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1. 发明授权

KR101119818B1 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한액정디스플레이 컬러필터의 제조방법 有权
标题翻译：用于彩色滤光片的光电组合物和使用其的液晶显示器彩色滤光片的制备方法
公开(公告)号：KR101119818B1
公开(公告)日：2012-03-06
申请号：KR1020040102654
申请日：2004-12-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박춘호 , 나종호 , 김경아 , 박찬석
IPC分类号： G02B5/20
摘要： 본발명은컬러필터용감광성수지조성물및 이를이용한액정디스플레이컬러필터의제조방법에관한것으로, 보다상세하게는폴리알킬렌옥시드메틸실란고분자, 폴리에테르가변형된디메틸폴리실록산고분자용액및 폴리에테르가변형된디메틸폴리실록산고분자로이루어지는군으로부터 1종이상선택되는실리콘계표면첨가제를포함하여 TFT 및 STN 방식의 LCD 제조공정에서기판위에회전도포되는레지스트막의가장자리부분에서발생되는불필요한부분의최소화및 코팅성과평준화를향상시킨컬러필터용감광성수지조성물및 상기컬러필터용감광성수지조성물을이용한액정디스플레이컬러필터의제조방법에관한것이다.

2. 发明授权

KR100870020B1 용해 특성을 조절하는 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한이층 구조의 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：使用它的双层结构的可溶性树脂组合物控制溶解性和图案形成方法
公开(公告)号：KR100870020B1
公开(公告)日：2008-11-21
申请号：KR1020020060500
申请日：2002-10-04
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 삼성전자주식회사
发明人： 양석윤 , 노수귀 , 김길래 , 박찬석 , 박춘호
IPC分类号： G02B5/20
CPC分类号： G03F7/032 , G03F7/0007 , G03F7/0751 , Y10S430/106
摘要： 본 발명은 용해 특성을 조절할 수 있는 새로운 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 이층 구조의 패턴을 형성시키는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 새로운 광중합 개시제 및 하층 경화제를 이용하여 감마값(r-value)을 조절할 수 있으며, 적은 노광에너지를 가지고도 현상후 패턴의 뜯김이 없이 상층으로부터 용해되어 노광량에 따라 막두께 조절이 가능하여 LCD(Liquid Crystal Display) 제조 공정에서 컬러필터 및 오버코팅 재료로서 유용한 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
감마값(r-value), 광중합 개시제, 하층 경화제, 슬릿 패턴, 투톤 방식

3. 发明授权

KR100756552B1 씬너 조성물 失效
标题翻译：更薄的组成
公开(公告)号：KR100756552B1
公开(公告)日：2007-09-07
申请号：KR1020010036103
申请日：2001-06-23
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박찬석 , 김길래 , 박춘호 , 김경아
IPC分类号： G03F7/32
摘要： 본 발명은 TFT LCD 디바이스와 반도체 디바이스 제조 공정에서 기판 위에 코팅되는 레지스트 막의 가장자리 부분 또는 기판의 후면에 형성되는 불필요한 막 성분을 제거하기 위한 씬너 조성물에 관한 것으로서, a) 유기 아민 0.1 내지 5 중량%, b) 유기용제 0.1 내지 30 중량%, c) 음이온계 계면활성제 및 비이온계 계면활성제로 이루어진 계면활성제 0.01 내지 5 중량%, 및 d) 물 60 내지 99 중량 %를 포함하는 것을 특징으로 하는 레지스트 제거용 씬너 조성물을 제공한다. 상기 레지스트 제거용 씬너 조성물은 레지스트 제거 능력이 우수하며, 장비에 대한 부식의 우려가 없다.

