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1. 发明授权

KR101441978B1 태양전지 전해액 주입 장치 및 태양전지 전해액 주입 방법 有权
标题翻译：太阳电池电解液注入装置及电解液注入方法
公开(公告)号：KR101441978B1
公开(公告)日：2014-09-25
申请号：KR1020130036542
申请日：2013-04-03
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 이승훈 , 이현재 , 이전근 , 박지호 , 임율규 , 최문섭 , 김태훈 , 김혜진
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/042
CPC分类号： Y02E10/50 , H01L31/042 , H01L31/18
摘要： The present invention relates to an electrolyte injection apparatus of a solar battery and an electrolyte injection method for solar battery. The apparatus comprises a vacuum housing sealing a substrate of a solar battery with multiple cells having holes; an electrolyte supply unit connected with the vacuum housing; a vacuum pump connected with the vacuum housing; a sealing member arranged inside the vacuum housing to be moved, and sealing the holes on the substrate of the solar battery to separate an inner space of the vacuum housing and an inner spaces of the cells; and a moving unit moving the sealing member to open and close the holes.
摘要翻译：本发明涉及太阳能电池的电解液注入装置和太阳能电池的电解液注入方法。该装置包括密封具有多个具有孔的电池的太阳能电池的基板的真空壳体; 与所述真空壳体连接的电解质供给单元; 与真空壳体连接的真空泵; 设置在所述真空壳体内部以移动的密封构件，并密封所述太阳能电池的基板上的孔，以分离所述真空壳体的内部空间和所述单元的内部空间; 以及移动单元移动密封构件以打开和关闭孔。

2. 发明授权

KR101421547B1 수직형 기판 처리 장치와 방법 有权
标题翻译：垂直型设备及其处理方法
公开(公告)号：KR101421547B1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：KR1020130024089
申请日：2013-03-06
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 이승훈 , 박지호 , 모성원 , 정석준 , 최문섭 , 김태훈 , 이전근 , 이현재 , 장항 , 임율규 , 김혜진 , 송진영
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/68742
摘要： Disclosed are a vertical type device and a method for treating a substrate. The vertical type device for treating a substrate includes a process chamber part which has a process space for vertically receiving a substrate with regard to a bottom surface and moving the substrate in a height direction, a nozzle chamber part which has a receiving space which is connected to the process space by the medium of a connection part, a connection opening/closing part which opens/closes the connection part, an elevating part which is formed in the process space and elevates and supports the substrate, and a cluster generation part which is formed in the receiving space and changes a process gas into a gas cluster type and supplies it.
摘要翻译：公开了垂直型装置和处理基板的方法。用于处理基板的垂直型装置包括处理室部分，该处理室部分具有用于垂直地接收基板的工作空间，用于相对于底部表面并在高度方向上移动基板;喷嘴室部分，其具有连接的接收空间通过连接部件的介质到达处理空间，打开/关闭连接部分的连接打开/关闭部分，形成在处理空间中并升高和支撑基板的升降部分，以及簇生成部件形成在接收空间中并将处理气体改变为气体簇型并提供。

3. 发明公开

KR1020150056999A 척테이블 장치 审中-实审
标题翻译： K TABLE TABLE。。。
公开(公告)号：KR1020150056999A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：KR1020130139752
申请日：2013-11-18
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 정석준 , 모성원 , 이승훈 , 박지호 , 최문섭 , 김태훈 , 이현재
IPC分类号： H01L21/687
CPC分类号： H01L21/68728 , H01L21/6704
摘要： 척테이블장치에대한발명이개시된다. 본발명의척테이블장치는: 웨이퍼가로딩되는회전테이블; 회전테이블에배치되고, 회전테이블의회전중심과동심을이루도록배치되는회전부재; 회전부재에결합되어회전부재를회전시키는구동부; 회전테이블에힌지결합되고, 회전부재에힌지결합되는복수의링크부; 각링크부에결합되어링크부에의해이동되는이동로드; 회전테이블에고정되고, 이동로드가이동가능하게결합되는가이드부; 및이동로드에결합되고, 이동로드가이동됨에따라웨이퍼의둘레부를지지하는지지위치또는대기위치로이동되는척핀을포함하는것을특징으로한다.
摘要翻译：公开了一种卡盘台装置。根据本发明，卡盘台装置包括：加载晶片的旋转台; 旋转构件，设置在所述旋转台上并且设置成与所述旋转台的旋转中心同心; 驱动单元，其联接到所述旋转构件并旋转所述旋转构件; 多个连杆单元，铰接到旋转台并铰接到旋转件上; 移动杆，其联接到每个连杆单元并被所述连杆单元移动; 固定在旋转工作台上的导向单元，其中活动杆联接以便移动; 以及与所述移动杆联接的卡盘，并且根据所述移动杆移动而移动到等待位置或支撑所述晶片的圆周部分的支撑位置。

