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1. 发明公开

KR1020000071528A 마이크로 구조체 어레이와, 마이크로 구조체 어레이, 마이크로 구조체 어레이용 금형, 및 마이크로 렌즈 어레이의 제작 방법 失效
标题翻译：微结构阵列的制造方法，以及微结构阵列，阵列模具的微结构，和微透镜阵列
公开(公告)号：KR1020000071528A
公开(公告)日：2000-11-25
申请号：KR1020000016818
申请日：2000-03-31
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 데시마다까유끼 , 야기다까유끼
IPC分类号： B81C1/00
CPC分类号： G02B3/0031 , G02B3/0012 , G02B3/0056
摘要： 마이크로구조의어레이를제작하기위한방법에있어서, 도전부를가진기판이제공되고, 도전부에절연마스크층이형성되고, 절연마스크층에다수의개구가형성되어도전부가노출되며, 전기/무전기도금(electro- or electroless-plating) 또는전착(electrodeposition)에의해, 제1 도금또는전착층이개구부및 절연마스크층에피착된다. 제1 도금또는전착층의적어도한 면은도전체로형성된다. 그다음에, 절연성마스크층이제거되고, 제1 도금또는전착층및 도전부위에제2 도금층이전착으로형성되어제1 도금또는전착층이기판에견고하게고정된다.

2. 发明授权

KR100403715B1 마이크로 구조체 어레이와, 마이크로 구조체 어레이, 마이크로 구조체 어레이용 금형, 및 마이크로 렌즈 어레이의 제작 방법 失效
标题翻译： 마이크로구체，，크로，，，，，및및및및및및및및및및및및및및및및및및및및법법법법법법법법법법법법
公开(公告)号：KR100403715B1
公开(公告)日：2003-11-01
申请号：KR1020000016818
申请日：2000-03-31
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 데시마다까유끼 , 야기다까유끼
IPC分类号： B81C1/00
CPC分类号： G02B3/0031 , G02B3/0012 , G02B3/0056
摘要： 마이크로 구조의 어레이를 제작하기 위한 방법에 있어서, 도전부를 가진 기판이 제공되고, 도전부에 절연 마스크층이 형성되고, 절연 마스크층에 다수의 개구가 형성되어 도전부가 노출되며, 전기/무전기 도금(electro- or electroless-plating) 또는 전착(electrodeposition)에 의해, 제1 도금 또는 전착층이 개구부 및 절연 마스크층에 피착된다. 제1 도금 또는 전착층의 적어도 한 면은 도전체로 형성된다. 그 다음에, 절연성 마스크층이 제거되고, 제1 도금 또는 전착층 및 도전부 위에 제2 도금층이 전착으로 형성되어 제1 도금 또는 전착층이 기판에 견고하게 고정된다.
摘要翻译：在用于制造微结构阵列的方法中，提供具有导电部分（2）的衬底（1），在衬底的导电部分上形成绝缘掩模层（3），多个在绝缘掩模层中形成开口（4）以暴露导电部分，并且通过电镀或无电镀或电沉积在开口中和绝缘掩模层上沉积第一电镀或电沉积层（5）。第一电镀或电沉积层（5）的至少一个表面被制成导电的。之后，去除绝缘掩模层（3），并且通过电镀在第一电镀或电沉积层上和导电部分上形成第二电镀层（6）以牢固地固定第一电镀或电沉积层（5 ）到衬底（1）。＆lt;图像＆GT;

3. 发明公开

KR1020000071524A 마이크로 구조체 어레이와, 마이크로 구조체 어레이 및마이크로 구조체 어레이 성형용 금형 그리고 마이크로렌즈 어레이의 제조 방법 失效
标题翻译：微结构阵列，用于模制微结构阵列和微结构阵列的模具以及用于制造微透镜阵列的方法
公开(公告)号：KR1020000071524A
公开(公告)日：2000-11-25
申请号：KR1020000016777
申请日：2000-03-31
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 데시마다까유끼 , 야기다까유끼 , 시마다야스히로 , 우시지마다까시
IPC分类号： B81C1/00
摘要： 본원의 마이크로 구조체의 어레이를 제조하는 방법에서는, 도전성 부분을 갖는 기판을 제공하고, 절연 마스크 층이 기판의 도전성 부분에 형성되고, 복수의 개구가 절연 마스크 층에 형성되어 도전성 부분을 노출시키며, 그리고 제1 도금층 또는 전착층이 전기 도금 또는 전착(電着)에 의해 절연 마스크에서 그리고 개구 내에 도포되는 것이다. 제2 도금층은 어레이 위에 마이크로 구조체의 크기 분포가 감소하도록 무전해 도금으로 도전성 부분에 그리고 제1 도금층 또는 전착층에 부가로 형성된다.

