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1. 发明公开

KR1019950018001A 신규한 퀴놀론계 유도체 및 그의 제조 방법 无效
公开(公告)号：KR1019950018001A
公开(公告)日：1995-07-22
申请号：KR1019930026941
申请日：1993-12-08
申请人： 한국화학연구원 , 스미스크라인 비참 리미티드
发明人： 박태호 , 이태석 , 김문환 , 박준규 , 하재두 , 채기병 , 권장혁 , 남근수 , 김봉진 , 네일피어슨 , 김완주
IPC分类号： C07D471/04
摘要： 본 발명은 다음 일반식(I)로 표시되는 퀴놀론계 유도체와 약제학적으로 허용가능한 그의 산 부가염에 관한 것이다.

윗 식에서, R
1 은 탄소 원자수가 1-3인 사슬형 또는 고리형 저급알킬기, 할로겐이 치환된 탄소원자수가 1-3인 사슬형 또는 고리형 저급알킬기, 페닐기 또는 1-2개의 할로겐이 치환된 페닐기이고; R
2 는 수소 원자, 저급알킬기 또는 아미노기이며; R
3 는 할로겐 원자 또는 치환되거나 치환되지 않은, 헤테로 원자로 고리내에 적어도 1개의 질소 원자를 포함하는 헤테로 고리 화합물로서 다음의 일반식(A):

(윗 식에서 R
6 ,R
7 ,R
8 및 R
9 는 각각 수소 원자이거나 저급 알킬기이며, 이들 중 둘은 서로 결합을 형성할 수 있고, m 및 n은 0 내지 1이며 Ca-Cb는 결합을 형성하지 않거나 단일 결합 또는 이중 결합을 나타낸다.)로 표시되거나, 또는 다음의 일반식(B):

(윗 식에서, R
10 은 수소 원자이거나, 또는 메틸, 에틸 또는 부톡시카르보닐 같은 저급알킬기 또는 아미노보호기이고, R
11 ,R
12 ,R
13 및 R
14 은 같거나 다르며, 각각 수소, 또는 아미노기, 히드록시기 또는 할로겐으로 임의 치환된, 메틸 또는 에틸과 같은 저급알킬기이다.)로 표시되며; X는 질소 원자 또는 CR
4 (여기서 R
4 는 수소원자, 할로겐원자, 저급알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타낸다.)를 나타내며; R
4 와 R
1 은 함께 고리를 형성하여 -CH
2 CH
2 CH
2 -,-CH
2 CH
2 CH(CH
3 )-,OCH
2 CH
2 ,-OCH
2 CH(CH
3 )-,-SCH
2 CH
2 - 또는 -SCH
2 CH(CH
3 )-일 수 있으며; Y는 산성 프로톤[p＜α＜14]을 갖는 5 내지 7원의 카르복실 또는 헤테로시클릭 고리의 잔기이다.
본 발명은 또한 상기 일반식(I)의 화합물의 유효성분으로 함유하는 항균제에 관한 것이다.

2. 发明公开

KR1019950018000A 신규한 퀴놀론계 유도체 및 그의 제조 방법 无效
公开(公告)号：KR1019950018000A
公开(公告)日：1995-07-22
申请号：KR1019930026940
申请日：1993-12-08
申请人： 한국화학연구원 , 스미스크라인 비참 리미티드
发明人： 박태호 , 이태석 , 김문환 , 박준규 , 하재두 , 채기병 , 권장혁 , 남근수 , 김봉진 , 네일피어슨 , 김완주
IPC分类号： C07D471/04
摘要： 본 발명은 다음 일반식 (I)로 표시되는 퀴놀론계 유도체와 약제학적으로 허용가능한 그의 산 부가염에 관한 것이다.

