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1. 发明授权

KR101306837B1 텔레센트릭 축상 암 시야 조명으로 구현된 광학 시스템의 사용과 성능의 최적화 有权
标题翻译：光电系统的优化使用和性能实现与电场在线场景照明
公开(公告)号：KR101306837B1
公开(公告)日：2013-09-10
申请号：KR1020087000133
申请日：2006-07-07
申请人： 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드
发明人： 볼드윈,레오 , 에머리,조셉,제이.
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/47 , G01N2021/8822 , G02B13/22
摘要： 반도체 웨이퍼와 같은 평면형 반사성 대상물(102)을 이미징하기 위한 시스템 및 방법이 제공된다. 일 실시예에서, 평면형 반사성 대상물(102) 상의 결함부를 이미징하기 위한 이미징 시스템(100)은, 텔레센트릭 렌즈(110)가 광학 수차에 대해 실질적으로 보정되도록, 충분히 비구면인 표면을 가지는 텔레센트릭 렌즈(110)를 포함한다. 이미징 시스템(100)은 또한 개구를 내부에 포함하여 평면형 반사성 대상물(102)로부터 반사된 광은 차단시키고 결함부로부터 반사된 광은 개구를 통과하게끔 위치되는 텔레센트릭 조리개(116)를 포함한다. 이미징 시스템(100)은 또한 텔레센트릭 조리개(116)와 렌즈 그룹(108) 사이에 위치한 시스템 조리개를 가지는 렌즈 그룹(108)을 포함한다. 이 렌즈 그룹(108)은 텔레센트릭 렌즈(110)와는 독립적인 광학 수차에 대해 실질적으로 보정된다.

2. 发明公开

KR1020080034101A 광원의 평면 어레이에 의해 방출된 수렴 광선을 달성하는 방법 및 장치 有权
标题翻译：实现由光源平台阵列发射的积分光
公开(公告)号：KR1020080034101A
公开(公告)日：2008-04-18
申请号：KR1020077030776
申请日：2006-07-07
申请人： 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드
发明人： 볼드윈,레오
IPC分类号： G01B11/00
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/55 , G01N21/8806
摘要： Systems and methods are provided for achieving convergent light rays (123, 126) emitted by a planar array of light sources (118, 120). In one embodiment, an imaging device (200) is provided for inspecting semiconductors or other objects (116). The imaging device (200) includes one or more imaging lens (112) for imaging light reflected from an object (116). The imaging device (200) also includes a first light source (118) attached to a planar circuit board (212) and a second light source (120) attached to the planar circuit board (212). The imaging device (200) further includes a first Fresnel prism (214) for directing light from the first light source (118) toward the object (116) from a first direction and a second Fresnel prism (216) for directing light from the second light source (120) toward the object from a second direction. In one embodiment, the imaging device (300, 400) also includes one or more optical elements (310, 312, 410, 412) for increasing or decreasing the divergence of the light.
摘要翻译：系统和方法被提供用于实现由光源（118,120）的平面阵列发射的会聚光线（123,126）。在一个实施例中，提供了用于检查半导体或其它物体（116）的成像装置（200）。成像装置（200）包括用于对从物体（116）反射的光成像的一个或多个成像透镜（112）。成像装置（200）还包括附接到平面电路板（212）的第一光源（118）和附接到平面电路板（212）的第二光源（120）。成像装置（200）还包括用于将来自第一光源（118）的光从第一方向引导到物体（116）的第一菲涅尔棱镜（214）和用于引导来自第二光源的第二菲涅耳棱镜光源（120）从第二方向朝向物体。在一个实施例中，成像装置（300,400）还包括用于增加或减少光的发散的一个或多个光学元件（310,312,410,412）。

3. 发明授权

KR101334081B1 광원의 평면 어레이에 의해 방출된 수렴 광선을 달성하는 방법 및 장치 有权
标题翻译：实现由光源平台阵列发射的积分光
公开(公告)号：KR101334081B1
公开(公告)日：2013-11-29
申请号：KR1020077030776
申请日：2006-07-07
申请人： 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드
发明人： 볼드윈,레오
IPC分类号： G01B11/00
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/55 , G01N21/8806
摘要： 광원(118, 120)의 평면 어레이에 의해 방출된 수렴 광선(123, 126)을 달성하기 위한 시스템 및 방법이 제공된다. 일실시예에서, 이미징 디바이스(200)는 반도체 또는 다른 물체(116)를 검사하기 위해 제공된다. 이미징 디바이스(200)는 물체(116)로부터 반사된 광을 이미징하기 위한 하나 이상의 이미징 렌즈(112)를 포함한다. 이미징 디바이스(200)는 또한 평면 회로 보드(212)에 부착된 제 1 광원(118) 및 평면 회로 보드(212)에 부착된 제 2 광원(120)을 포함한다. 이미징 디바이스(200)는, 제 1 광원(118)으로부터의 광을 제 1 방향으로부터 물체(116)쪽으로 향하게 하는 제 1 프레넬 프리즘(214)과, 제 2 광원(120)으로부터의 광을 제 2 방향으로부터 물체쪽으로 향하게 하는 제 2 프레넬 프리즘(216)을 더 포함한다. 일실시예에서, 이미징 디바이스(300, 400)는 또한 광의 발산을 증가 또는 감소시키기 위한 하나 이상의 광학 요소(310, 312, 410, 412)를 포함한다.

4. 发明公开

KR1020080033230A 텔레센트릭 축상 암 시야 조명으로 구현된 광학 시스템의 사용과 성능의 최적화 有权
标题翻译：光电系统的优化使用和性能实现与电场在线场景照明
公开(公告)号：KR1020080033230A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：KR1020087000133
申请日：2006-07-07
申请人： 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드
发明人： 볼드윈,레오 , 에머리,조셉,제이.
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/47 , G01N2021/8822 , G02B13/22
摘要： Systems and methods are provided for imaging a planar specular object (102) such as a semiconductor wafer. In one embodiment, an imaging system (100) for imaging a defect on a planar specular object (102) includes a telecentric lens (110) having a sufficiently aspherical surface such that the telecentric lens (110) is substantially corrected for an optical aberration. The imaging system (100) also includes a telecentric stop (116) including an aperture therein to block light reflected from the planar specular object (102) while allowing light reflected from the defect to pass through the aperture. The imaging system (100) further includes a lens group (108) having a system stop positioned between the telecentric stop (116) and the lens group (108). The lens group (108) is substantially corrected for the optical aberration independent of the telecentric lens (110).
摘要翻译：提供了用于对诸如半导体晶片的平面镜面物体（102）进行成像的系统和方法。在一个实施例中，用于对平面镜面物体（102）上的缺陷成像的成像系统（100）包括具有足够非球面的远心透镜（110），使得远心透镜（110）被基本上校正为光学像差。成像系统（100）还包括远心止动件（116），其包括其中的孔，以阻挡从平面镜面物体（102）反射的光，同时允许从缺陷反射的光穿过孔。成像系统（100）还包括具有位于远心止动件（116）和透镜组（108）之间的系统止动件的透镜组（108）。对于与远心透镜（110）无关的光学像差，基本上校正了透镜组（108）。

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