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2. 发明公开

KR1020070068815A 반도체 및 디스플레이 공정용 초고순도 아산화질소를제조하는 방법 有权
标题翻译：用于半导体和显示器行业的超氧化氮氧化物的制造方法
公开(公告)号：KR1020070068815A
公开(公告)日：2007-07-02
申请号：KR1020050130836
申请日：2005-12-27
申请人： 호서대학교 산학협력단
发明人： 이택홍
IPC分类号： C01B21/22
CPC分类号： C01B21/22 , C01P2006/80
摘要： A new method that can produce high purity NO2, a method of producing nitrous oxide with a ultra-high purity of 99.999% or more, and a production method of nitrous oxide that can be mass-produced by a simple process are provided. A production method of ultra-pure nitrous oxide by thermal decomposition comprises: a step of thermally decomposing ammonium nitrate in a reactor; a step of filtering impurities from the thermal decomposition product by water-showering and adsorption to produce nitrous oxide with a low purity of 88 to 99%; a refining step of condensing the low purity nitrous oxide in a distillation column to produce nitrous oxide with a purity of 99.999% or more; and a step of packing the ultra-pure nitrous oxide. The production method further comprises the step of adsorbing water with a high boiling point and carbon dioxide onto the nitrous oxide by passing the nitrous oxide through a molecular sieve before injecting the nitrous oxide into the distillation column in the refining step.
摘要翻译：提供了可以生产高纯度NO2的新方法，一种生产超高纯度为99.999％以上的一氧化二氮的方法，以及通过简单的方法大量生产的一氧化二氮的生产方法。通过热分解制备超纯一氧化二氮的方法包括：在反应器中热分解硝酸铵的步骤; 通过水洗和吸附来从热分解产物中过滤杂质以产生低至88％至99％的一氧化二氮的步骤; 在蒸馏塔中冷凝低纯度一氧化二氮以制备纯度为99.999％以上的一氧化二氮的精炼步骤; 以及包装超纯一氧化二氮的步骤。该制造方法还包括通过在精炼步骤中将一氧化二氮注入到蒸馏塔中之前使一氧化二氮通过分子筛，将高沸点和二氧化碳的水吸附到一氧化二氮上的步骤。

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