4. 发明授权

KR100431676B1 마이크로 구조체 어레이와, 마이크로 구조체 어레이 및마이크로 구조체 어레이 성형용 금형 그리고 마이크로렌즈 어레이의 제조 방법 失效
标题翻译： 마이크로구체，및그그그그그그법법법법법법법법법법법법법법법법법법법법법법법법법법
公开(公告)号：KR100431676B1
公开(公告)日：2004-05-17
申请号：KR1020000016777
申请日：2000-03-31
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 데시마다까유끼 , 야기다까유끼 , 시마다야스히로 , 우시지마다까시
IPC分类号： B81C1/00
CPC分类号： G02B3/0025 , G02B3/0012 , G02B3/0031 , G02B3/0056 , Y10S428/901 , Y10T428/24917
摘要： In a method of fabricating an array of microstructures, a substrate with an electrically-conductive portion is provided, an insulating mask layer is formed on the electrically-conductive portion of the substrate, a plurality of openings are formed in the insulating mask layer to expose the electrically-conductive portion, and a first plated or electrodeposited layer is deposited in the openings and on the insulating mask layer by electroplating or electrodeposition. A second plated layer is further formed on the first plated or electrodeposited layer and on the electrically-conductive portion by electroless plating to reduce a size distribution of microstructures over the array.
摘要翻译：在制造微结构阵列的方法中，提供具有导电部分的衬底，在衬底的导电部分上形成绝缘掩模层，在绝缘掩模层中形成多个开口以暴露导电部分以及第一电镀或电沉积层通过电镀或电沉积沉积在开口中和绝缘掩模层上。通过无电镀在第一电镀或电沉积层上和导电部分上进一步形成第二电镀层，以减小阵列上微结构的尺寸分布。＆lt;图像＆GT;

5. 发明公开

KR1020000012055A 마이크로렌즈를 형성하기 위한 몰드 및 그 제조 방법 失效
标题翻译：用于形成微透镜的模具及其制造方法
公开(公告)号：KR1020000012055A
公开(公告)日：2000-02-25
申请号：KR1019990030971
申请日：1999-07-29
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 야기다까유끼 , 시마다야스히로 , 데시마다까유끼 , 우시지마다까시
IPC分类号： B29C33/00
CPC分类号： B29C33/42 , B29C33/3842 , B29D11/00365 , Y10S425/808
摘要： PURPOSE: A mold for a micro lens or a micro lens array is provided to easily reduce the size and to have a wanted curvature or a big NA. CONSTITUTION: The mold for the micro lens installs a conductive substrate or electrode layers(2,12,32,52) and substrates(1,11,31,51,61) of which one part is conductive, an opening or an insulating mask layers(3,13,33,53) containing plural openings(4,14,34,54), and a gilding layers(5,15,35,55) gilt with electricity inside the opening and on the mask layer. The micro lens array of which the diameter is 2-3 micron or 200-300 micron, has a structure arranged by the fine lens of a hemispheric profile and has big light collecting efficiency effectively using a ray of light incident upon a lens surface.
摘要翻译：目的：提供用于微透镜或微透镜阵列的模具，以容易地减小尺寸并具有想要的曲率或大的NA。构成：用于微透镜的模具安装导电衬底或电极层（2,12,32,52）和其中一部分导电的衬底（1,11,31,51,61），开口或绝缘掩模包含多个开口（4,14,34,54）的层（3,13,33,53）和在开口内和掩模层上镀有电的镀金层（5,15,35,55）。其直径为2-3微米或200-300微米的微透镜阵列具有由半球形轮廓的精细透镜布置的结构，并且使用入射在透镜表面上的光线有效地具有大的聚光效率。