TFT LCD, 반도체 디바이스, 씬너, 레지스트

4. 发明公开

KR1020040031137A 용해 특성을 조절하는 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한이층 구조의 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：用于控制熔融特性的光催化剂树脂组合物及其形成两层结构图案的方法
公开(公告)号：KR1020040031137A
公开(公告)日：2004-04-13
申请号：KR1020020060500
申请日：2002-10-04
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 삼성전자주식회사
发明人： 양석윤 , 노수귀 , 김길래 , 박찬석 , 박춘호
IPC分类号： G02B5/20
CPC分类号： G03F7/032 , G03F7/0007 , G03F7/0751 , Y10S430/106
摘要： PURPOSE: A photoresist resin composition for controlling a melting characteristic and a method for forming a pattern of a two layer structure using the same are provided to control a gamma value and the thickness of the layer by using a new photopolymerization initiator and a hardener for bottom layer. CONSTITUTION: A photoresist resin composition for controlling a melting characteristic includes a binder of 5 to 30 weight percent, a crosslinkable monomer of 5 to 30 weight percent, paints of 10 to 60 weight percent, a photopolymerization initiator of 1 to 5 weight percent, a hardener of 0.1 to 2 weight percent, and a solvent of 20 to 80 weight percent. The binder melts in alkali aqueous solution. The crosslinkable monomer is formed with two or more ethylene-based double bond. The photopolymerization initiator is formed with one or more materials, which are selected from a group including an acetophenone compound, a xanthone compound, a benzoin compound, and an imidazole compound. The hardener is formed with one or more materials, which are selected from a group including a silane polymer, an ethylene monomer having one or more epoxy bases and an oligomer of the ethylene monomer.
摘要翻译：目的：提供用于控制熔融特性的光致抗蚀剂树脂组合物和使用其的形成两层结构的图案的方法，以通过使用新的光聚合引发剂和底部的固化剂来控制该层的γ值和厚度层。构成：用于控制熔融特性的光致抗蚀剂树脂组合物包括5至30重量％的粘合剂，5至30重量％的可交联单体，10至60重量％的涂料，1至5重量％的光聚合引发剂，1至5重量％的光聚合引发剂， 0.1〜2重量％的硬化剂，20〜80重量％的溶剂。粘合剂在碱性水溶液中熔化。可交联单体由两个或更多个乙烯基双键形成。光聚合引发剂由选自苯乙酮化合物，呫吨酮化合物，苯偶姻化合物和咪唑化合物的一种或多种材料形成。硬化剂由一种或多种材料形成，其选自包括硅烷聚合物，具有一个或多个环氧基的乙烯单体和乙烯单体的低聚物的组。

5. 发明公开

KR1020030043190A 레지스트 제거용 신너 조성물 失效
标题翻译：用于去除电阻的薄膜组合物
公开(公告)号：KR1020030043190A
公开(公告)日：2003-06-02
申请号：KR1020010074243
申请日：2001-11-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김길래 , 박춘호 , 김경아
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/322 , C11D3/044 , G03F7/063 , G03F7/30 , G03F7/34 , G03F7/425
摘要： PURPOSE: A thinner composition for removing resist is provided, which is used to remove the edge part of resist film coated on a substrate or an unnecessary film component formed on the back face of a substrate in manufacturing process of a TFT-LCD device or a semiconductor device. CONSTITUTION: The thinner composition comprises 0.1-10 wt% of an inorganic and/or organic alkali; 0.1-30 wt% of an organic solvent; 0.01-10 wt% of a nonionic surfactant; 50-99 wt% of water; and optionally 0.01-5 wt% of an anionic surfactant and/or 0.01-1.0 wt% of an antifoaming agent. Preferably the organic solvent is an organic amine-based solvent, an alcohol ether-based organic solvent, a nitrogen-containing organic solvent or a sulfur-containing organic solvent; the nonionic surfactant is selected from the group consisting of polyoxy ethyl ether, polyoxy propyl ether, polyoxy ethyl propyl ether, polyoxy ethyl alkyl phenyl ether, polyoxy propyl alkyl phenyl ether, polyoxy ethyl oxypropyl alkyl phenyl ether and their mixtures; and the anionic surfactant is selected from the group consisting of alkyl ether sulfate, alkyl sulfate, alkyl benzenesulfonic acid, alkyl benzenesulfonate, alkyl naphthalene sulfonate and their mixtures.
摘要翻译：目的：提供用于去除抗蚀剂的较薄组合物，其用于在TFT-LCD装置的制造过程中除去涂覆在基板上的抗蚀剂膜的边缘部分或形成在基板背面上的不需要的膜部件半导体器件。构成：较薄的组成包含0.1-10重量％的无机和/或有机碱; 0.1-30重量％的有机溶剂; 0.01-10重量％的非离子表面活性剂; 50-99重量％的水; 和0.01-5重量％的阴离子表面活性剂和/或0.01-1.0重量％的消泡剂。优选有机溶剂是有机胺类溶剂，醇醚类有机溶剂，含氮有机溶剂或含硫有机溶剂; 非离子表面活性剂选自聚氧乙基醚，聚氧丙基醚，聚氧乙基丙基醚，聚氧乙基烷基苯基醚，聚氧丙基烷基苯基醚，聚氧乙基氧丙基烷基苯基醚及其混合物; 阴离子表面活性剂选自烷基醚硫酸盐，烷基硫酸盐，烷基苯磺酸，烷基苯磺酸盐，烷基萘磺酸盐及其混合物。

