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1. 发明公开

KR1020060126936A 시료 관찰 방법 및 현미경, 및 이것에 이용하는 고침 렌즈및 광학 밀착액 失效
标题翻译：样品观察方法和显微镜，以及其用途，固体镜片和光学接触液体
公开(公告)号：KR1020060126936A
公开(公告)日：2006-12-11
申请号：KR1020067005113
申请日：2004-10-28
申请人： 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
发明人： 아라타이쿠오 , 사카모토시게루 , 데라다히로토시
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/88
CPC分类号： G02B21/33 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/0342 , G02B21/0004
摘要： An optical contact liquid containing amphiphilic molecules is dropped on a semiconductor device as an inspection subject specimen (S104), and a solid immersion lens is disposed thereon (S105). Subsequently, the position of insertion of the solid immersion lens is regulated (S106), and the optical contact liquid is dried (S108) so as to effect optical contact of the solid immersion lens with the semiconductor device. As a result, there can be realized a specimen observation method, microscope, etc. wherein positioning to desired site of a specimen is facilitated and wherein optically secure contact of a solid immersion lens with the specimen can be accomplished.
摘要翻译：含有两亲性分子的光学接触液滴在作为检查对象试样的半导体装置上（S104），并且设置固体浸没透镜（S105）。随后，调整固体浸没透镜的插入位置（S106），并使光学接触液干燥（S108），以使固体浸没透镜与半导体器件发生光学接触。结果，可以实现样品观察方法，显微镜等，其中定位到样品的期望部位是容易的，并且其中可以实现固体浸没透镜与样品的光学上牢固的接触。

2. 发明公开

KR1020110089130A 광학 소자, 레이저광 발진 장치 및 레이저광 증폭 장치 无效
标题翻译：光学元件，激光束振荡器件和激光束放大器件
公开(公告)号：KR1020110089130A
公开(公告)日：2011-08-04
申请号：KR1020117010111
申请日：2009-09-14
申请人： 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
发明人： 야마모토고에이 , 가와다요이치 , 오이시신고 , 모리구치도시하루 , 사카모토시게루 , 이토하루야스 , 후지모토마사토시 , 다카하시히로노리 , 후쿠미츠겐시 , 시바야마가츠미 , 아오시마신이치로
IPC分类号： H01S3/10 , G02B5/04 , G02B5/18
CPC分类号： G02B17/004 , G02B27/0944 , G02B27/0977 , H01S3/005
摘要： 광학 소자(20A)는 광 투과성을 가지는 매질로 이루어지고, 공기의 굴절률보다 큰 굴절률을 가지고, 입사하는 레이저광을 벽면(20a)에서 복수 회 반사시키면서 내부를 전반시키는 광학 소자에 있어서, 벽면(20a)의 일부에 위치하여 레이저광을 입사시키기 위한 입사창(21)과, 벽면(20a)의 일부에 위치하여 내부를 전반한 레이저광을 출사시키기 위한 출사창(22)과, 매질의 일부에 일체적으로 위치하여 레이저광을 적어도 2회 투과 또는 반사시키는 것에 의해서 파장 분산을 보상하는 파장 분산 보상부(31, 32)를 구비한다.

3. 发明授权

KR101110468B1 시료 관찰 방법 및 현미경, 및 이것에 이용하는 고침 렌즈및 광학 밀착액 失效
标题翻译：样品观察方法和显微镜，以及其用途，固体镜片和光学接触液体
公开(公告)号：KR101110468B1
公开(公告)日：2012-01-31
申请号：KR1020067005113
申请日：2004-10-28
申请人： 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
发明人： 아라타이쿠오 , 사카모토시게루 , 데라다히로토시
IPC分类号： G01N21/95 , G01N21/88
CPC分类号： G02B21/33 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/0342 , G02B21/0004
摘要： 검사 대상의 시료가 되는 반도체 디바이스 상에 양친매성 분자를 함유하는 광학 밀착액을 적하하고 (S104), 그 위에 고침 렌즈를 설치한다 (S105). 이어서, 고침 렌즈의 삽입 위치를 조정하고 (S106), 이로부터 광학 밀착액을 건조시키고(S108), 고침 렌즈와 반도체 디바이스를 광학적으로 밀착시킨다. 이것에 의해, 시료의 목적 위치에 대한 위치화가 용이하고, 시료에 고침 렌즈를 광학적으로 확실히 밀착시킬 수 있는 시료 관찰 방법 및 현미경 등이 실현된다.