6. 发明授权

KR100375279B1 인쇄기판,전자방출소자,전자소스및화상형성장치의제조방법 失效
标题翻译： 인쇄기판，전자방출소자，전자소스및화상형성장치의제조방법
公开(公告)号：KR100375279B1
公开(公告)日：2003-04-21
申请号：KR1019980009861
申请日：1998-03-21
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 미야모또마사히꼬 , 하세가와미쯔또시 , 산도가즈히로 , 시게오까가즈야 , 야마노베마사또 , 데시마다까유끼 , 요시오까도시후미
IPC分类号： H01J9/02 , H01J1/30
CPC分类号： B41M5/52 , B41J2/01 , B41M5/0017 , B41M5/0047 , B41M5/007 , B41M5/529 , G02B5/201 , H01J9/027 , H05K3/1241
摘要： Disclosed herein is a process for producing a printed substrate, comprising a step of applying droplets of a liquid containing a material for a desired component to be formed on a substrate to the surface of the substrate to form the component on the substrate, wherein the process comprises, prior to the step of applying the droplets to the substrate surface, a step of subjecting the substrate to a surface treatment in such a manner that the contact angle of the droplet applied with the surface of the substrate falls within a range of from 20 DEG to 50 DEG .
摘要翻译：本发明公开了一种用于制造印刷基板的方法，该方法包括以下步骤：将包含待形成在基板上的期望部件的材料的液体的液滴施加到基板的表面上以在基板上形成部件，其中该方法包括在将液滴施加到衬底表面的步骤之前对衬底进行表面处理的步骤，使得施加在衬底表面上的液滴的接触角落在20°的范围内 DEG至50°。＆lt;图像＆GT;

7. 发明授权

KR100371477B1 미세구조 어레이, 미세구조 어레이의 형성 방법 및 장치,및 미세구조 어레이를 제조하기 위한 주형 失效
标题翻译： 미세구조어레이，미세구조어레이의형성방법및장치，및미세구조어레이를제조하기위한주
公开(公告)号：KR100371477B1
公开(公告)日：2003-02-06
申请号：KR1020000016133
申请日：2000-03-29
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 시마다야스히로 , 야기다까유끼 , 데시마다까유끼 , 우시지마다까시
IPC分类号： G02B1/00
CPC分类号： G02B3/0056 , G02B3/0012 , G02B3/0043
摘要： A fabrication method of fabricating an array of microstructures (8, 28, 48, 68, 108, 208) is provided. The method includes the step of preparing a substrate (1, 21, 41, 101, 201) with a surface including a usable region (5, 25, 45) and a dummy region (6, 26, 46, 66) continuously set around the usable region, at least the usable region and the dummy region of the substrate are electrically conductive and have a conductive portion (2, 22, 42, 102, 202). The method also includes the steps of forming a first insulating layer (3, 23, 43, 103, 203) on the conductive portion, and forming a plurality of openings (4, 24, 44, 104, 204) in the first insulating layer, the openings being arranged in a predetermined array pattern. Additionally, the method includes the step of performing one of electroplating and electrodeposition using the conductive portion as an electrode to form a first plated or electrodeposited layer (7, 27, 48, 68, 106, 206) in the openings and on the first insulating layer in both the usable region and the dummy region.
摘要翻译：提供了制造微结构阵列（8,28,48,68,108,208）的制造方法。该方法包括以下步骤：准备具有包括可用区域（5,25,45）和虚设区域（6,26,46,66）的表面的基板（1,21,41,101,201），所述表面连续设置衬底的可用区域，至少可用区域和虚设区域是导电的并且具有导电部分（2,22,42,102,202）。该方法还包括以下步骤：在导电部分上形成第一绝缘层（3,23,43,103,203），并且在第一绝缘层中形成多个开口（4,24,44,104,204），开口以预定的阵列图案布置。此外，该方法包括使用导电部分作为电极进行电镀和电沉积中的一种以在开口中和第一绝缘体上形成第一电镀或电沉积层（7,27,48,68,106,206）的步骤层在可用区域和虚拟区域两者中。＆lt;图像＆GT;