6. 发明公开

KR1020060063475A 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한액정디스플레이 컬러필터의 제조방법 有权
标题翻译：用于彩色滤光片的光电组合物和使用其的液晶显示器彩色滤光片的制备方法
公开(公告)号：KR1020060063475A
公开(公告)日：2006-06-12
申请号：KR1020040102654
申请日：2004-12-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박춘호 , 나종호 , 김경아 , 박찬석
IPC分类号： G02B5/20
CPC分类号： G02B5/20 , B05D1/005 , G02F1/133514
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition for a color filter which minimizes unnecessary parts occurring at the peripheral edge of a resist film spin-coated on a substrate in an LCD manufacturing process by a TFT and STN system, and which improves coating property and planarization. SOLUTION: The photosensitive resin composition for a color filter contains one or more silicon-based surface additives selected from the group consisting of: polyalkylene oxide methylsilane polymers; polyether modified dimethylpolysiloxane polymer solutions; and polyether modified dimethylpolysiloxane polymers. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

7. 发明公开

KR1020060025102A 잉크 조성물 및 상기 잉크 조성물을 포함하는 컬러 필터 有权
标题翻译：墨水组合物和包含其的彩色滤光片
公开(公告)号：KR1020060025102A
公开(公告)日：2006-03-20
申请号：KR1020040108138
申请日：2004-12-17
申请人： 삼성전자주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 강윤호 , 박춘호 , 김경아 , 김길래 , 박찬석 , 권성규 , 김장섭 , 김병주
IPC分类号： C09D11/30 , C09D11/326 , C09D11/38 , G02B5/20
CPC分类号： C09D11/36 , C09D11/322 , C09D11/326 , C09D11/38 , G02B5/20 , G02F1/1335
摘要： An ink composition comprising dipropylene glycol monomethyl ether acetate (DPMA). For example, an ink composition for a color filter includes a binder material, a monomer material, a polymerization initiator, a pigment dispersion, and a solvent including dipropylene glycol monomethyl ether acetate (DPMA).
摘要翻译：包含二丙二醇单甲醚乙酸酯（DPMA）的油墨组合物。例如，用于滤色器的油墨组合物包括粘合剂材料，单体材料，聚合引发剂，颜料分散体和包含二丙二醇单甲醚乙酸酯（DPMA）的溶剂。

8. 发明授权

KR100485737B1 레지스트 제거용 신너 조성물 失效
标题翻译：用于去除抗蚀剂的较薄组合物
公开(公告)号：KR100485737B1
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：KR1020010074243
申请日：2001-11-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김길래 , 박춘호 , 김경아
IPC分类号： G03F7/32
摘要： 본 발명은 TFT-LCD 디바이스 또는 반도체 디바이스 제조 공정에서 기판 위에 코팅되는 레지스트 막의 가장자리 부분 또는 기판의 후면에 형성되는 불필요한 막 성분을 제거하기 위한 신너 조성물에 관한 것으로서, 상기 신너 조성물은 a) 무기 및/또는 유기 알칼리 0.1 내지 10 중량%; b) 유기용제 0.1 내지 30 중량%; c) 비이온계 계면활성제 0.01 내지 10 중량%; 및 d) 물 50 내지 99 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 레지스트 제거용 신너 조성물을 제공한다. 여기서, 상기 신너 조성물은 음이온계 계면활성제 0.01 내지 5 중량% 및/또는 소포제 0.01 내지 1.0 중량%를 더욱 포함하는 것이 바람직하다.

