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1. 发明授权

KR100677701B1 투영 광학계 失效
标题翻译：投影光学系统
公开(公告)号：KR100677701B1
公开(公告)日：2007-02-02
申请号：KR1020040027690
申请日：2004-04-22
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 사사키타카히로 , 스즈키마사유키
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0657 , G03F7/70275
摘要： 물체 면에 배치된 마스크의 패턴을 상 면에 배치된 기판 위에 투영하는 투영 광학계가 개시되어 있다. 상기 투영광학계는, 제 3반사면과 제 4반사면 사이에 상기 마스크 위에 형성된 패턴의 중간상을 형성하도록 배치된다. 상기 제 3반사면의 특별한 형상 또는 특별한 배치에 따라서, 전체 시스템의 크기를 확대하지 않고 고정밀도의 투영을 확보할 수 있다.

2. 发明公开

KR1020040092451A 투영 광학계 失效
标题翻译：具有形状的第三反射面的投影光学系统，曝光装置和装置的制备方法
公开(公告)号：KR1020040092451A
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：KR1020040027690
申请日：2004-04-22
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 사사키타카히로 , 스즈키마사유키
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0657 , G03F7/70275
摘要： PURPOSE: A projection optical system, an exposure apparatus and a preparation method of a device are provided, to allow projection to be carried out with a high precision without the expansion of the total system. CONSTITUTION: The projection optical system(100) comprises a first reflection surface(M1), a second reflection surface(M2), a third reflection surface(M3), a fourth reflection surface(M4), a fifth reflection surface(M5) and a sixth reflection surface(M6) in turn along the optical path from the side of a body to the upper side, and projects the pattern of a mask located on the surface of a body on the substrate(W) located on an image surface, wherein the third reflection surface has a convex shape, and the projection system forms an intermediate image of a pattern formed on the mask between the third reflection surface and the fourth reflection surface. Preferably the main ray reflected on the third reflection surface is reflected to the direction being apart from the optical axis(AX) along which the six reflection surfaces are located, with an angle of 12-70 degrees to the optical axis.
摘要翻译：目的：提供一种投影光学系统，曝光装置和装置的制备方法，以使得能够以高精度执行投影而不会使整个系统的扩展。构成：投影光学系统（100）包括第一反射面（M1），第二反射面（M2），第三反射面（M3），第四反射面（M4），第五反射面（M5）和第六反射面（M6）依次沿着从主体的侧面到上侧的光路移动，并且将位于图像表面上的基板（W）上的位于主体表面上的掩模的图案投影，其中所述第三反射表面具有凸形形状，并且所述投影系统形成在所述第三反射表面和所述第四反射表面之间的所述掩模上形成的图案的中间图像。优选地，在第三反射表面上反射的主射线被反射到与六个反射表面所在的光轴（AX）分开的方向，与光轴成12-70度的角度。

3. 发明公开

KR1020130006696A 반사굴절 광학계 및 촬상 장치 有权
标题翻译： CATADIOPTRIC系统和图像拾取装置
公开(公告)号：KR1020130006696A
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：KR1020127030187
申请日：2011-05-19
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 가타시바유지 , 가지야마가즈히코 , 스즈키마사유키
IPC分类号： G02B17/08 , G02B13/24 , G02B21/00 , G02B21/02
CPC分类号： G02B17/0808
摘要： 본 발명의 반사굴절 광학계는 물체로부터의 광속으로 중간 화상을 형성하는 제1 결상 광학계(반사굴절부), 및 중간 화상으로부터의 광속을 결상시키는 제2 결상 광학계(굴절부)를 포함한다. 제1 결상 광학계에 있어서, 광속은 순서대로, 제1 투과부, 제2 반사부, 제1 반사부, 및 제2 투과부를 통과한다. 제2 결상 광학계에 있어서, 개구 조리개와 화상면 사이에 배치된 복수의 렌즈면 중 연속하는 4개의 렌즈면은 네거티브 합성 굴절력을 갖고, 조건 를 충족시키고, φ
4n_
max 는 네거티브 합성 굴절력의 최대값을 나타내고, Y
max 는 물체에 있어서의 반사굴절 광학계의 시야 내의 최대 물체 높이를 나타낸다.

