means of laser ultrashort pulses ranging between picoseconds and subpicoseconds, wherein the material surface is finely polished during a pre-ablation process step (removal less than the ablation range) and the processable surface is low-heated (approximately up to 10°C, only) due to the extremely shot laser beam action time.
    • 本发明涉及通过激光束精细研磨/构造热敏介电材料的方法,特别是表现出低热膨胀系数的材料,该激光束将强化的超短激光束引导到可加工的材料表面, 范围为10-13s至10-11s,激光脉冲能量小于消融阈值,但足以引发库仑爆炸。 本发明的方法使得可以通过在皮秒和亚皮秒之间的激光超短脉冲在纳米范围内进行材料去除,其中材料表面在预消融处理步骤(去除小于消融范围)内被精细抛光, 并且由于极度激光的激光束作用时间,可加工表面被低热(仅高达10℃)。