4. 发明公开

KR1020060132583A 현미경 및 시료 관찰 방법 有权
标题翻译：显微镜和样品观察方法
公开(公告)号：KR1020060132583A
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：KR1020067009422
申请日：2005-02-25
申请人： 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
发明人： 테라다히로토시 , 아라타이쿠오 , 토키와마사하루 , 다나베히로시 , 사카모토시게루
IPC分类号： G02B21/00
CPC分类号： G02B21/0016 , G02B21/33 , Y10S359/90
摘要： For a semiconductor device (S) to be observed, an image fetching part (1), an optical system (2) including an objective lens (20), and a solid immersion lens (SIL) (3), which can move between an inserting position including an optical axis from the semiconductor device (S) to the objective lens (20) and a waiting position out of the optical axis, are arranged. Observation is performed in two control modes. In a first mode, the SIL (3) is arranged at the waiting position, and a focal point and aberration are corrected, based on a refraction factor n0 and a thickness t0 of a substrate of the semiconductor device (S). In a second mode, the SIL (3) is arranged at the inserting position, and a focal point and aberration are corrected, based on the refraction factor n0 and the thickness t0 of the substrate and a refraction factor n1, a thickness d1 and a curvature radius R1 of the SIL (3). Thus, a microscope and a sample observing method are provided to easily perform necessary sample observation required for fine structure analysis of semiconductor devices.
摘要翻译：对于要观察的半导体器件（S），可以在图像拾取部分（1），包括物镜（20）的光学系统（2）和固体浸没透镜（SIL）（3））之间移动布置包括从半导体器件（S）到光学轴的光轴的插入位置和离开光轴的等待位置。以两种控制方式进行观察。在第一模式中，SIL（3）被布置在等待位置，并且基于半导体器件（S）的衬底的折射系数n0和厚度t0来校正焦点和像差。在第二模式中，SIL（3）布置在插入位置，并且基于折射系数n0和基板的厚度t0以及折射系数n1，厚度d1和厚度t1来校正焦点和像差 SIL（3）的曲率半径R1。因此，提供显微镜和样品观察方法以容易地进行对半导体器件的精细结构分析所需的必要的样品观察。

5. 发明公开

KR1020130045327A 광학소자 및 간섭계 无效
标题翻译：光学元件和干涉仪
公开(公告)号：KR1020130045327A
公开(公告)日：2013-05-03
申请号：KR1020137001023
申请日：2011-02-25
申请人： 시그마 코키 가부시키가이샤 , 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
发明人： 이노우에아사미 , 히라타카즈야 , 이토다이스케 , 하라구치코시 , 사카모토시게루
IPC分类号： G01B9/02 , G02B5/04
CPC分类号： G02B27/145 , G01B9/02 , G01B9/02051 , G01B9/02056 , G01B2290/70 , G02B5/04 , G02B27/283
摘要： 본 발명에서 광학소자(20)는 제1~제4의 삼각 프리즘(21, 22, 23, 24)의 각각의 꼭지각을 이루는 면들을 첩합시켜 구성되고, 제1 및 제 2의 삼각 프리즘의 양접합면(21a, 22b) 및, 제2 및 제3의 삼각 프리즘의 양접합면(22a, 23b) 및, 제3 및 제4의 삼각 프리즘의 양접합면(23a, 24b) 및, 제4 및 제1의 삼각 프리즘의 양접합면(24a, 21b)의 각각이 광학박막을 개재하여 접합되고, 각 광학박막은 입사광을 그 편광상태에 따라 투과 또는 반사하는 특성을 가진다. 광학소자(20)는 광학박막에서의 제1의 위치 P1에서 광로를 분할하고, 광학박막에서의 제2의 위치 P2에서 광로를 합성한다.

6. 发明授权

KR101184771B1 현미경 및 시료 관찰 방법 有权
标题翻译：显微镜和样品观察方法
公开(公告)号：KR101184771B1
公开(公告)日：2012-09-20
申请号：KR1020067009422
申请日：2005-02-25
申请人： 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
发明人： 테라다히로토시 , 아라타이쿠오 , 토키와마사하루 , 다나베히로시 , 사카모토시게루
IPC分类号： G02B21/00
CPC分类号： G02B21/0016 , G02B21/33 , Y10S359/90
摘要： 검사 대상의 반도체 디바이스(S)에 대하여, 화상 취득부(1)와, 대물렌즈(20)를 포함하는 광학계(2)와, 반도체 디바이스(S)로부터 대물렌즈(20)로의 광축을 포함하는 삽입 위치 및 광축을 벗어난 대기 위치 사이를 이동 가능한 고침(固浸) 렌즈(SIL: Solid Immersion Lens, 3)를 설치한다. 그리고, SIL(3)을 대기 위치에 배치하고, 반도체 디바이스(S)의 기판의 굴절률 n
0 및 두께 t
0 에 기초하여 초점 및 수차를 보정하는 제1 모드와, SIL(3)을 삽입 위치에 배치하고, 기판의 굴절률 n
0 , 두께 t
0 , SIL(3)의 굴절률 n
1 , 두께 d
1 및 곡률 반경 R
1 에 기초하여 초점 및 수차를 보정하는 제2 모드의 2개의 제어 모드로 관찰을 실시한다. 이에 의해, 반도체 디바이스의 미세 구조 해석 등에 필요한 시료의 관찰을 용이하게 실시할 수 있는 현미경 및 시료 관찰 방법을 얻을 수 있다.

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