4. 发明授权

KR101387823B1 반사굴절 광학계 및 촬상 장치 有权
标题翻译： CATADIOPTRIC系统和图像拾取装置
公开(公告)号：KR101387823B1
公开(公告)日：2014-04-22
申请号：KR1020127030187
申请日：2011-05-19
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 가타시바유지 , 가지야마가즈히코 , 스즈키마사유키
IPC分类号： G02B17/08 , G02B13/24 , G02B21/00 , G02B21/02
CPC分类号： G02B17/0808
摘要： 본 발명의 반사굴절 광학계는 물체로부터의 광속으로 중간 화상을 형성하는 제1 결상 광학계(반사굴절부), 및 중간 화상으로부터의 광속을 결상시키는 제2 결상 광학계(굴절부)를 포함한다. 제1 결상 광학계에 있어서, 광속은 순서대로, 제1 투과부, 제2 반사부, 제1 반사부, 및 제2 투과부를 통과한다. 제2 결상 광학계에 있어서, 개구 조리개와 화상면 사이에 배치된 복수의 렌즈면 중 연속하는 4개의 렌즈면은 네거티브 합성 굴절력을 갖고, 조건 를 충족시키고, φ
4n_
max 는 네거티브 합성 굴절력의 최대값을 나타내고, Y
max 는 물체에 있어서의 반사굴절 광학계의 시야 내의 최대 물체 높이를 나타낸다.

5. 发明授权

KR100674044B1 노광장치 및 디바이스의 제조방법 失效
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR100674044B1
公开(公告)日：2007-01-25
申请号：KR1020040038089
申请日：2004-05-28
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 스즈키마사유키
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70258 , G03F9/7003
摘要： 노광장치는, 광원으로부터의 광에 의해 물체상에 형성된 패턴을 조명하는 조명광학계, 상기 조명광학계에 의해 조명된 패턴의 상을 기판위에 투영하고 미러를 포함한 투영 광학계 및 상기 패턴의 상의 위치 오프셋을 검출하는 검출계를 포함한다.

6. 发明公开

KR1020040103396A 노광장치 및 디바이스의 제조방법 失效
标题翻译：曝光装置，包括具有镜子和检测系统的投影光学系统，以及制造装置的方法
公开(公告)号：KR1020040103396A
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：KR1020040038089
申请日：2004-05-28
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 스즈키마사유키
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70258 , G03F9/7003
摘要： PURPOSE: Provided are an exposure apparatus that can expose an image of a desired shape(or pattern) at a desired magnification, and a method for manufacturing a device using the exposure apparatus. CONSTITUTION: The exposure apparatus includes an illumination optical system(20) for illuminating a pattern on an object by light supplied from a light source(10); a projection optical system(30) for projecting onto a substrate an image of the pattern illuminated by the illumination optical system(20), which comprises a mirror; and a detection system for detecting a positional offset of the image of pattern. The device is manufactured by employing the exposure apparatus, and specifically by the method comprising the steps of: applying resist onto a substrate; exposing a pattern on a mask onto the applied substrate with the exposure apparatus; and developing the exposed substrate.
摘要翻译：目的：提供一种可以以期望的放大倍数曝光所需形状（或图案）的图像的曝光装置，以及使用该曝光装置的装置的制造方法。构成：曝光装置包括：照明光学系统（20），用于通过从光源（10）提供的光照射物体上的图案; 投影光学系统（30），用于将由所述照明光学系统（20）照射的图案的图像投影到基板上，所述图像包括反射镜; 以及用于检测图案的图像的位置偏移的检测系统。通过使用曝光装置制造该装置，具体地，通过包括以下步骤的方法：将抗蚀剂涂覆在基板上; 用曝光装置将掩模上的图案曝光到所施加的基板上; 并显影曝光的基底。

