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1. 发明公开

KR1020010102968A 시클릭 화합물 无效
标题翻译：环状化合物
公开(公告)号：KR1020010102968A
公开(公告)日：2001-11-17
申请号：KR1020017008512
申请日：2000-01-06
申请人： 후지사와 야꾸힝 고교 가부시키가이샤
发明人： 다니구치기요시 , 네야마사히로 , 테라사와다케시 , 야마자키히토시 , 사토겐타로 , 호소이구미 , 도미시마야스요 , 요시다노리코 , 이마무라요시마사 , 다카스기히사시 , 세토이히로유키
IPC分类号： C07D409/14
CPC分类号： C07D333/48 , C07D335/02 , C07D339/08 , C07D409/04 , C07D409/12 , C07D409/14
摘要： 매트릭스메탈로프로테이나제(MMP) 또는종양괴사인자α(TNF α)의억제제로서유용한, 다음화학식 I의화합물또는그의염: [화학식 I] 상기식에서, R은저급알킬, 할로겐, 임의로치환된헤테로시클릭그룹또는임의로치환된아릴이며, R는카복시, 보호된카복시또는아미드화된카복시이며, Ar은임의로치환된아릴또는임의로치환된헤테로시클릭그룹이고, A는저급알킬렌이며, X는옥사또는단일결합이고, Y는티아, 설피닐또는설포닐이며, Z는메틸렌, 티아, 설피닐또는설포닐이며, m 및 n은각각 0 내지 6의정수이고, 1≤m+n≤6이다.
摘要翻译：式（I）化合物，其中R 1是低级烷基，卤素，任选取代的杂环基或任选取代的芳基，R 2是羧基，保护的羧基或酰胺基羧基，Ar是任选取代的芳基或任选取代的杂环基团，A是低级亚烷基，X是氧杂或单键，Y是硫杂，亚磺酰基或磺酰基，Z是亚甲基，硫杂，亚磺酰基或磺酰基，m和n各自是0-6的整数， m + n = 6或其盐，其可用作基质金属蛋白酶（MMP）或肿瘤坏死因子α（TNFα）的抑制剂。

2. 发明公开

KR1019940023875A 신규한 벤즈아미드 유도체, 그의 제조방법 및 이를 함유하는 약제학적 조성물 失效
标题翻译：新型苯甲酰胺衍生物，其制备方法和含有它们的药物组合物
公开(公告)号：KR1019940023875A
公开(公告)日：1994-11-17
申请号：KR1019940007553
申请日：1994-04-11
申请人： 후지사와 야꾸힝 고교 가부시키가이샤
发明人： 세토이히로유키 , 오카와다케히코 , 젠코다추야 , 헤미게이지 , 다나카히로카즈
IPC分类号： C07D215/16

3. 发明公开

KR1019990022448A 벤즈아미드 유도체 및 바소프레신 길항제로서의 그의 용도 无效
标题翻译：苯甲酰胺衍生物及其作为加压素拮抗剂的用途
公开(公告)号：KR1019990022448A
公开(公告)日：1999-03-25
申请号：KR1019970708929
申请日：1996-06-06
申请人： 후지사와 야꾸힝 고교 가부시키가이샤
发明人： 세토이히로유키 , 오카와다케히코 , 젠코다추야 , 사와다히토시 , 사토겐타로 , 다나카히로카주
IPC分类号： C07C237/42 , A61K31/165 , C07C271/16 , C07D295/18
摘要： 본 발명은 바소프레신 길항황성을 가진 하기 화학식(I)의 신규 벤즈아미드 유도체 및 약제학적으로 허용되는 그의 염. 그의 제조방법 및 그들을 함유하는 약제학적 조성물에 관한 것이다.

상기 식에서,
R
1 은 저급 알콕시에 의해 임의로 치환된 아릴 등이며,
R
2 는 저급 알킬 등이고,
R
3 은 수소 등이며,
R
4 는 저급 알콕시 등이고,
R
5 는 수소 등이며,
A는 NH등 이고,
E는 등이며,
X는 -CH=CH-, -CH=N- 또는 S이며,
Y는 CH 또는 N이다.