9. 发明公开

KR1020040092267A ＬＣＤ 흑색 컬러 레지스트용 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：液晶显示屏的黑色感光性感光树脂组合物，其包含在碱性溶液中发展的涂料
公开(公告)号：KR1020040092267A
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：KR1020030026517
申请日：2003-04-25
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김봉기 , 유영길 , 박춘호 , 박찬석
IPC分类号： G03F7/027
摘要： PURPOSE: Provided is a photosensitive resin composition for a black color resist of an LCD, which uses a resin having excellent curability by the UV light and adhesion to a substrate, and thus provides excellent pattern formability, developability and shelf stability. CONSTITUTION: The alkali-soluble photosensitive resin composition for a black color resist of an LCD comprises 2-10 wt% of an acid-modified bisphenol epoxy acrylate resin represented by the following formula 1, which is soluble in an aqueous alkaline solution. In formula 1, R1 is represented by the formula of CH2=CHC(O)ORCH2-, wherein R is a C1-C4 alkyl optionally having a hydroxy group, or an epoxy-modified alkyl group; and each of R2, R3 and R4 independently or simultaneously represents a hydrogen atom or methyl group.
摘要翻译：目的：提供一种用于LCD的黑色抗蚀剂的感光性树脂组合物，其使用通过UV光具有优异的固化性和对基材的粘附性的树脂，从而提供优异的图案形成性，显影性和搁置稳定性。构成：用于LCD的黑色抗蚀剂的碱溶性感光性树脂组合物包含2-10重量％的可溶于碱性水溶液的由下式1表示的酸改性双酚环氧丙烯酸酯树脂。在式1中，R 1由CH 2 = CHC（O）ORCH 2 - 表示，其中R是任选具有羟基的C 1 -C 4烷基或环氧基改性的烷基; R2，R3和R4各自独立地或同时地表示氢原子或甲基。

10. 发明公开

KR1020030000359A 씬너 조성물 失效
标题翻译：薄膜组成
公开(公告)号：KR1020030000359A
公开(公告)日：2003-01-06
申请号：KR1020010036103
申请日：2001-06-23
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박찬석 , 김길래 , 박춘호 , 김경아
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/32 , C11D3/044 , G03F7/168 , G03F7/322 , G03F7/422 , G03F7/423 , G03F7/425
摘要： PURPOSE: A thinner composition is provided, which is used to remove the unnecessary membrane component formed at the edge of a resist membrane coated on a substrate or at the rear face of a substrate without the corrosion of an equipment, and is improved in the resist removing property. CONSTITUTION: The thinner composition comprises 0.1-5 wt% of an organic amine; 0.1-30 wt% of an organic solvent; 0.01-5 wt% of a surfactant comprising an anionic surfactant and a nonionic surfactant; and 60-99 wt% of water. The organic solvent is selected from the group consisting of ethylene glycol phenyl ether, propylene glycol phenyl ether, butylene glycol phenyl ether, diethylene glycol phenyl ether, dipropylene glycol phenyl ether, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N-propylpyrrolidone, N-hydroxymethylpyrrolidone, N-hydroxyethylpyrrolidone and their mixtures. Preferably the ratio of an anionic surfactant and a nonionic surfactant is 1:5 by mass.
摘要翻译：目的：提供更薄的组合物，其用于除去涂覆在基材上的抗蚀剂膜的边缘或基材的背面上形成的不必要的膜组分，而不会使设备腐蚀，并且改进了抗蚀剂删除属性。构成：较薄的组合物包含0.1-5重量％的有机胺; 0.1-30重量％的有机溶剂; 0.01-5重量％的包含阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂的表面活性剂; 和60-99重量％的水。有机溶剂选自乙二醇苯基醚，丙二醇苯基醚，丁二醇苯基醚，二甘醇苯基醚，二丙二醇苯基醚，N-甲基吡咯烷酮，N-乙基吡咯烷酮，N-丙基吡咯烷酮，N-羟甲基吡咯烷酮，N-羟乙基吡咯烷酮及其混合物。阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂的比例优选为1:5质量％。

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