윗 식에서, R
1 은 탄소 원자수가 1-3인 사슬형 또는 고리형 저급알킬기, 할로겐이 치환된 탄소 원자수가 1-3인 사슬형 또는 고리형 저급알킬기, 페닐기 또는 1-2개의 할로겐이 치환된 페닐기이고; R
2 는 수소 원자, 저급알킬기 또는 아미노기이며; R
3 은 할로겐 원자 또는 치환되거나 치환되지 않은, 헤테로 원자로 고리내에 적어도 1개의 질소 원자를 포함하는 헤테로 고리 화합물로서 다음의 일반식(A)로 표시되고,

(윗 식에서 R
6 ,R
7 ,R
8 및 R
9 는 각각 수소 원자이거나 저급 알킬기이며, 이들 중 둘은 서로 결합을 형성할 수 있고, m 및 n은 0 내지 1이며 Ca-Cb는 결합을 형성하지 않거나 단일 결합 또는 이중 결합을 나타낸다.); X는 질소 원자 또는 CR
4 (여기서 R
4 는 수소 원자, 할로겐 원자, 저급알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타낸다.)를 나타내며; Y, Z는 이중 하나는 할로겐 또는 트리플루오로메틸이고 나머지 하나는 수소이거나, 또는 에스테르기, 시아노기, 니트로기, 불소 같은 할로겐, 트리플루오로메틸, 치환되거나 치환되지 않은 아미드기, 저급알킬슬폭시기 또는 저급알킬술포닐기 등의 전자끌게 기들을 나타낸다.
본 발명은 또한 상기 일반식(I)의 화합물을 유효성분으로 함유하는 항균제에 관한 것이다.

3. 发明公开

KR1019950018002A 신규한 퀴놀론계 유도체 및 그의 제조 방법 无效
公开(公告)号：KR1019950018002A
公开(公告)日：1995-07-22
申请号：KR1019930026942
申请日：1993-12-08
申请人： 한국화학연구원 , 스미스크라인 비참 리미티드
发明人： 박태호 , 박준규 , 김문환 , 이태석 , 채기병 , 김봉진 , 남근수 , 하재두 , 네일피어슨 , 김완주
IPC分类号： C07D471/04
摘要： 본 발명은 다음 일반식(I)로 표시되는 퀴놀론계 유도체와 약제학적으로 허용가능한 그의 산 부가염에 관한 것이다.

윗 식에서, R
1 은 탄소 원자수가 1-3인 사슬형 또는 고리형 저급알킬기, 할로겐이 치환된 탄소원자수가 1-3인 사슬형 또는 고리형 저급알킬기, 페닐기 또는 1-2개의 할로겐이 치환된 페닐기이고; R
2 는 수소 원자, 저급알킬기 또는 아미노기이며; R
3 는 할로겐 원자 또는 치환되거나 치환되지 않은, 헤테로 원자로 고리내에 적어도 1개의 질소 원자를 포함하는 헤테로 고리 화합물로서 다음의 일반식(A):

(윗 식에서 R
6 ,R
7 ,R
8 및 R
9 는 각각 수소 원자이거나 저급 알킬기이며, 이들 중 둘은 서로 결합을 형성할 수 있고, m 및 n은 0 내지 1이며 Ca-Cb는 결합을 형성하지 않거나 단일 결합 또는 이중 결합을 나타낸다.)로 표시되거나, 또는 다음의 일반식(B):

(윗 식에서, R
10 은 수소 원자이거나, 또는 메틸, 에틸 또는 부톡시카르보닐 같은 저급알킬기 또는 아미노보호기이고, R
11 ,R
12 ,R
13 및 R
14 은 같거나 다르며, 각각 수소, 또는 아미노기, 히드록시기 또는 할로겐으로 임의 치환된, 메틸 또는 에틸과 같은 저급알킬기이다.)로 표시되며; X는 질소 원자 또는 CR
4 (여기서 R
4 는 수소원자, 할로겐원자, 저급알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타낸다.)를 나타내며; R
4 와 R
1 은 함께 고리를 형성하여 -CH
2 CH
2 CH
2 -,-CH
2 CH
2 CH(CH
3 )-,OCH
2 CH
2 ,-OCH
2 CH(CH
3 )-,-SCH
2 CH
2 - 또는 -SCH
2 CH(CH
3 )-일 수 있으며; Y는 산성 프로톤[p＜α＜14]을 갖는 5 내지 7원의 카르복실 또는 헤테로시클릭 고리의 잔기이다.
본 발명은 또한 상기 일반식(I)의 화합물의 유효성분으로 함유하는 항균제에 관한 것이다.