4. 发明授权

KR101267929B1 기판 처리장치 및 이의 기판 개별 수납/인출 방법 有权
标题翻译：基板加工装置及其单独基板的接收/取出方法
公开(公告)号：KR101267929B1
公开(公告)日：2013-05-27
申请号：KR1020110094728
申请日：2011-09-20
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 박지호 , 최문섭
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/677
摘要： 본발명은내부에처리액이수용되고, 기판이수납되기위한캐리어가구비되는처리조와, 상기캐리어를수평방향으로슬라이드이동시키는슬라이드이동부와, 상기처리조의상부에설치되어개별기판을적재하는그립과, 상기기판이캐리어의입구측을향하도록그립을회전시키는회전구동부와, 상기그립을승강시켜적재된기판을캐리어의내부에수납시키거나캐리어의내부에수납된기판을인출하는승강구동부와, 상기처리조의상부일측에설치되어처리조에서오버플로우되는처리액을필터링하는오버플로우필터와, 상기처리조의내부하부측에설치되어처리액을공급하되, 오버플로우필터측으로처리액을공급하도록일정각도경사지게설치되는처리액공급부를포함하되, 상기처리액공급부는다수의오리피스가구비된튜브형태로형성되는것을특징으로한다.본발명에의하면, 수납슬롯이처리조의수평방향에위치되도록캐리어를처리조의내부에배치하고그립에의해개별기판을수납또는인출함으로써, 처리액에이미침전되어있던기판들이노출되지않으면서기판을개별로수납또는인출할수 있는효과가있다.

5. 发明授权

KR102120066B1 척테이블 장치 有权
公开(公告)号：KR102120066B1
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：KR1020130139752
申请日：2013-11-18
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 정석준 , 모성원 , 이승훈 , 박지호 , 최문섭 , 김태훈 , 이현재
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/67

6. 发明公开

KR1020150057000A 웨이퍼 처리 장치 및 그 제어방법 审中-实审
标题翻译： WAFER加工设备及其控制方法
公开(公告)号：KR1020150057000A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：KR1020130139754
申请日：2013-11-18
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 정석준 , 모성원 , 이승훈 , 박지호 , 최문섭 , 김태훈 , 이현재
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/02041 , H01L21/30604 , H01L21/6708 , H01L21/68714
摘要： 웨이퍼처리장치및 그제어방법에대한발명이개시된다. 본발명의웨이퍼처리장치는: 웨이퍼가로딩되는척테이블장치; 척테이블장치를둘러싸도록배치되는복수의회수통을포함하는회수장치; 및복수의회수통을개별적으로승강시키도록복수의회수통에설치되는승강장치를포함하는것을특징으로한다.
摘要翻译：公开了一种晶片处理装置及其控制方法。根据本发明的晶片处理装置包括装载晶片的卡盘台装置，包括布置成围绕卡盘台装置的多个回收容器的回收装置和安装在回收容器上的提升装置单独提起回收容器。

7. 发明授权

KR101472976B1 기판처리장치 有权
标题翻译：基板处理设备
公开(公告)号：KR101472976B1
公开(公告)日：2014-12-18
申请号：KR1020130042275
申请日：2013-04-17
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 이승훈 , 박지호 , 모성원 , 정석준 , 최문섭 , 김태훈 , 이전근 , 이현재 , 장항 , 임율규 , 김혜진 , 송진영
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , G02F1/13 , H01L51/56
摘要： 기판처리장치에관한발명이개시된다. 개시된기판처리장치는기판이이격적층되는카세트부가구비되는카세트유닛과, 기판또는카세트부를운반하는이송유닛과, 기판또는카세트부를반전시키는반전유닛및 반전유닛을통해반전된기판을처리하는처리유닛을포함하고, 이송유닛은, 카세트유닛과반전유닛사이에서기판또는카세트부를운반하는제1이송유닛및 반전유닛과처리유닛사이에서기판을운반하는제2이송유닛을포함하는것을특징으로한다.
摘要翻译：公开了涉及基板处理设备的发明。用于处理通过所公开的基板处理值反转单元和反转基底衬底的反转单元的处理单元被隔开设置有盒部，基板，或盒体单元层压盒单元承载转印单元和衬底或盒部用于反转该和输送单元的特征在于，它包括一个盒体单元和反转单元之间的第二传送单元，用于传送所述第一传送单元和反转单元和处理单元之间的基板用于输送盒的基板或部件。