4. 发明授权

KR100290112B1 신규한 벤즈아미드 유도체, 그의 제조방법 및 이를 함유하는 약제학적 조성물 失效
公开(公告)号：KR100290112B1
公开(公告)日：2001-05-15
申请号：KR1019940007553
申请日：1994-04-11
申请人： 후지사와 야꾸힝 고교 가부시키가이샤
发明人： 세토이히로유키 , 오카와다케히코 , 젠코다추야 , 헤미게이지 , 다나카히로카즈
IPC分类号： C07D215/16
摘要： 본 발명은 약제로서 유용한 다음 일반식(I)의 신규한 벤즈아미드 유도체 및 그의 약제학적으로 허용되는 염에 관한 것이다.

상기식에서,
R
1 은 수소 또는 저급 알킬이고,
R
2 는 수소, 저급 알킬, 할로(저급)알킬, 할로겐 또는 저급 알콕시이며,
R
3 및 R
4 는 각각 수소 또는 저급 알킬이거나, 함께는 옥소를 형성하고,
R
5 는 수소, 할로겐, 니트로, 하이드록시, 보호된 하이드록시, 저급 알킬, 또는 저급 알킬아미노에 의해 임의로 치환된 저급 알콕시이며,
R
6 은 수소, 저급 알킬 또는 아실이고,
A는 또는 이며,
여기에서,
R
7 은 수소; 할로겐, 아미노, 저급 알킬아미노, 보호된 아미노, 아실, 헤테로사이클릭 그룹, 하이드록시 또는 보호된 하이드록시에 의해 임의로 치환된 저급 알킬; 또는 아실이고,
R
8 및 R
9 는 각각 수소이거나, 함께는 옥소 또는 티옥소를 형성하거나,
R
7 및 R
8 은 함께 결합을 형성하며,
R
9 는 저급 알킬아미노, N-저급 알킬피페라지닐 또는 저급 알킬아미노에 의해 임의로 치환된 저급 알킬티오이고,
R
10 은 수소이며,
R
11 은 수소, 하이드록시, 저급 알킬아미노, 또는 아실에 의해 임의로 치환된 저급 알킬이거나,
R
10 및 R
11 은 함께 옥소, 또는 아실에 의해 임의로 치환된 저급 알콕시이미노를 형성하고,
R
12 는 아실에 의해 임의로 치환된 저급 알킬이며,
R
13 은 저급 알킬이고,
X
1 은 CH 또는 N 이며,
X
2 는 CH 또는 N 이고,
Y는 또는 이며
여기에서,
R
14 는 수소, 할로겐, 하이드록시 또는 저급 알콕시이고,
R
15 는 아릴옥시, 나프틸 또는 저급 알킬, 저급 알콕시, 할로겐, 할로(저급)알킬, 하이드록시, 아미노(저급)알킬, 아지도(저급)알킬, 저급 알킬아미노(저급)알킬, 아실아미노(저급)알킬, 하이드록시(저급)알킬, 시아노 및 아실로 구성된 그룹중에서 선택된 치환체(들)에 의해 치환된 페닐, 또는 헤테로사이클릭 그룹이며,
R
16 은 아릴이고,
n은 0, 1, 2 또는 3 이다.

5. 发明公开

KR1019930016423A 헤테로 사이클릭 유도체 无效
标题翻译：杂环衍生物
公开(公告)号：KR1019930016423A
公开(公告)日：1993-08-26
申请号：KR1019930000938
申请日：1993-01-26
申请人： 후지사와 야꾸힝 고교 가부시키가이샤
发明人： 오쿠테루오 , 세토이히로유키 , 가야키리히로시 , 사토오시게키 , 이노우에다카유키 , 사와다유키 , 구로다아키오 , 다나카히로가쭈
IPC分类号： C07D471/04
摘要： 본 발명은 하기 일반식(Ⅰ)의 신규한 이미다졸 유도체 및 그의 약제학적으로 허용되는 염에 관한 것이다.

상기 식에서 R
1 , R
2 , R
3 , R
4 , R
5 , R
6 , R
7 , R
8 , A, Q, X, Y 및 Z는 명세서에서 정의한 바와 같다.
본 발명은 또한 상기 일반식(Ⅰ) 화합물의 제조방법, 이를 함유하는 약제학적 조성물, 및 이 화합물(Ⅰ)의 약제로서의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 화합물(Ⅰ)은 안지오텐신 길항작용 등과 같은 유용한 약리학적 작용을 갖는다.

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