4. 发明授权

KR101854114B1 금속불화물 적색 형광체 및 이를 이용한 발광소자 有权
公开(公告)号：KR101854114B1
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：KR1020160119738
申请日：2016-09-20
申请人： 한국화학연구원
发明人： 김창해 , 방보극 , 최강식 , 박준규 , 김민석 , 손기선
IPC分类号： C09K11/59 , C09K11/57 , H01L33/50 , H05B33/14
CPC分类号： C09K11/675 , C09K11/57 , C09K11/59 , C09K11/616 , C09K11/617 , C09K11/664 , C09K11/7734 , C09K11/7774 , H01L33/502 , H05B33/14
摘要： 본발명은자외선또는청색의여기원에의해여기되어적색계파장을발광하므로발광다이오드, 레이저다이오드, 면발광레이저다이오드, 무기일렉트로루미네센스소자, 유기일렉트로루미네센스소자와같은발광소자에유용하게적용되는, 신규조성의정방정계(tetragonal) 결정구조를가지는금속불화물적색형광체및 이형광체를발광소자로응용하는것에관한것이다.

5. 发明公开

KR1020010008870A 1,2,3,6-테트라하이드로피리딜벤즈아졸 유도체와 이의 제조방법 失效
标题翻译： 1,2,3,6-四氢吡啶并噻唑衍生物及其制备方法
公开(公告)号：KR1020010008870A
公开(公告)日：2001-02-05
申请号：KR1019990026909
申请日：1999-07-05
申请人： 한국화학연구원
发明人： 정명희 , 박준규 , 조귀웅 , 최승원 , 공재양
IPC分类号： C07D263/52
摘要： PURPOSE: The 1,2,3,6-tetrahydropyridylbenzazole derivatives and a producing method thereof are provided to develop medicines useful in treating athymia and in improving memory. CONSTITUTION: The 1,2,3,6-tetrahydropyridylbenzazole derivatives are represented by formula (1), in which, X is oxygen or sulfur, and R is hydrogen, halogen, nitro, lower alkyl having 1 to 4 carbon number or lower alkoxy having 1 to 4 carbon number. The production method thereof comprises the steps of: performing the condensation reaction by reacting 4-pyridinecarbox aldehyde of formula (2) with compounds of formula (3) to produce compounds of formula (4); performing cyclization reaction by reacting the compounds of formula (4) with iodobenzene diacetate(IBD) to produce compounds of formula (5); performing the methylation reaction by reacting the compounds of formula (5) and iodomethane(CH3Cl) to produce compounds of formula (6); and reducing the compounds of formula (6) to produce 1,2,3,6-tetrahydropyridylbenzazole derivatives.
摘要翻译：目的：提供1,2,3,6-四氢吡啶基吲唑衍生物及其制备方法，用于开发可用于治疗无胸腺和改善记忆力的药物。构成：1,2,3,6-四氢吡啶基吲唑衍生物由式（1）表示，其中X为氧或硫，R为氢，卤素，硝基，碳数为1至4的低级烷基或低级烷氧基具有1至4个碳数。其制备方法包括以下步骤：通过使式（2）的4-吡啶甲醛醛与式（3）的化合物反应制备式（4）的化合物进行缩合反应; 通过使式（4）的化合物与二乙酸碘苯（IBD）反应以制备式（5）的化合物进行环化反应; 通过使式（5）的化合物和碘甲烷（CH 3 Cl）反应以制备式（6）的化合物进行甲基化反应; 并还原式（6）的化合物以制备1,2,3,6-四氢吡啶基吲唑衍生物。