8. 发明授权

KR101472978B1 패드 컨디셔너 有权
标题翻译： PAD调节器
公开(公告)号：KR101472978B1
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：KR1020130027882
申请日：2013-03-15
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 이승훈 , 박지호 , 모성원 , 최문섭 , 장항
IPC分类号： B24B53/017 , B24B53/12
摘要： 패드컨디셔너에관한발명이개시된다. 개시된패드컨디셔너는연마패드의표면을컨디셔닝하고, 컨디셔닝할때 발생되는잔류물이통과되는관통부가관통형성되는디스크부와, 디스크부가밀착되고, 관통부와연통되는감압부가구비되는고정척부와, 디스크부가회전되도록고정척부를회전시키는회전유닛과, 잔류물이관통부로흡입되도록감압부를감압시키는감압유닛및 디스크부를승강시키는가압유닛을포함하고, 가압유닛은, 회전유닛에결합되는전달바디부와, 전달바디부를회전가능하게지지하는가압바디부및 고정척부가승강되도록전달바디부와가압바디부를거쳐고정척부에흡입력또는가압력을제공하는가압구동부를포함하는것을특징으로한다.

9. 发明公开

KR1020140113027A 패드 컨디셔너 有权
标题翻译： PAD调节器
公开(公告)号：KR1020140113027A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：KR1020130027882
申请日：2013-03-15
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 이승훈 , 박지호 , 모성원 , 최문섭 , 장항
IPC分类号： B24B53/017 , B24B53/12
CPC分类号： B24B53/017 , B24B37/04 , B24B53/02 , B24B53/12
摘要： A pad conditioner is disclosed. The disclosed pad conditioner comprises: a disk unit which conditions the surface of a polishing pad and has a penetrating unit through which residue generated from conditioning can pass; a fixated chuck unit where the disk unit closely adheres and which includes a decompressing unit for communicating with the penetrating unit; a rotary unit which rotates the fixated chuck unit in order to rotate the disk unit; a decompression unit which decompresses the decompressing unit so that the residue can be sucked into the penetrating unit; and a pressurization unit which elevates the disk unit. The pressurization unit comprises: a transmission body unit which is combined with the rotary unit; a pressurization body unit which supports the transmission body unit to rotate; and a pressurization driving unit which provides suction force or pressure to the fixated chuck unit through the transmission body unit and the pressurization body unit in order to elevate the fixated chuck unit.
摘要翻译：公开了一种垫调节器。所公开的垫调节器包括：盘单元，其对抛光垫的表面进行调节，并具有穿过单元，通过该单元通过调节产生的残留物可以通过; 固定卡盘单元，其中所述盘单元紧密地附着并且包括用于与所述穿透单元通信的减压单元; 旋转单元，其使所述固定卡盘单元旋转以旋转所述盘单元; 减压单元，其对所述减压单元进行减压，使得所述残留物能够被吸入所述穿透单元; 以及提升盘单元的加压单元。加压单元包括：与旋转单元组合的变速器主体单元; 支撑所述传动体单元旋转的加压体单元; 以及加压驱动单元，其通过变速器主体单元和加压主体单元向固定卡盘单元提供吸力或压力，以便提升固定卡盘单元。

10. 发明授权

KR101421548B1 기판처리장치 有权
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：KR101421548B1
公开(公告)日：2014-07-29
申请号：KR1020130042276
申请日：2013-04-17
申请人： 주식회사 제우스
发明人： 이승훈 , 박지호 , 모성원 , 정석준 , 최문섭 , 김태훈 , 이전근 , 이현재 , 장항 , 임율규 , 김혜진 , 송진영
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/02 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/6773 , B65G49/061 , B65G49/062 , G02F1/1303 , H01L21/67766 , H01L21/67793
摘要： A substrate processing device is disclosed. The disclosed substrate processing device comprises a cassette unit having a cassette part which a substrate is separated from and stacked on; and a transfer unit to transfer the substrate or the cassette unit; and a processing unit to process the substrate. The processing unit includes a processing chamber unit having a processing space in which the substrate is accommodated; a nozzle chamber unit in which an accommodation space communicated with the processing space is included; a communication unit in which a communication space for communicating the processing space with the accommodation space; and a communication opening/closing unit for opening/closing the communication space; a processing transfer unit formed in the processing space to slide or rotate the substrate; and a cluster generation unit formed in the accommodation space to convert a process gas into a gas cluster type to be supplied.
摘要翻译：公开了一种基板处理装置。所公开的基板处理装置包括具有基板与基板分离并堆叠的盒部分的盒单元; 以及转印单元，用于转印所述基板或所述盒单元; 以及处理基板。处理单元包括处理室单元，其具有容纳基板的处理空间; 喷嘴室单元，其中包括与处理空间连通的容纳空间; 通信单元，其中用于将处理空间与容纳空间通信的通信空间; 以及用于打开/关闭通信空间的通信打开/关闭单元; 处理转移单元，形成在所述处理空间中以使所述基板滑动或旋转; 以及形成在容纳空间中以将处理气体转换成要供应的气体簇型的簇生成单元。

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