8. 发明授权

KR100333457B1 마이크로렌즈를 형성하기 위한 몰드 및 그 제조 방법 失效
标题翻译：用于形成微型玻璃的模具及其制造方法
公开(公告)号：KR100333457B1
公开(公告)日：2002-04-18
申请号：KR1019990030971
申请日：1999-07-29
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 야기다까유끼 , 시마다야스히로 , 데시마다까유끼 , 우시지마다까시
IPC分类号： B29C33/00
CPC分类号： B29C33/42 , B29C33/3842 , B29D11/00365 , Y10S425/808
摘要： 마이크로렌즈용몰드는도전성기판또는전극층(2, 12, 32, 52)을갖고있는기판과같이적어도일부분이도전성인기판(1, 11, 31, 51, 61), 상기기판상에형성되어있으며개구또는복수의개구(4, 14, 34, 54)를포함하는절연마스크층(3, 13, 33, 53), 및상기개구내에그리고상기마스크층상에전기도금된도금층(5, 15, 35, 55)을구비한다. 개구(3, 14, 34, 54)의직경또는폭(ø)이 ø0.35R의관계를갖는제1 조건 - (R)은상기개구바로위의도금층(5, 15, 35, 55)의곡률반경임 - 또는개구(4, 14, 34, 54)의직경또는폭(ø)이 ø10 ㎛인제2 조건이만족된다.

9. 发明公开

KR1020010014651A 미세구조 어레이, 미세구조 어레이의 형성 방법 및 장치,및 미세구조 어레이를 제조하기 위한 주형 失效
标题翻译：微结构阵列的制造，微透镜阵列的制造及其使用的微镜阵列的制造
公开(公告)号：KR1020010014651A
公开(公告)日：2001-02-26
申请号：KR1020000016133
申请日：2000-03-29
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 시마다야스히로 , 야기다까유끼 , 데시마다까유끼 , 우시지마다까시
IPC分类号： G02B1/00
CPC分类号： G02B3/0056 , G02B3/0012 , G02B3/0043
摘要： PURPOSE: Disclosed is a microstructure array, such as a micro-lens array, facilitating enlargement and manufacturing processes, and high in controlling, relatively inexpensive, and small in-plane distribution. CONSTITUTION: This manufacturing method for a microstructure array includes the processes of: forming an insulating layer(3) on a conductive portion(2) of a substrate(1), forming an opening(4) having a periodic repetitive array pattern on the insulating layer(3), and forming an electro-deposition layer(7) on the opening(4) and the insulating layer(3) through the opening(4) by the electro-deposition of the conductive portion(2) as a negative or positive electrode. The opening(4) is formed both on the periphery of a use area(5) in the microstructure, and in a dummy area(6) in series with the use area(5) and having an array pattern similar thereto.
摘要翻译：目的：公开了一种微结构阵列，例如微透镜阵列，有助于扩大和制造工艺，并且具有高的控制性，相对便宜的和小的平面内分布。构成：这种微结构阵列的制造方法包括以下工序：在基板（1）的导电部分（2）上形成绝缘层（3），在绝缘层上形成周期性重复阵列图案的开口（4）层（3），并且通过导电部分（2）的电沉积作为负的或通过开孔（4）在开口（4）和绝缘层（3）上形成电沉积层（7）正极。在微细结构中的使用区域（5）的周边和与使用区域（5）串联的虚拟区域（6）中形成开口（4）并具有与之相似的阵列图案。

10. 发明公开

KR1019980080529A 인쇄기판,전자방출소자,전자소스및화상형성장치의제조방법 失效
标题翻译：印刷基板，电子发射装置，电子源及图像形成装置的制造方法
公开(公告)号：KR1019980080529A
公开(公告)日：1998-11-25
申请号：KR1019980009861
申请日：1998-03-21
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 미야모또마사히꼬 , 하세가와미쯔또시 , 산도가즈히로 , 시게오까가즈야 , 야마노베마사또 , 데시마다까유끼 , 요시오까도시후미
IPC分类号： H01J9/02 , H01J1/30
摘要： 인쇄 기판을 제조하는 공정이 제공되는데, 이 공정은 기판에 형성될 소망하는 컴포넌트의 재료를 함유하는 액체 방울을 기판 표면에 공급하는 단계를 포함하며, 이 공정은 또한 상기 액체 방울을 기판 표면에 공급하는 단계 전에 기판 표면과 액체 방울간의 접촉 각도가 20°내지 50°범위 내가 되도록 기판을 표면 처리하는 단계를 포함한다.

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