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    • 2. 发明公开
    • 다공성 메디아를 이용한 가스정화용 유동층 스크러버
    • 使用多孔介质进行气体净化的流化床式清洗机
    • KR1020090072197A
    • 2009-07-02
    • KR1020070140234
    • 2007-12-28
    • 엔텍이앤씨 주식회사삼성엔지니어링 주식회사
    • 정대일최근호최태열백남준황경호최희식임성진신상무이현호남궁경이조영
    • B01D53/02
    • A fluidized bed scrubber for gas purification is provided to offer excellent removal efficiency of gas and a wide operation range compared with a conventional fluidized bed, and to minimize size of the whole system efficiently. A fluidized bed scrubber for gas purification includes a gas introduction portion(1), a washing pipe(2), a droplet removing portion(3), a fluidized bed(4), a gas distributor(41), a first mesh net(42), and a second mesh net(44). The toxic gas purified through the gas introduction portion is flowed into the inside of a container. The fluidized bed is comprised of a plurality of porous media(43). The washing pipe supplies cleaning water to the fluidized bed. The droplet removing portion removes a minute water drop included in exhaust gas passing through the fluidized bed. The gas distributor is installed at a lower part of the fluidized bed, and supports the fluidized bed.
    • 提供了用于气体净化的流化床洗涤器,以提供与常规流化床相比优异的气体除去效率和宽的操作范围,并且有效地使整个系统的尺寸最小化。 用于气体净化的流化床洗涤器包括气体引入部分(1),洗涤管(2),液滴去除部分(3),流化床(4),气体分配器(41),第一网状网 42)和第二网状网(44)。 通过气体导入部分净化的有毒气体流入容器的内部。 流化床由多个多孔介质(43)组成。 清洗管道向流化床提供清洁水。 液滴去除部分除去通过流化床的废气中包含的微小水滴。 气体分配器安装在流化床的下部,并支撑流化床。
    • 4. 发明公开
    • 수처리용 광촉매 담지 무기 중공비드 및 이의 제조방법
    • 用于水处理的无机中空珠涂层光聚合物及其制造方法
    • KR1020150109191A
    • 2015-10-01
    • KR1020140032319
    • 2014-03-19
    • 한양대학교 에리카산학협력단엔텍이앤씨 주식회사
    • 이용우이규영임지현김정철최근호
    • B01J21/06B01J21/08B01J37/04C02F3/10
    • Y02W10/15B01J21/06B01J21/08B01J37/04C02F3/10
    • 본발명에따른수처리용광촉매담지무기중공비드는마이크로미터크기로제조되어비표면적이넓어처리효율이높고, 비중이 0.7 내지 1.1로유동상으로제조되어수처리후 회수가용이한바, 정수, 오ㆍ폐수처리및 재이용시설, 수처리시설중 추가로유기물질의제거가필요한공정등에널리적용될수 있다. 본발명에따른수처리용광촉매담지무기중공비드의제조방법은유기지지체및 접착제를이용하지않고중공형태의무기지지체를졸겔(Sol-Gel) 법을이용하여광촉매를코팅함으로써산화반응시광촉매가탈리되거나지지체및 접착제가분해되는문제점을해결할수 있고, 제조공정이간단할뿐만아니라높은광촉매활성으로인하여수처리분야에서폭넓게응용될수 있다.
    • 本发明涉及一种用于水处理的光催化剂负载型无机中空珠及其制造方法。 根据本发明,用于水处理的光催化剂负载的无机中空珠粒子的制造尺寸为微米,比表面积大,处理效率高。 此外,本发明的比重为0.7-1.1,以流化床的形式制造,并且在水处理后容易回收,从而能够应用于另外除去有机材料的方法 净化水,废水处理,回收设施和水处理设施等设施需要。 根据本发明,用于水处理的光催化剂负载的无机空心珠的制造方法可以解决问题,即当通过涂覆光催化剂进行氧化反应或载体和粘合剂分解时光催化剂的解吸 通过溶胶 - 凝胶法在不使用有机载体或粘合剂的情况下使用中空无机载体。 此外,制造方法具有简单的制造工艺,并且由于高的光催化活性而可广泛应用于水处理领域。
    • 6. 发明公开
    • 유동상 광촉매를 이용한 오폐수 처리장치
    • 使用流化相光催化剂的废水处理设备
    • KR1020150109192A
    • 2015-10-01
    • KR1020140032320
    • 2014-03-19
    • 한양대학교 에리카산학협력단엔텍이앤씨 주식회사
    • 이용우이규영임지현김정철최근호
    • C02F1/32C02F1/467C02F3/10B01J21/06
    • Y02W10/15C02F1/72B01J21/06C02F1/32C02F1/467C02F3/10
    • 본발명의실시예에따른오폐수처리장치는일측면의유입부로부터유입된오폐수및 다수의유동상광촉매를담는처리조; 상기처리조의내부에장착된다수의 UV 램프; 상기유동상광촉매를회수하기위해상기처리조의내측면에이격하여구비된스크린부; 상기스크린부를거쳐분리된처리수를배출하기위해상기처리조의타측면에구비된배출부; 및상기유동상광촉매의유동성을위해상기처리조의바닥면일측에구비된산기관부;를포함한다. 본발명의실시예에따른오폐수처리장치는다수의유동상광촉매를원활하게유동시켜오폐수에대한광분해효율을향상시키고, 스크린부를이용하여유동상광촉매를용이하게회수할수 있는효과가있다.
    • 根据本发明的一个实施方案的废水处理装置包括:放置从一侧表面的入口单元流出的废水和多个流化床光催化剂的处理槽; 安装在处理槽内部的多个UV灯; 屏幕单元,其与处理槽的内表面间隔开以收集流化床光催化剂; 排出单元,其形成在处理槽的另一侧表面上,以排出与筛单元分离的废水; 以及形成在处理槽的下底的一侧上用于流化床光催化剂的流动性的扩散器单元。 根据本发明的一个实施方案的废水处理装置通过平滑流动多个流化床光催化剂来提高废水的光解效率,并且具有使用筛网单元容易地收集流化床光催化剂的作用。
    • 7. 发明公开
    • 악취 가스 제거 방법
    • 消除气味的方法
    • KR1020090097749A
    • 2009-09-16
    • KR1020080026783
    • 2008-03-24
    • 엔텍이앤씨 주식회사
    • 정대일최근호최태열백남준황경호
    • B01D47/00B01D53/34
    • A method for removing bad smell gas is provided to prevent generation of ash or a clogging problem of a rear end by converting OF2 or OCl2 which has difficulty for removing bad smell into Na2SO4. A method for removing bad smell gas includes the following steps. The oxidation bad smell inducted gas is included in exhaust gas generated in a semiconductor treating process. The oxidation bad smell inducted gas is reacted with cleaning water(10) and a reducing agent(6). The acid gas is generated in a by-product of reaction of the oxidation bad smell inducted gas, the cleaning water, and the reducing agent. The acid gas is removed by reacting acid gas with alkaline materials.
    • 提供了一种消除不良气味的方法,以通过转换难以将难闻的气味除去到Na 2 SO 4中的OF2或OCl2来防止产生灰分或后端的堵塞问题。 一种除臭不良气体的方法包括以下步骤。 在半导体处理工艺中产生的废气中包含氧化气味导入气体。 氧化气味导入气体与清洗水(10)和还原剂(6)反应。 酸性气体是由氧化臭气引入气体,清洗水和还原剂的反应产生的副产物。 酸性气体通过酸性气体与碱性物质反应除去。