6. 发明授权

KR100208297B1 신규한 세펨 유도체의 제조방법 失效
标题翻译：生产新型头孢烯衍生物的方法
公开(公告)号：KR100208297B1
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：KR1019970013634
申请日：1997-04-14
申请人： 한국화학연구원
发明人： 정명희 , 박준규 , 조귀웅 , 오정숙
IPC分类号： C07D499/865
摘要： 본 발명은 세펨 유도체의 제조방법에 관한 것으로, 아미노티아졸 유도체를 벤조트리아졸 유도체와 염기하에서 반응시켜 아미노티아졸 활성형 유도체를 제조하고, 이 아미노티아졸 활성형 유도체를 염기 존재하에서 7-아미노세파로스포린산 유도체와 아실화 반응시키는 것을 특징으로 하는 세펨 유도체의 제조방법인 것이다.
본 발명의 신규한 세펨 유도체의 제조방법에 따라, 합성이 용이한 벤조트리아졸 유도체를 이용하여 아미노티아졸 유도체를 활성화시키고, 얻어진 활성화된 아미노티아졸 유도체와 7-아미노세파로스포린산 유도체 간의 아실화 반응을 유도하여 간단하게 세펨 유도체를 합성할 수 있다. 또한 제조된 아미노티아졸 활성형 유도체는 기존 세파계 화합물의 합성 및 신규 세파계 화합물 합성에 광범위하게 이용될 수 있고, 특히 경구용 세파계인 프로드러그 화합물 합성에도 유용하게 사용할 수 있다.

7. 发明公开

KR1019940014395A 신규한 퀴놀론 유도체 및 그의 제조 방법 无效
标题翻译：新型喹诺酮衍生物及其制备方法
公开(公告)号：KR1019940014395A
公开(公告)日：1994-07-18
申请号：KR1019930027072
申请日：1993-12-09
申请人： 한국화학연구원
发明人： 김완주 , 박태호 , 박준규 , 김문환 , 네일피어슨
IPC分类号： C07D471/04
摘要： 본 발명은 향균 스펙트럼이 넓고 향균활성이 우수한, 다음의 일반식(Ⅰ)로 표시되는 신규한 퀴놀론 유도체, 그의 광학 이성질체 및 그의 염과 그의 제조방법을 제공하는 것이다.

상기 식에서, A는 질소원자, 또는
로 표시되는 기로서, 여기서 Y는 수소원자, 불소원자 또는 염소원자 같은 할로겐, 저급알킬기 또는 메톡시기 같은 저급알콕시기이거나 혹은 R
1 과 함께 -CH
2 CH
2 CH
2 -, CH
2 CH
2 CH(CH
3 )-, -OCH
2 CH
2 -, -OCH
2 CH(CH
3 )-, SCH
2 CH
2 - 또는 -SCH
2 CH(CH
3 )-기를 형성하고; R
1 은 상기에서 정의한 바와 같거나 혹은 에틸기, 시클로프로필기 또는 2, 4-디플루오로페닐기 같은 탄소 원자수가 1-3인 사슬형 또는 고리형 저급알킬기, 할로겐이 치환된 탄소 원자수가 1-3인 사슬형 또는 고리형 저급알킬기, 페닐기 또는 1-2개 할로겐이 치환된 페닐기이며; R
2 및 R
3 는 같거나 다를수 있고, 각각 수소원자이거나, 또는 에스테르기, 시아노기, 니트로기, 불소 같은 할로겐, 트리플루오로메틸, 치환되거나 치환되지 않은 아실기, 치환되거나 치환되지 않은 아미드기, -PO(OR)
2 (여기서, R은 각각 C
1-6 알킬, C
2-6 알케닐, C
2-6 알키닐, 임의로 치환된 페닐, 페닐 C
1-4 알킬, C
3-6 시클로알킬 또는 C
3-6 시클로알킬 C
1-4 알킬이다.), 저급 알킬술폭시기 또는 저급 알킬 술포닐기 등의 전자끌게 기들을 나타내며; R
4 는 수소원자, 메틸기, 에틸기 또는 부톡시 카르보닐기 같은 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 또는 아미노 보호기이며; R
5 , R
6 , R
7 , 및 R
8 은 같거나 다를 수 있고, 각각 수소원자, 또는 메틸기 또는 에틸기 같은(아미노기, 히드록시기 또는 할로겐으로 임의로 치환된) 저급 알킬기이고; X는 수소원자, 불소원자 또는 염소원자 같은 할로겐, 아미노기 또는 메틸기 같은 저급 알킬기이다.