7. 发明公开

KR1020040041055A 투영광학계, 노광 장치 및 디바이스의 제조방법 失效
标题翻译：投影光学系统，使用超紫外波，曝光装置和制造方法
公开(公告)号：KR1020040041055A
公开(公告)日：2004-05-13
申请号：KR1020030078593
申请日：2003-11-07
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 스즈키마사유키
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0657
摘要： PURPOSE: A projection optical system, an exposure device, and a manufacturing method are provided to use an extra-ultra violet wave having a wavelength greater than 10mm and smaller than 20mm to improve density of a micro-device. CONSTITUTION: A projection optical system performs reduction projection of a pattern of a reticle. The projection optical system includes the first mirror(M1) having a concave surface shape, the second mirror(M2) having a concave surface shape, the third mirror(M3) having a convex surface shape, the fourth(M4) mirror having a concave surface shape, the fifth mirror(M5) having a convex surface shape, and the sixth mirror(M6) having a concave surface shape. The first through sixth mirrors are disposed in alphabetical order along an optical path from the reticle side. Each of the six mirrors has a curvature radius having an absolute value not greater than 1500 mm. An aperture stop is disposed adjacent to the second mirror. The second mirror has a curvature radius having a largest absolute value.
摘要翻译：目的：提供投影光学系统，曝光装置和制造方法，以使用波长大于10mm且小于20mm的超紫外波，以提高微型装置的密度。构成：投影光学系统执行掩模版图案的缩小投影。投影光学系统包括具有凹面形状的第一反射镜（M1），第二反射镜（M2）具有凹面形状，第三反射镜（M3）具有凸面形状，第四（M4）反射镜具有凹面表面形状，具有凸面形状的第五镜（M5）和具有凹面形状的第六镜（M6）。第一至第六反射镜沿着从标线片侧的光路按字母顺序排列。六个反射镜中的每一个具有绝对值不大于1500mm的曲率半径。孔径光阑邻近第二反射镜设置。第二镜具有绝对值最大的曲率半径。

8. 发明授权

KR100918335B1 투영 노광 장치 有权
标题翻译：投影曝光装置
公开(公告)号：KR100918335B1
公开(公告)日：2009-09-22
申请号：KR1020077001660
申请日：2005-06-22
申请人： 가부시키가이샤 니콘 , 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 고마츠다히데키 , 다카하시도모와키 , 스즈키마사유키
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70233
摘要： 시야 영역 및 결상 영역이 광축으로부터 떨어져 위치하는 반사 광학계로서, 이미지면 상의 각 점에 도달하는 광속의 개구수가 이미지 높이나 방향에 관계없이 거의 균일한 투영 광학계. 투영 광학계의 개구수를 규정하기 위한 개구 조리개(AS)를 구비하고, 개구 조리개는, 소정 영역 내의 각 점에 도달하는 광속의 개구수를 소정 영역의 전체에 걸쳐 방향에 관계없이 거의 균일하게 하기 위한 소요 형상의 개구부를 갖는다. 개구부의 소요 형상은, 개구 조리개와 이미지면(W) 사이에 배치된 부분 광학계(M2∼M6)가 소망의 사영 관계를 만족하지 않는 것이 소정 영역 내의 각 점에 도달하는 광속의 개구수의 불균일성에 미치는 영향을 보상하도록 규정되어 있다.

9. 发明公开

KR1020070043979A 투영 노광 장치 有权
标题翻译：投影光学系统，曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：KR1020070043979A
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：KR1020077001660
申请日：2005-06-22
申请人： 가부시키가이샤 니콘 , 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 고마츠다히데키 , 다카하시도모와키 , 스즈키마사유키
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70233 , G02B17/02 , G03F7/70091
摘要： A projection optical system is a catoptric system in which a field of view region and an imaging region are located spaced from an optical axis, in which a numerical aperture of light reaching each point on an image plane is substantially uniform regardless of an image height and a direction. An aperture stop for defining the numerical aperture of the projection optical system is provided, and the aperture stop is provided with an aperture portion in a predetermined shape in which the numerical aperture of light reaching each point within a predetermined region is substantially over the predetermined region, that is, in a shape in which dimensions concerning two directions perpendicular to each other are different from each other. A predetermined shape of the aperture portion is defined so as to compensate for the effect of non-uniformity of the numerical aperture of light reaching each point within a predetermined region due to a partial optical system arranged between the aperture stop and an image plane not satisfying a desired projective relationship.

10. 发明授权

KR100544784B1 투영광학계, 노광 장치 및 디바이스의 제조방법 失效
标题翻译：投影光学系统，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR100544784B1
公开(公告)日：2006-01-23
申请号：KR1020030078593
申请日：2003-11-07
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 스즈키마사유키
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0657
摘要： 10mm 보다 크고 20mm보다 작은 파장을 가지는 극 자외선(EUV)으로 특별하게 이용되는 투영광학계를 개시한다. 상기 투영광학계는 물체 측으로부터 상측으로 향하는 순서로 순차적으로 반사하는 미러(mirror)를 6개 가지고 있으며, 또한 공축계를 형성하기 위해 배치되어 있는 투영광학계로서, 상기 각 6개의 미러는 곡률반경이 1500mm이하인 것을 특징으로 한다.

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