8. 发明授权

KR101790541B1 주석(Sn) 또는 비스무트(Bi)가 도핑 된 금속질화물 적색 형광체 및 이를 이용한 발광소자 有权
标题翻译：掺杂有锡（Sn）或铋（Bi）的金属氮化物红色荧光体和使用其的发光元件
公开(公告)号：KR101790541B1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：KR1020160014561
申请日：2016-02-05
申请人： 한국화학연구원
发明人： 김창해 , 방보극 , 박준규 , 공기정 , 장현주 , 임진오 , 장승훈 , 최강식
IPC分类号： C09K11/66 , H01L33/50 , H01L33/32
摘要： 본발명은자외선또는청색의여기원에의해여기되어적색계파장을발광하는, 주석(Sn) 또는비스무트(Bi)가도핑된 금속질화물적색형광체및 이형광체를발광소자로응용하는것에관한것이다. 본발명의금속질화물형광체는발광다이오드, 레이저다이오드, 면발광레이저다이오드, 무기일렉트로루미네센스소자, 유기일렉트로루미네센스소자와같은발광소자에유용하게적용될 수있다.
摘要翻译：本发明涉及施加到锡（Sn），或铋（Bi）的金属氮化物的红色荧光体，以及光通过发光元件壳体释放平，发射红光波长通过紫外线或蓝色的激发源激发。本发明的金属氮化物荧光体，可以有效地应用于发光元件，如发光二极管，激光二极管，表面发光激光二极管，无机电致发光元件，有机电致发光元件。

9. 发明公开

KR1020170093322A 주석(Sn) 또는 비스무트(Bi)가 도핑 된 금속질화물 적색 형광체 및 이를 이용한 발광소자 有权
公开(公告)号：KR1020170093322A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：KR1020160014561
申请日：2016-02-05
申请人： 한국화학연구원
发明人： 김창해 , 방보극 , 박준규 , 공기정 , 장현주 , 임진오 , 장승훈 , 최강식
IPC分类号： C09K11/66 , H01L33/50 , H01L33/32
摘要： 본발명은자외선또는청색의여기원에의해여기되어적색계파장을발광하는, 주석(Sn) 또는비스무트(Bi)가도핑된 금속질화물적색형광체및 이형광체를발광소자로응용하는것에관한것이다. 본발명의금속질화물형광체는발광다이오드, 레이저다이오드, 면발광레이저다이오드, 무기일렉트로루미네센스소자, 유기일렉트로루미네센스소자와같은발광소자에유용하게적용될 수있다.

10. 发明公开

KR1019980076782A 신규한 세펨 유도체의 제조방법 失效
公开(公告)号：KR1019980076782A
公开(公告)日：1998-11-16
申请号：KR1019970013634
申请日：1997-04-14
申请人： 한국화학연구원
发明人： 정명희 , 박준규 , 조귀웅 , 오정숙
IPC分类号： C07D499/865
摘要： 본 발명은 세펨 유도체의 제조방법에 관한 것으로, 아미노티아졸 유도체를 벤조트리아졸 유도체와 염기하에서 반응시켜 아미노티아졸 활성형 유도체를 제조하고, 이 아미노티아졸 활성형 유도체를 염기 존재하에서 7-아미노세파로스포린산 유도체와 아실화 반응시키는 것을 특징으로 하는 세펨 유도체의 제조방법인 것이다.
본 발명의 신규한 세펨 유도체의 제조방법에 따라, 합성이 용이한 벤조트리아졸 유도체를 이용하여 아미노티아졸 유도체를 활성화시키고, 얻어진 활성화된 아미노티아졸 유도체와 7-아미노세파로스포린산 유도체 간의 아실화 반응을 유도하여 간단하게 세펨 유도체를 합성할 수 있다. 또한 제조된 아미노티아졸 활성형 유도체는 기존 세파계 화합물의 합성 및 신규 세파계 화합물 합성에 광범위하게 이용될 수 있고, 특히 경구용 세파계인 프로드러그 화합물 합성에도 유동하게 사용할 수 있다.

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